酸性溶液內金屬的分析的製作方法
2023-06-21 04:17:26 2
專利名稱：酸性溶液內金屬的分析的製作方法
相關申請本申請要求2004年10月5日提交的美國臨時申請No.60/615,817的優先權，其內容在此通過參考引入。
背景技術：
1.發明領域本發明一般地涉及溶液的分析。更具體地，本發明涉及酸性溶液內金屬的分析和檢測。
2.相關現有技術的討論溶液樣品的基體(matrix)對通過現代分析儀器檢測和量化痕量分析物具有突出的影響。例如，酸性基體可妨礙檢測和量化金屬。對於許多不同的分析工具來說，存在檢測、鑑定和/或測量酸性基體內金屬的難度。例如，酸性基體可妨礙檢測和量化離子色譜內的痕量金屬。酸性基體在質譜，例如電感耦合等離子體質譜中也是成問題的。
質譜通常是測量在溶液內十億分之份數(ppb)和亞-ppb水平，例如萬億分之份數(ppt)的元素和化合物所選擇的技術。例如，本發明的受讓人Metara，Inc.開發了自動的進程內(in-process)質譜(IPMS)工具，該工具首先允許使用者，例如半導體製造者檢測和量化溼法工藝浴和清潔溶液中的化學物質。與常規的質譜儀器不同的是，IPMS技術是自動化的，且不要求人的幹預。相反，使用常規的質譜儀，例如電感耦合質譜儀(ICP-MS)要求訓練有素的人的注意。
ICP-MS的使用典型地是「開環」的，因為由使用者首先確立校準曲線。一般地，通過ICP-MS儀器處理感興趣的分析物的逐漸濃縮(或稀釋)的溶液，並記錄結果。例如，可處理10ppm的溶液，然後20ppm的溶液如此等等。在建立這一校準曲線之後，使用者然後可分析感興趣的溶液。通過比較來自分析物的響應與校準曲線，使用者可確定分析物的含量。若例如響應位於10ppm至20ppm校準曲線記錄值之間的一半處，可假設15ppm的量化值。
但ICP-MS工具隨著時間流逝易於發生響應偏移。此外可存在因校準標準基體和樣品基體之間的差別而引起的響應偏移。例如，若酸性基體在組成上變化，則必需反覆校準過程。這些響應偏移可能是快速的，從而要求有經驗的技術人員經常再校準。因此，常規的質譜分析對於要求連續和自動化操作，例如在半導體製造中的應用來說是不合適的。然而，與常規的技術相反，IPMS儀器是「閉環」的，因此沒有響應偏移的缺點。
在IPMS儀器中，處理器控制感興趣的溶液的自動取樣，用校準標準物對樣品進行摻加，電離該摻料樣品，通過質譜儀處理該電離的摻料樣品，產生比值響應(ratio response)，並分析該比值響應，以測定在樣品內分析物的含量。與現有技術的開環技術不同的是，響應偏移不是問題-偏移以相同的方式影響摻料和樣品，因此在比值響應中被消除了。因此，可在不需要人工幹預或者再校準的情況下，實施自動化操作。另外，在一個實施方案中，通過使用大氣壓電離(API)，例如電噴霧來電離摻料樣品，從而確保穩定和可靠的操作。而且，使用API提高分子物種的表徵。此外，IPMS技術可用於分析痕量或者體相濃度。
儘管IPMS技術的新型和有利的性能，但使用這一技術，在檢測和分析酸性基體內的金屬方面仍存在挑戰。而且，這些挑戰還存在於其它分析技術，例如離子色譜法內。酸性基體的一個實例是在半導體製造過程中常用的清潔溶液(它被稱為標準清潔2溶液(SC2)，它是各種比例的鹽酸(HCl)、過氧化氫(H2O2)和水的溶液)。可使用SC2，通過形成可溶的氯化物絡合物，從矽片表面上除去金屬殘渣。在半導體製造中所使用的SC2的最常見比值為1份37％HCl和1份30％H2O2和6份超純水(UPW)。
半導體器件幾何尺寸的連續降低要求對處理溶液，例如SC2內的汙染物的增強的控制。對汙染物的控制是重要的，因為在器件的製造過程中，SC2與電子電路直接接觸。因此，定量測定和監控在新鮮和廢的SC2溶液內的金屬汙染物在例如優化半導體製造產率方面是非常重要的。
由於在高度酸性的SC2溶液內高的質子和氯化物離子基體，非常難以在線測定痕量水平的許多金屬。這一基體妨礙了在分析儀器，例如質譜儀或離子色譜中金屬的分析。例如，由於金屬在電噴霧電離過程中沒有電離，因此相應的質譜儀不可能測量或者檢測它們。而且，即使使用其它類型的電離，例如電感耦合等離子體電離，也不可能在沒有儀器損壞和/或幹擾問題的情況下，將相應的質譜儀置於這一強酸性基體下。因此，在這一基體內分析金屬常常牽涉稀釋基體以降低基體的影響。但稀釋超痕量濃度的金屬傾向於稀釋金屬濃度到無法測量的水平。背景噪音淹沒了稀釋的超痕量濃度，結果質譜儀不可能檢測或者精確地表徵它們。作為替代方案，可在離線工藝中，通過加熱和/或蒸發，消除基體。但揮發性物種，例如硼或汞將損失。而且，它通常要求24-48小時以完成樣品的製備以供在這一情況下分析。因此，在大多數情況下，若檢測到問題，例如在SC2內的雜質，則缺陷產品的處理已經出現了一段時間，結果潛在的損失將變高。
與分析酸性基體所使用的分析工具無關，離線分析的另一問題是從收集開始一直到最後的分析，保持SC2樣品的完整度。例如，典型地在約60℃-約75℃的升高的溫度下，進行SC2清潔，且在這一溫度下，SC2的基體在性質上是動態的，結果SC2中的組分與其它組分連續反應，且可隨著時間流逝和溫度而變化。因此，在樣品到達實驗室以供分析的時刻，樣品不可能在代表性配方內，因為它處在收集時刻。另外，SC2基體是氣載可溶汙染物的強吸收介質，結果若在取樣、運輸或分析過程中的任何階段處，樣品暴露於空氣下，則樣品的基體可能會改變或者被汙染。而且，取樣容器的清潔度是重要的，且大量的時間和金錢花費在清潔取樣容器上。此外，存在於樣品溶液內的金屬可鍍敷(plate out)或吸收在容器壁上。因此，在分析之前，允許在要求容器內靜置的時間和樣品量也可影響分析輸出結果。據報導，甚至最清潔的要求容器可洩漏出許多非所需的汙染物。最後，由於以上所述的原因，離線消除、中和或改性基體通常具有高的汙染危險或者可影響樣品完整度的樣品改性和隨後分析的精度。因此，離線分析酸性基體內的金屬是有問題的。
因此，現有技術中需要改進的檢測和表徵酸性基體內的金屬的技術。
發明概述公開了中和酸性溶液的弱陰離子交換樹脂工藝。金屬可包括金屬陽離子或者金屬絡合物。在這一方法中，使用弱酸性金屬絡合劑活化樹脂。從而樹脂內的一些官能團被質子化，並鍵合到所得金屬絡合劑陰離子上。有利地，活化的樹脂然後中和酸性溶液，使得可檢測或表徵金屬，同時樹脂的活化限制了在活化的弱陰離子交換樹脂內金屬的捕獲、吸收和沉澱。然後可使用強鹼性溶液如氫氧化銨再生活化的樹脂，使得可使用弱陰離子交換樹脂，連續分析酸性溶液的樣品。
根據以下列出的實施方案的詳細說明結合附圖，本發明的這些和其它特徵和優點將更加容易地變得顯而易見。
附圖簡述
圖1示出了SC-2溶液的質譜圖，其中根據常規的稀釋技術降低SC-2溶液的酸性基體。
圖2示出了SC-2溶液的質譜圖，其中根據本發明的實施方案降低SC-2溶液的酸性基體。
圖3是顯示具有根據本發明的實施方案中和酸性基體的裝置的示意圖。
圖4是結合了本發明實施方案的基體消除裝置的IPMS工藝的流程圖。
在不同的附圖中使用相同或類似的參考標記表示相同或類似的物品。進一步注意到附圖可能沒有按比例畫出。
詳細說明現詳細地參考本發明的一個或更多個實施方案。儘管相對於這些實施方案描述了本發明，但應當理解本發明不限於任何特定的實施方案。相反，本發明包括可能落在所附權利要求的精神和範圍內的替代方案、改性和等價方案。此外，在下述說明中，列出了許多具體的細節，以提供本發明全面的理解。可在不具有這些具體細節中的一些或者所有的情況下，實踐本發明。在其它情況下，詳細地描述了公知的結構和操作原理，以避免難以理解本發明。
還應當理解，允許改進酸性溶液內金屬的分析能力的本發明的應用不限於任何一種分析方法。使用或者通過抑制分析物信號，通過基體改性分析物信號，通過損壞儀器或者通過任何其它人為現象，從而通過酸性基體影響的任何一種分析方法將受益於本發明。
用離子交換樹脂處理酸性基體將避免與現有技術分析這種基體內的金屬有關的問題。一般地，在分析或檢測這種基體內的金屬中，使用離子交換樹脂存在許多問題。例如，在樹脂內的活性基團可能吸收金屬。另外，金屬可被捕獲在樹脂孔隙內或者通過與例如氫氧根離子反應而沉澱。另外，金屬可能被氧化，形成沉澱。這一捕獲、吸收和沉澱效果在分析酸性基體內的金屬是相當成問題的。
為了避免採用離子交換樹脂的這些問題，使用弱陰離子交換樹脂中和酸性基體。一般地，離子交換樹脂是其中活性基團共價連接到其上的有機聚合物。取決於這些基團的性能，離子交換樹脂可被分類為陽離子或者陰離子交換樹脂。在陰離子交換樹脂中，共價鍵合到樹脂主鏈上的官能團或者活性基團荷正電，結果它們可交換荷負電的抗衡離子(陰離子)。取決於活性基團的鹼度，可將陰離子交換樹脂分類為弱或者強陰離子交換樹脂。正如名稱所暗含的，在弱陰離子交換樹脂內的活性基團是弱(而不是強)鹼性的。一般地，弱陰離子交換樹脂使用叔胺或多胺作為官能團，但要理解，也可使用具有足夠弱的鹼度(和合適地共價鍵合到該樹脂上)的許多其它官能團或活性基團。
為了形成離子交換柱，將弱陰離子交換樹脂封裝在合適的柱子，例如獲自PEEK由PFE管制造的柱子內。或者，不需要使用柱子的應當需要是間歇操作模式。在間歇模式中，樹脂僅僅需要包含在合適的容器內。為了避免與通過離子交換樹脂捕獲、吸收和/或沉澱金屬有關的問題，首先用弱酸性金屬絡合劑的溶液活化弱陰離子交換樹脂。此處所使用的「弱」酸性金屬絡合劑是指這樣的試劑，即其pKa與交換樹脂內的官能團的pKa的關係使得在暴露於該弱酸性金屬絡合劑下之後，大部分官能團保持未質子化。
與活化樹脂所使用的特定的弱酸性金屬絡合劑無關，所得活化樹脂具有一部分質子化的官能團。這一質子化要求弱酸性金屬絡合劑解離，從而導致形成金屬絡合陰離子和質子化的官能團。這一陰離子對質子化的官能團(例如，質子化的叔胺)具有一定的鍵合親和力，這是本領域已知的。
然後可使用活化樹脂降低在酸性溶液內的基體。為了中和基體內的酸，活化樹脂應當具有充足數量的未質子化官能團。例如，如前所述，SC2溶液包括鹽酸(HCl)作為成分。由於鹽酸是相對強的酸，因此它使在樹脂內通過弱酸性陽離子絡合劑處理之後保留的基本上所有非質子化的官能團質子化。這些質子化的官能團然後鍵合到由HCl化合物給出質子形成的氯化物陰離子上。從柱子中洗脫出的所得處理過的SC2溶液因此基本上為pH中性，HCl分子鍵合到該樹脂內的官能團上。應當注意，不需要完全除去酸性基體以便能檢測或表徵金屬-所需的基體除去程度取決於處理中和的基體所使用的特定分析儀器。此處所使用的「中和」應當不是指pH7.0，而是對於相關分析來說，質子濃度可以忍受時的pH。例如，若所需基體中和到pH剛剛為6.5，則給定的分析工具能相當精確地檢測金屬。
對於分析或檢測酸性基體內的金屬，活化樹脂的合適的有機和無機弱酸性金屬絡合劑包括甲酸、乙酸、草酸、羥基乙酸、乙二胺四乙酸(EDTA)、硝基三乙酸(NTA)、二亞乙基三胺五乙酸(DTPA)、乙二胺(EDA)、甘氨酸和亞氨基二乙酸(IDA)。例如，可使用乙酸活化用弱陰離子交換樹脂填充的柱子。由於金屬絡合劑的弱酸度，因此認為將質子化樹脂內僅僅相對小百分數的官能團。這些荷正電的官能團(例如荷正電的叔胺)然後可吸收或者鍵合在通過弱酸性金屬絡合劑給出質子之後形成的金屬絡合陰離子。
注意人們可通過用弱陰離子交換樹脂填充的柱子簡單地洗脫酸性溶液來降低強酸性基體內非所需質子的水平。但是要想到前面討論的問題，例如金屬保留和捕獲、沉澱和氧化，這些問題將在檢測和量化痕量金屬濃度方面引起非所需的記憶效果和其它誤差。若在沒有任何其它處理的情況下，簡單地使用陰離子交換樹脂消除酸性基體，則仍然保留了這些痕量金屬分析的問題。然而，通過用弱酸性金屬絡合劑初始活化樹脂，使得痕量金屬的分析能夠進行。認為這一處理在樹脂內留下相對小百分數的已經質子化且與所得金屬絡合陰離子締合的官能團。認為與在SC2溶液內的氯化物陰離子相比，這一金屬絡合陰離子對質子化的官能團具有較弱的鍵合親和力。因此，氯化物陰離子與金屬絡合陰離子交換。大多數金屬絡合陰離子因此與SC2溶液內的剩餘質子結合，形成非電離的金屬絡合劑，這是因為在溶液內的弱酸本體沒有解離成質子和陰離子。解離的這些金屬絡合劑陰離子然後自由地與金屬絡合併穩定金屬。有利地，金屬絡合陰離子，例如乙酸根與金屬的絡合是弱鍵合(soft bond)，結果即使在相對溫和的電離工藝，例如電噴霧電離中它也容易解離。而且，由於金屬絡合劑為弱酸性，因此pH保持基本中性，例如pH 6.7。
進一步認為，弱酸性金屬絡合劑除了絡合所處理溶液內的金屬以外，還提供進一步的優勢。例如，弱陰離子交換樹脂典型地具有分配在整個樹脂當中的某些濃度的氫氧根離子。例如，儘管叔胺金屬為弱鹼性，但它為鹼性，因此傾向於用水分子電離，以便叔胺質子化，並產生氫氧根陰離子。然而，在處理酸性基體之前，用弱酸性金屬絡合劑活化弱陰離子交換樹脂將從樹脂中消除這些氫氧根離子。相反，考慮到可能發生的情況，樹脂不應當用弱酸性金屬絡合劑活化。當酸性基體流動到這種未活化樹脂柱內時，在柱子入口端附近的任何氫氧根離子將通過酸性基體消除。然而，當基體繼續流動通過柱子，結果在柱子的出口端的溶液具有很少酸度時，基體繼續被中和。因此，氫氧根離子在樹脂內的出口端附近仍然存在。這些氫氧根離子於是可獲得與金屬反應，從而引起沉澱和妨礙檢測和/或表徵痕量金屬的能力。
與弱酸性金屬絡合劑的功能無關(不管它是絡合金屬或者減少氫氧根離子中的一種或者這二者的結合)，通過活化弱陰離子交換樹脂實現的優勢是顯著的。例如，圖1示出了由常規的稀釋分析SC-2溶液得到的質譜。為了降低基體影響稀釋1000倍SC-2，然後用10ppb校準標準物(Ni、Cu和Zn)和10ppb IDMS摻料進行摻加。然後由質譜儀電噴霧電離和處理所得樣品。檢查圖1表明金屬的光譜響應沒有超過10000的幅度。相反，圖2示出了採用相同的校準標準物和摻料情況下，SC-2溶液的質譜。然而，通過活化的弱陰離子交換樹脂柱處理加料的SC-2樣品，而不是稀釋起始的SC-2樣品1000倍以降低基體。然後通過與圖1所使用的相同的質譜儀(採用相同的調諧)，電噴霧電離和處理所得樣品。有利地，與圖1的現有技術的稀釋技術相比，圖2所示的對於金屬的光譜響應增加至少10倍。
在已經處理了SC2溶液的情況下，弱陰離子交換樹脂容易用合適的強鹼，例如氫氧化銨、氫氧化鈉或甲胺再生。在陰離子交換樹脂的再生中，質子化的鹼性位點返回其中性的基本狀態。例如，質子化的叔胺一旦再生將被還原為中性狀態。然後可通過用備用的弱酸性金屬絡合劑處理，中和酸性基體的另一樣品，同時穩定痕量金屬，從而再活化再生柱。
正如本領域所已知的，弱陰離子交換樹脂中的聚合物主鏈可基於合成聚合物，例如苯乙烯-二乙烯基苯共聚物、丙烯酸、多糖或許多其它合適的聚合物。弱陰離子交換樹脂通常以珠粒形式供應，所述珠粒可以是緻密(凝膠樹脂)或者多孔(大孔樹脂)的。此處公開的金屬對珠粒的特定形式相對不敏感。
現參考圖3，示出了具有用弱陰離子交換樹脂305填充的柱子300的例舉的基體消除裝置301。選擇閥310選擇溶液進入柱子300。例如，若柱子300已經完成了消除酸性基體，則通過控制選擇閥310來選擇合適的鹼例如稀釋的氫氧化銨水溶液320(例如，2.0M溶液)，從而再生它。泵325然後可泵送氫氧化銨溶液320進入柱子300內。然後可控制選擇閥310，以選擇合適的弱酸性金屬絡合劑，例如稀釋的乙酸溶液330。泵335然後可泵送稀釋的乙酸溶液330進入柱子300，以活化樹脂305。
具有強酸性基體的溶液340例如其中希望表徵痕量金屬的SC2溶液可以使用摻料350來進行摻加，並在容器355內平衡。摻料的性質取決於進行分析的類型。例如，在IDMS技術中，摻料將改變待檢測或表徵的分析物的同位素之比。或者，在內標技術中，摻料將含有待檢測或表徵的分析物的同系物。在任何一種情況下，摻料具有已知的濃度，以便可使用比值測量結果(ratio measurement)來表徵分析物(感興趣的金屬)。然後可打開三通閥360，以允許泵，例如注射泵365引入容器355內的一部分平衡的摻料樣品。然後可控制三通閥360和選擇閥310，以便允許泵365泵送引入的部分到柱子300內。來自柱子300的處理過的摻料樣品於是消除了其酸性基體並穩定了痕量金屬。然後可在相應的分析儀器，例如質譜儀(未示出)內表徵痕量金屬。為了防止在再生和活化過程中來自柱子300的流出液起到進入分析儀器的作用，可選擇在柱子300的出口處的閥門，例如三通閥375以供在這些作用過程中排放。然而當處理過的樣品從柱子300中流出時，將選擇用於分析儀器的三通閥375。可視需要例如在活化操作之後，用超純水(UPW)370衝刷柱子300。按照這一方式，可在沒有更換柱子300的情況下，每天連續24小時分析樣品340達數月之久。在一個實例中，可檢測在pH＜2的5％H2SO4內範圍為10ppb(十億分之份數)的痕量金屬Na+、Ca+2、Cu+2。為了形成柱子，將5.6g游離鹼形式的弱陰離子交換樹脂裝填在2″×0.2″PEEK管內。然後通過使10ml 0.5M乙酸流過柱子，從而活化該樹脂。然後用UPW從柱子中洗出過量的乙酸。然後通過活化的樹脂床處理2ml樣品基體。在接近中性的pH6.7下，處理過的樣品基體從柱子中洗脫出，這可通過任何分析儀器來測試。
如上所述，IPMS技術允許自動分析在液體和氣體溶液內的痕量汙染物和成分這二者。在2002年2月28日提交的U.S.序列號10/086025中公開了用於痕量分析的例舉的IPMS工具，其內容在此通過參考引入。在U.S.序列號10/086025中公開的機器控制器容易被改性，以控制基體洗出裝置，例如相對於圖3所述的裝置。所得IPMS工藝流程如圖4所示。在步驟400中，從例如工藝溶液中提取樣品。摻料常常在ppb濃度範圍內不穩定，然而應當與待表徵的金屬離子的濃度大致相同。因此，步驟400還包括稀釋摻料，正如在U.S.序列號10/086025中所討論的。所得摻料和提取的樣品然後可例如相對於圖3所討論的在步驟405中消除其酸性基體。然後在步驟410中，可在質譜儀內，電噴霧電離和處理處理過的摻料樣品。在步驟415中，分析來自質譜儀的比值響應，以測定在樣品內的痕量金屬離子的濃度。
本發明以上所述的實施方案僅僅是例舉，而不是限制。在較寬的方面來說，可在沒有脫離本發明的情況下，作出各種變化和改性。因此，所附的權利要求包括落在本發明的真實精神和範圍內的所有這些改變和改性。
權利要求
1.使用弱陰離子交換樹脂中和含至少一種金屬的酸性溶液的基體的方法，該方法包括用弱酸性金屬絡合劑活化弱陰離子交換樹脂，該弱酸性金屬絡合劑部分解離成質子和金屬絡合陰離子，由此在弱陰離子交換樹脂內的一些官能團被質子化並與金屬絡合陰離子鍵合；和用活化的弱陰離子交換樹脂中和酸性溶液樣品。
2.權利要求1的方法，進一步包括在中和作用之後，用強鹼性溶液再生弱陰離子交換樹脂。
3.權利要求2的方法，其中強鹼性溶液是氫氧化銨。
4.權利要求1的方法，其中弱酸性金屬絡合劑選自甲酸、乙酸、草酸、羥基乙酸、乙二胺四乙酸(EDTA)、硝基三乙酸(NTA)、二亞乙基三胺五乙酸(DTPA)、乙二胺(EDA)、甘氨酸和亞氨基二乙酸(IDA)。
5.權利要求1的方法，其中官能團選自仲和叔胺。
6.權利要求1的方法，進一步包括對樣品進行摻加；和對摻料樣品取樣，以產生酸性溶液的樣品。
7.權利要求6的方法，進一步包括電離中和的樣品；和在質譜儀內處理電離的中和樣品，以表徵至少一種金屬的濃度。
8.權利要求7的方法，其中電離作用包括電噴霧電離中和的樣品。
9.權利要求1的方法，進一步包括使用選自離子色譜法、毛細管電泳、比色法、原子吸收、螢光、電感耦合等離子體質譜、光吸收和電感耦合等離子體-發射光譜法(ICP-OES)中的方法，分析中和的樣品中至少一種金屬的濃度。
10.基體消除裝置，它包括用弱陰離子交換樹脂填充的柱子；和至少一個選擇閥，其中構造所述至少一個選擇閥，以在弱酸性金屬絡合劑源和含至少一種痕量金屬的酸性溶液源之間選擇，以便弱酸性金屬絡合劑和酸性溶液可按序流經柱子，從而中和酸性溶液。
11.權利要求10的基體消除裝置，其中進一步構造所述至少一個選擇閥，以選擇用於再生弱陰離子交換樹脂的鹼性溶液。
12.權利要求11的基體消除裝置，進一步包括為表徵在中和的溶液內至少一種金屬的濃度而構造的分析儀器。
13.權利要求12的基體消除裝置，其中分析儀器包括交換色譜柱。
14.權利要求12的基體消除裝置，其中分析儀器包括質譜儀。
15.權利要求14的基體消除裝置，進一步包括電噴霧電離器，用以電離引入到質譜儀內的中和的樣品。
16.表徵酸性溶液內至少一種金屬的方法，該方法包括對酸性溶液取樣；對樣品進行摻加；用選自甲酸、乙酸、草酸、羥基乙酸、乙二胺四乙酸(EDTA)、硝基三乙酸(NTA)、二亞乙基三胺五乙酸(DTPA)、乙二胺(EDA)、甘氨酸和亞氨基二乙酸(IDA)中的弱酸性金屬絡合劑活化弱陰離子交換樹脂；用活化的弱陰離子交換樹脂中和摻料樣品；和使用比值測量結果，表徵中和的摻料樣品內至少一種金屬的濃度。
17.權利要求16的方法，其中表徵作用包括電離中和的摻料樣品成離子；使用質譜儀由離子獲得質譜，其中由質譜形成比值測量結果。
18.權利要求17的方法，其中電離作用包括電噴霧電離。
19.權利要求16的方法，其中酸性溶液包括半導體處理溶液。
20.權利要求19的方法，其中半導體處理溶液包括SC2。
全文摘要
在一個實施方案中，提供使用弱陰離子交換樹脂中和含至少一種金屬的酸性溶液的基體的方法。該方法包括下述步驟用弱酸性金屬絡合劑活化弱陰離子交換樹脂，該弱酸性金屬絡合劑部分分解成質子和金屬絡合離子，由此在弱陰離子交換樹脂內的一些官能團被質子化，並與金屬絡合陰離子鍵合；和用活化的弱陰離子交換樹脂中和酸性溶液的樣品。
文檔編號G01N21/00GK101084426SQ200580040264
公開日2007年12月5日 申請日期2005年9月30日 優先權日2004年10月5日
發明者H·K·塞尼 申請人:美塔萊公司