光敏組合物、轉印材料、遮光膜及其製備方法、顯示裝置用濾色器、顯示裝置用襯底和顯示裝置的製作方法

2023-06-29 01:17:16 1

專利名稱：：光敏組合物、轉印材料、遮光膜及其製備方法、顯示裝置用濾色器、顯示裝置用襯底和顯示裝置的製作方法光敏組合物、轉印材料、遮光膜及其製備方法、顯示裝置用濾色器、顯示裝置用襯底和顯示裝置發明背景1.發明領域本發明涉及一種優選用於製備安置在顯示裝置如等離子體顯示裝置、EL顯示裝置和CRT顯示裝置中的遮光膜的光敏組合物、使用該光敏組合物的轉印材料、遮光膜及其製備方法；顯示裝置用濾色器；顯示裝置用襯底和顯示裝置。2.相關技術的描述在裝置比如液晶顯示裝置、等離子體顯示裝置、EL顯示裝置和CRT顯示裝置內，顯示裝置用遮光膜以黑邊緣、像素周圍的點陣圖案、條狀黑邊緣(所謂黑底)、點圖案或線性黑圖案形式，被安置作為用於薄膜電晶體(TFT)的遮光。例如，黑底是構成液晶顯示等的遮光膜的實例。為了防止由於光洩漏通過在像素之間的空間而引起的對比度下降，通常安置黑底，以使其圍繞著裝備在液晶顯示裝置內的濾色器的每一個有色像素(紅色、綠色或藍色像素)。另一個實例是在使用TFT並且使用有源矩陣尋址法的液晶裝置中，裝備在TFT上的遮光膜，以防止圖像質量因被光引起的來自TFT上的電流洩漏而劣化。遮光膜通常需要光密度為2以上的遮光性能，並且從顯示裝置的顯示圖像的質量考慮，遮光膜優選為黑色的。有人提出了使用金屬製備具有高遮光性能的遮光膜。例如，提出的方法包括通過真空沉積或濺射製備金屬薄膜；通過將光致抗蝕劑塗布在金屬薄膜上以形成光致抗蝕劑膜；使用圖案掩模(光掩模)將該光致抗蝕劑膜曝光以形成遮光膜；將曝光的光致抗蝕劑膜顯影；蝕刻曝光的薄膜；以及將光致抗蝕劑膜從金屬薄膜上剝離(參見，例如，彩色TFT液晶顯示(Co/w7Frh'^WO^to/Lfep/ay」，218-220頁，由KyoritsuShuppan股份有限公司於1997年4月10日出版)。有一種技術是使用炭黑形成具有低反射率的遮光膜(例如，參見日本專利申請公開(JP-A)62-9301)。這種遮光膜是通過如下步驟獲得的膜將含有炭黑的光敏樹脂組合物塗敷到襯底上，將該組合物乾燥，將所得膜曝光以及將該膜顯影。然而，由於相對於金屬，其每單位量的光密度低，因此不可避免地增加遮光膜的厚度，以確保高的遮光性能和光密度。因此，當形成遮光膜之後形成紅、藍和綠色的像素時，容易產生空氣氣泡，或難於獲得均勻像素。在另一種方法中，通過無電沉積形成了含有鎳細粒的黑底(例如，參見JP-A7-218715)。然而，由於這種方法只獲得平均粒子直徑為30nm以下的粒子，因此難於獲得完美的黑色色調或難於獲得厚度為0.5pm的薄膜。而且，由於在製備過程中使用了電鍍液體，因此這種方法給環境帶來了沉重的負擔。鑑於上述方法和技術，有人提出了使用含有金屬粒子的組合物或使用轉印材料形成遮光膜的技術(例如，參見JP-A2004-240039)。這種技術可以解決諸如上述的產生空氣氣泡、難於形成均勻像素、成為差的黑色色調以及給環境帶來巨大負擔之類的問題，並且可以獲得具有高的光密度和反射率的薄遮光膜。然而，儘管由於使用了金屬薄膜而甚至在膜厚度薄的情況下也獲得了高的遮光作用，但是由於真空沉積法如氣相沉積和濺射或蝕刻法是必需的，因而生產成本昂貴。此外，具有高的反射率的金屬薄膜使顯示對比度在外部光下低。儘管在一種技術中使用了利用低反射鉻膜(比如包含金屬鉻層和氧化鉻層的兩層膜)的現有技術，但是不可否認的是生產成本進一步增加。將鉻用於這種膜還可以對環境帶來了沉重的負擔。當使用含有金屬粒子的組合物或轉印材料時，所獲得的遮光膜具有反射率在較高的溫度增加的特性。由於為製備濾色器通常使用被稱為烘焙處理的高溫處理，因此近年來在需要高質量圖像的濾色器中，需要烘焙不引起反射率增加的遮光膜。發明概述本發明是鑑於上述問題而完成的。本發明的第一方面提供一種光敏組合物，所述光敏組合物包含含有合金部分和單體的粒子，其中所述光敏組合物形成膜之後，所述膜按每l^m幹膜厚度計具有2.0以上的光密度。本發明的第二方面是提供一種轉印材料，所述轉印材料包含臨時載體和安置在臨時載體上的光敏層，其中所述光敏層包含在臨時載體上的第一方面的光敏組合物。本發明的第三方面提供一種遮光膜，所述遮光膜通過將第一方面的光敏組合物塗敷到襯底上而形成。本發明的第三方面提供一種遮光膜，所述遮光膜通過將第二方面的轉印材料的光敏層轉移到襯底上而形成。本發明的第五方面提供一種顯示裝置用襯底，所述顯示裝置用襯底包含第三或第四方面的遮光膜。本發明的第六方面提供一種顯示裝置用濾色器，所述顯示裝置用濾色器包括第五方面的顯示裝置用襯底。本發明的第七方面提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包含第六方面的顯示裝置用濾色器。本發明的第八方面提供一種用於製備遮光膜的方法，所述方法包括通過將第一方面的光敏組合物塗敷到襯底上，然後乾燥塗敷的光敏組合物，形成光敏層；通過將所述光敏層進行成圖案式曝光，然後將曝光的光敏層顯影，形成有圖案的圖像；將有圖案的圖像在150。C或更高的溫度進行5分鐘以上的熱處理。本發明的第九方面提供一種用於製備遮光膜的方法，所述方法包括將第二方面的轉印材料的光敏層轉移到襯底上；通過將轉移的光敏層進行成圖案式曝光，然後將曝光的光敏層顯影，形成有圖案的圖像；以及將有圖案的圖像在150。C或更高的溫度進行5分鐘以上的熱處理。本發明的第十方面提供一種遮光膜，所述遮光膜通過第八方面的方法製備。本發明的第十一方面提供一種遮光膜，所述遮光膜通過第九方面的方法製備。本發明提供光敏組合物，所述光敏組合物賦予薄膜優異的遮光性能(具有高的光密度)，並且作為加熱結果的反射率增加小，對環境的負擔降低；轉印材料；遮光膜及其製備方法；顯示裝置用襯底；能夠顯示具有高對比度的亮圖像的顯示裝置用濾色器；以及顯示裝置。發明詳述以下將詳細描述本發明的光敏組合物，同時在本說明書中還列出轉印材料、遮光膜及其製備方法；顯示裝置用濾色器；顯示裝置用襯底和顯示裝置的細節。本發明的光敏組合物包含含有合金部分和單體的粒子，其中所述光敏組合物形成膜之後，該膜按每lpm幹膜厚度計具有2.0以上的光密度。本發明的光敏組合物可以任選包含其它組分，比如粘合劑聚合物、光聚合引發劑、分散劑和分散介質。在此處使用的膜的乾燥厚度是指在本發明的光敏組合物被塗敷到襯底上之後的膜厚度並且是按如下測量出的。通過將光敏組合物塗敷到襯底(例如，PET或玻璃襯底)上，並且將該組合物通過在100°C以下的熱空氣吹掃而進行乾燥，使得殘留溶劑的量為2質量％以下，從而形成具有光敏樹脂層的光敏材料。用測量裝置比如接觸表面粗糙度計(商品名Pl，TENKOR製造)測量光敏材料的厚度。然後，測量將光敏樹脂層從襯底上完全移除之後的襯底的厚度，將這兩個測量值之差定義為幹膜的厚度。通過氣相色譜-質譜測量殘留溶劑的量。由於採用含有合金部分的粒子作為在本發明的光敏組合物中的著色劑，因此獲得具有高光密度的薄膜。該膜的色調(特別是黑色調)優異，同時作為熱處理結果的反射率增加小。該光敏組合物還具有對環境的良好相容性，對環境造成的負擔小。由於所形成的膜按每1lam幹膜厚度計具有2.0以上的光密度，因此即使當膜薄時，本發明的光敏組合物也能夠確保高的光密度。理想的是按每lpm幹膜厚度計的光密度更高，優選3.0以上的光密度，更優選4.0以上的光密度。在這個範圍內的光密度對於確保良好的顯示質量和高的對比度是有效的。含有合金部分的粒子本發明的光敏組合物包含至少一種含有合金部分的粒子(下文中，可以稱作"含有合金部分的粒子")。使用含有合金的金屬粒子作為著色劑，能夠形成薄膜和高密度的圖像。本發明的組合物對於形成遮光圖像(包括黑底)是特別有效的。含有合金部分的粒子包括含有合金部分的金屬粒子以及含有合金部分的金屬化合物粒子。優選含有合金部分和金屬部分的粒子作為含有合金部分的粒子。所述合金在由IwanamiShoten於1998年出版的Iwanami科學詞典、第五版的第447頁中"合金"中有描述，並且包括由多種金屬構成的固溶體、共晶、化合物和金屬間化合物。在金屬粒子中的金屬還指在由IwanamiShoten於1998年出版的Iwanami科學詞典、第五版的第352頁中"金屬"中描述的金屬。"金屬化合物"是指金屬與金屬之外的元素形成的化合物，並且此處使用的金屬是在金屬粒子中的金屬的同義詞。通過使用例如能量分散X-射線分析儀(商品名HD-2300,日立公司製造；EDS:商品名，Noran製造)在200kV的加速電壓下，在各個粒子的15nm平方區域內的光譜測量，可以證實根據本發明的至少一部分含有合金部分的粒子由合金構成的事實。在金屬中，優選在長周期元素表中的第m至ivx族中的金屬，並且優選金、銀、銅、鈀、鎢、鈦和錫。從安全和成本考慮，它們中特別優選銀和錫。含有合金部分的粒子的合金部分優選包含選自這些金屬中的多種金屬。金屬與金屬之外的元素形成的化合物的實例包括金屬的氧化物、硫化物、硫酸鹽和碳酸鹽。從顏色和形成粒子的容易性考慮，它們中特別優選硫化物。金屬化合物的實例包括氧化銅(II)、硫化鐵、硫化銀、硫化銅(II)和鈦黑(titaniumblack)。從顏色和形成粒子的容易性考慮，它們中特別優選硫化銀。金屬化合物粒子包括下列粒子(1)金屬化合物的粒子；(2)兩種以上金屬化合物粒子的複合物的粒子；以及(3)金屬粒子和金屬化合物粒子構成的粒子。兩種以上金屬化合物粒子的複合物的粒子的具體實例包括硫化銅和硫化銀的複合粒子、硫化鐵和硫化銀的複合粒子以及氧化銅(II)和硫化鐵的複合粒子。金屬粒子和金屬化合物粒子構成的粒子的具體實例包括銀和硫化銀的複合粒子、銀和氧化銅(II)的複合粒子以及鈀和硫化鈀的複合粒子。複合粒子的形狀沒有特別的限制，其實例包括在粒子的內部和表面之間具有不同組成的粒子，以及含有結合在一起的兩種粒子的粒子。根據本發明的含有合金部分的粒子的直徑沒有特別限制，但是粒子的數均直徑優選為60至3000nm，更優選為70至2000nm，特別優選為80至200nm。當數均粒子直徑在上述範圍內時，可以獲得優異的顏色(尤其是黑色調)和分散性。具體地，相對於該顏色，優選數均粒子直徑為60nm以上的金屬化合物的粒子(不是複合粒子)。粒子直徑的分布沒有特別的限制。使用由透射電子顯微鏡(商品名JEM-2010，由JEOL公司生產)拍攝的照片，按如下測量數均粒子直徑。首先，選取100個粒子，將面積與各個粒子圖像相等的圓的直徑定義為粒子直徑，並且將該IOO個粒子的直徑的平均值定義為數均粒子直徑。在200kV的加速電壓下，所述照片以1x105的放大倍數拍攝。為了達到需要的光密度，本發明的含有合金部分的粒子應當是有色的。"有色"粒子是光吸收波長在400至700nm範圍的粒子。有色金屬化合物的優選實例包括硫化銀、硫化銅、硫化鐵、硫化鈀、氧化銀和鈦黑。本發明的含有合金部分的形狀沒有特別限制。可以使用具有球形、無定形、片狀、立方、規則八面體和柱形形狀的粒子。除單獨使用它們中的一種之外，必要時，可以通過將多種粒子混合來使用根據本發明的含有合金部分的粒子。本發明的含有合金部分的粒子的製備方法沒有特別限制，該方法的實例包括已知的方法，比如氣相法，包括蒸發濃縮法和氣相還原法，以及液相法，包括液相還原法。這些方法例如在粒子的技術和應用中的新趨勢II(TVe衡W7>*eM(5&〖"7^c/zwo/og7'es々;/z.c""'om1o/(日文；在2002年由SumibeTechnoResearch公司出版)中有描述。還原法的優選實例包括使用還原劑的方法和電解還原法。鑑於獲得細粒，優選使用還原劑的方法。還原劑的實例包括氫醌、兒茶酚、對氨基苯酚、對-苯二胺和羥基丙酮。它們中優選羥基丙酮，因為它容易蒸發，並且對顯示裝置沒有不利影響。根據體積分數計，根據本發明的含有粒子的粒子在光敏組合物中的含量優選在5至70%的範圍，更優選在10至50%的範圍。當體積分數在上述範圍時，粒子在光敏組合物中表現出優異的分散穩定性，並且可以獲得具有高的光密度的薄膜。本發明的光敏組合物被有效地用於形成具有足夠的光密度並且厚度為1iam以下的膜。"體積分數"是指粒子的總體積相對於光敏組合物的總體積或相對於所形成薄膜的總體積的比率。單體光敏組合物含有至少一種單體。當進行聚合時，單體是構成聚合樹脂(聚合物化合物)的組分。除了單體組分之外，還可以使用低聚物組分。將本發明的光敏組合物構成使得根據本發明的含有合金部分的粒子分散在通過用於形成膜的單體的聚合而形成的聚合物中。單體含有烯屬不飽和雙鍵，並且可以通過使用光的加成聚合進行聚合。優選單體的實例包括多官能丙烯酸單體，比如乙二醇(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、1,4-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯和二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。還可以使用通過將這些單體部分聚合形成的低聚物。優選將本發明的光敏組合物形成光敏可聚合組合物，所述光敏可聚合組合物有利的是含有單體(必要時，和低聚物)以及光聚合引發劑和粘合劑(聚合物)的光敏樹脂組合物。還可以包含其它組分。光敏樹脂組合物包括可用鹼性水溶液顯影的光敏樹脂組合物和可以用有機溶劑顯影的光敏樹脂組合物。從安全和成本考慮，優選能夠用鹼性水溶液顯影的樹脂組合物。光聚合引發劑光聚合引發劑沒有特別的限制，只要它能夠使單體聚合即可，並且其實例包括在JP-ANo.2004-347831的第段中描述的化合物以及在JP-ANo.11-133600中描述的聚合引發劑C。具體地，優選滷代甲基-S-三嗪化合物，比如二[4-[N-[4-(4，6-二(三氯甲基)-S-三嗪-2-基)苯基]氨基甲醯基]苯基]癸二酸酯(cebacate)。通過使用這樣的化合物作為光聚合引發劑，可以優選將本發明的光敏組合物應用於光聚合體系。當光敏組合物含有光聚合引發劑時，相對於組合物的總固體含量，光聚合引發劑在光敏組合物中的含量通常在0.5至20質量％的範圍內，優選在l至15質量Q/。的範圍內。粘合劑粘合劑的實例包括聚乙烯醇、明膠、纖維素聚合物如甲基纖維素以及通過將甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸、甲基丙烯酸和苯乙烯聚合而製備的丙烯酸或苯乙烯丙烯酸類聚合物。它們中，通過將丙烯酸和甲基丙烯酸聚合而製備的聚合物是優選的，並且由於形成圖案是優選的，含有丙烯酸和/或甲基丙烯酸的鹼溶性丙烯酸類聚合物或者苯乙烯-丙烯酸類聚合物是優選的，原因是它們都可以通過鹼顯影而形成圖案。以丙烯酸和甲基丙烯酸的總量計，丙烯酸和甲基丙烯酸在丙烯酸類聚合物或苯乙烯-丙烯酸類聚合物中的比例優選為10至60質量％，更優選為20至50質量％。丙烯酸和甲基丙烯酸類聚合物的具體實例包括甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(=60/40，質量比；以下相同)共聚物、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸(=10/60/30)共聚物、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸/甲基丙烯酸(=20/50/15/15)共聚物、甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸(=38/37/25)共聚物和苯乙烯/丙烯酸/甲基丙烯酸(=60/20/20)共聚物。當組合物含有粘合劑時，相對於組合物的總固含量(質量標準)，粘合劑在光敏組合物中的含量優選在20至50質量％、更優選在25至45質量%的範圍內。其它組分必要時，使用下面描述的其它組分比如已知的分散劑、分散介質、顏料、表面活性劑，可以有利地製備本發明的光敏組合物。分散劑為了提高粒子的分散穩定性，可以添加分散劑，以製備出本發明的光敏組合物。分散劑的實例包括聚乙烯醇、丙烯醯胺/丙烯酸共聚物、苯乙烯/馬來酸酐共聚物、聚丙烯酸鈉和藻酸鈉。分散劑在顏料分散技術(日文，1999年由KazuhiroTakasu出版，技術信息研究院股份有限公司(TechnicalInformationInstituteCo.,Ltd.)1999)中有描述。它們中，特別優選疏水性分散劑。分散穩定劑可以將分散穩定劑用於本發明的光敏組合物。可以使用在顏料分散技術(日文，1999年由技術信息研究院股份有限公司出版)所述的適宜分散穩定劑。分散介質可以使用分散介質製備本發明的光敏組合物。分散介質沒有特別的限制，可以使用水或有機溶劑。有機溶劑的優選實例包括甲醇、乙醇、正丙醇、異-丙醇(l-propylalcohol)、甲基乙基酮、丙酮、甲苯、二甲苯、二甲基氨基乙醇和二丁基氨基乙醇。顏料可以使用黑色顏料比如炭黑作為顏料。相對於上述含有合金部分的粒子，顏料的添加量優選為50質量％以下，特別優選為30質量％以下。當顏料的添加量超過50質量％時，獲得所需光密度所必要的遮光膜的厚度增加，並且在遮光膜上形成的紅色、藍色和綠色像素的質量可能退化。可以添加藍色顏料和除黑色顏料之外的其它顏料，以調節感知的彩色色調。相對於含有合金部分的粒子，除黑色顏料之外的顏料的添加量優選為40質量％以下，更優選為20質量°/。以下。當顏料的添加量超過40質量%時，形成膜之後膜中的感知彩色色調可能退化。表面活性劑可以將表面活性劑添加到本發明的光敏組合物中，以提高粒子的可應用性和分散穩定性。可利用的表面活性劑沒有特別限制，包括非離子、陰離子和陽離子表面活性劑。從溶液的穩定性考慮，優選陰離子表面活性劑。氟化表面活性劑為優選的表面活性劑。表面活性劑的優選實例包括C8FnS02N(C2H5)(C2H40),4H、C8FnS03Li、C7F15COONH^PC8F17S02N(C2H5)C2H4OPO(OH)2。商購表面活性劑的實例包括F110、F113、F120、F150、F176PF、F177和F780(商品名，由大日本油墨和化學公司(DainipponInk&Chemicals,Inc.)生產，低聚物型氟化表面活性劑)。光敏組合物的製備通過將含有合金部分的粒子、單體、必要時能夠添加的粘合劑、光聚合引發劑和其它添加劑(優選添加分散介質)混合以及通過分散所述混合物，可以製備出本發明的光敏組合物。優選地，在製備出粒子分散在分散介質中的分散溶液之後，加入光聚合引發劑以及必要時添加的其它組分，其中所述分散溶液包含含有合金部分的粒子、單體和粘合劑。通過使用已知的分散機器如超聲分散器、塗料混合器、球磨機和艾格爾磨機(Eigermill)，將含有合金部分的粒子和單體(以及優選的粘合劑和分散介質)的混合溶液進行分散處理，可以製備出本發明的光敏組合物。本發明的包含含有合金部分的粒子的光敏組合物適合用於比如有色膜形成墨(優選黑色膜)和遮光膜(包括濾色器的黑色圖像，比如黑底)的應用。遮光膜及其製備方法本發明的遮光膜使用本發明遮光材料或下面描述的本發明轉印材料製備。即使在具有優異色調(尤其是黑色的優異色調)的薄膜中，使用本發明的光敏組合物形成的遮光膜也具有高的光密度，同時當該膜被熱處理時，也表現出反射率的增加小。該膜還與環境具有優異的相容性，對環境造成的負擔小。該薄膜能夠確保高的光密度，因為每l^m的幹膜厚度獲得2.0以上的光密度。本發明的遮光膜通過包括如下步驟的方法製備將本發明的光敏組合物塗敷到所需襯底上，並且乾燥塗敷的膜(塗布法)；或將上述光敏組合物塗敷到臨時載體上，通過乾燥塗敷的光敏組合物而製備出具有光敏層(下文中，還可以稱作遮光層)的轉印材料，以及將該光敏層轉移到所需襯底上(轉印法)。當將遮光膜形成所需圖案時，通過將由上述塗布法或轉印法提供的光敏遮光層形成圖案，以形成有圖案的遮光膜。形成圖案的方法包括曝光並顯影的方法；用雷射熱量磨蝕不必要部分的方法(磨蝕法)；以及將光敏抗蝕劑膜塗敷在形成於襯底上的光敏層上，通過曝光和顯影將抗蝕劑膜形成圖案，並且將光敏抗蝕劑膜移除的方法。儘管在本發明中可以使用這些方法中的任一種，但是從它們的簡單製備過程和圖案的解析度考慮，優選下列方法(1)至(3)。方法(l)，該方法包括將光敏組合物塗敷到襯底上，將塗敷的組合物乾燥以形成遮光層，將光致抗蝕劑塗敷到遮光層上，通過曝光和顯影將由塗布形成的光致抗蝕劑層形成圖案，然後將光致抗蝕劑層和下面的遮光層一起溶解並移除。方法(2)，該方法包括將光敏組合物塗敷到襯底上，將塗敷的組合物乾燥以形成光敏遮光層，以及通過曝光和顯影將光敏遮光層形成圖案(非硬化部分的移除)。方法(3)，該方法包括通過形成光敏遮光層而預先形成層壓體(光敏轉印材料)，所述光敏遮光層通過將光敏組合物塗敷到臨時載體上並且乾燥所塗敷的組合物而形成；將該層壓體層壓到所需襯底上；通過移除臨時載體，將光敏遮光層轉移到襯底上；然後通過曝光和顯影，將轉移到襯底上的光敏遮光層形成圖案(非硬化部分的移除)。所有這些方法(1)至(3)都能夠以比使用氣相沉積或濺射的常規方法更簡單的方式形成遮光層。通過下面(i)和(n)顯示的本發明的製備方法，可以最優選地製備出本發明的遮光膜。方法(I)，該方法包括通過將本發明的光敏組合物塗敷到襯底上，然後乾燥塗敷的光敏組合物，以形成光敏層(層形成過程)；通過將光敏層以成圖案方式曝光，然後將曝光的光敏層顯影，以形成有圖案的圖像(形成圖案過程)；以及在150°C或更高的溫度，對形成有圖案的圖像進行5分鐘以上的熱處理(加熱過程)。方法(II)，該方法包括將本發明的轉印材料的光敏層轉移到襯底上(層形成過程)；通過將轉印的光敏層以成圖案式曝光，然後將曝光的光敏層顯影，以形成有圖案的圖像(形成圖案的過程)；以及在150。C或更高的溫度，對形成有圖案的圖像進行5分鐘以上的熱處理(加熱過程)。光敏組合物的塗敷(塗布等)優選塗布法作為將本發明的光敏組合物塗敷到襯底或臨時載體上的方法。塗布法沒有特別的限制，並且可以使用在JP-ANos.2004-89851和2004-17043中描述的狹縫塗布法以及在JP-ANo.5-224011中描述的旋塗法和在JP-ANo.9-323472中描述的模塗法。當將光敏組合物塗敷到臨時載體上，轉印材料可以由臨時載體、光敏組合物形成的遮光層和任選安置的熱塑性樹脂層和中間層構成。形成圖案在形成圖案過程中，通過將在層形成過程中形成的光敏層的成圖案式曝光，然後將曝光的光敏層顯影，形成有圖案的圖像。在形成所需圖案的曝光中，可以使用已知光源。根據光致抗蝕劑層中的遮光層或光敏遮光層的光敏性，可以選擇光源。已知光源的實例包括超高壓汞蒸氣燈、氙氣燈、碳弧燈和氬雷射器，以及高壓汞蒸氣燈和金屬卣化物燈。可以一起使用在JP-ANo.6-59119中描述的在400nm以上的波長下透光率為2%以下的濾光器。待曝光的整個表面可以通過一個過程曝光而共同曝光，或者可以通過分隔所述表面而迸行幾次曝光。可以使用採用雷射的表面掃描曝光法。曝光之後的顯影可以使用顯影劑進行。稀的鹼性水溶液有利於作為顯影劑，並且可以一起使用可與水混溶的有機溶劑。合適鹼性物質的實例包括鹼金屬氫氧化物(比如，氫氧化鈉、氫氧化鉀)、鹼金屬碳酸鹽(比如碳酸鈉、碳酸鉀)、鹼金屬碳酸氫鹽(比如，碳酸氫鈉、碳酸氫鉀)、鹼金屬矽酸鹽(比如，矽酸鈉、矽酸鉀)、鹼金屬偏矽酸鹽(比如，偏矽酸鈉、偏矽酸鉀)、三乙醇胺、二乙醇胺、單乙醇胺、嗎啉、氫氧化四垸基銨(比如，氫氧化四甲銨)和磷酸三鈉。鹼性物質的濃度優選在O.Ol至30質量％的範圍，並且pH值優選在8至14的範圍。為了允許該層通過顯影以膜形式剝離，可以例如根據光敏遮光層的性質比如氧化性質改變pH值。可與水混溶的有機溶劑的優選實例包括甲醇、乙醇、2-丙醇、l-丙醇、丁醇、雙丙酮醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丁基醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、s-己內酯、Y-丁內酯、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、六甲基磺醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、s-己內醯胺和N-甲基吡咯烷酮。可與水混溶的有機溶劑的濃度通常在0.1至30質量％的範圍內。可以向顯影劑中添加已知表面活性劑。當將表面活性劑添加在顯影劑中時，該表面活性劑的濃度優選在0.01至10質量％的範圍內。顯影劑可以在浴(bath)中使用，或可以用作噴射液體。光敏遮光層的非硬化部分可以以固體形式(優選膜形式)除去，其中層的表面可以用旋轉刷或海綿擦掉，或者可以優選使用噴射顯影劑時的噴射壓力擦掉。顯影劑的溫度通常在室溫至40°C的範圍內。為了允許襯底水平移動，可以在充有顯影劑的顯影劑槽中安置輥式輸送器。優選將光敏樹脂形成在襯底的上表面上，以防止樹脂表面被輥式輸送器損傷。因為當襯底的長度超過lm時，由於水平輸送襯底引起的顯影劑在襯底中心附近的停留，可能引起在襯底中心和周緣部分之間可顯影性存在差異的問題，因此優選將襯底傾斜，以避免不均勻顯影。傾斜的角優選在5。至30。的範圍內。為了獲得均勻顯影結果，剛好在顯影之前通過噴射純水將光敏樹脂潤溼是適宜的。在顯影之後，可以提供漂洗過程。在將空氣溫和地吹送到襯底上以將顯影后的過量液體大概移除之後，通過淋浴漂洗襯底，獲得更均勻的顯影結果。通過由超高壓噴嘴噴射壓力在3至10MPa範圍的超純水，將殘留物移除，可以獲得沒有任何殘留物的高質量圖像。由於當襯底在水滴殘留粘附在襯底上的同時被輸送到後處理時，該過程可能被汙染，或可能在襯底上留下斑點(specs)，因此用氣刀將殘留水瀝乾，以移除過量的水或水滴。加熱和其它過程當通過本發明的遮光膜製備方法製備遮光膜時，優選將本發明的遮光膜進行熱處理，並且在形成圖案處理之後進行熱處理。在加熱過程中，將在形成圖案過程中形成的有圖案圖像在150°C或更高的溫度加熱5分鐘以上。熱處理加速了光敏遮光層通過曝光的硬化，並且可以提高硬化圖像的耐溶劑性和耐鹼性。在熱處理中，顯影之後的襯底可以在電爐、乾燥機等中加熱，或通過紅外燈加熱。加熱處理優選在150至250°C範圍的溫度進行5至300分鐘，更優選在170至240°C的溫度進行10至200分鐘。當加熱溫度和加熱時間在上述範圍內時，光敏遮光層的硬化在優選條件下進行，並且絕不引起遮光膜的分解。為了加速硬化，襯底還可以在顯影之後以及加熱之前進行曝光。在這種情況下的曝光方法與上述曝光方法相同。當進一步形成另外的光敏遮光層時，可以在形成所述遮光層之後並且在成圖案式曝光之前，在該遮光層上形成保護層。，保護層起著氧阻隔層的作用，通過在成圖案式曝光的過程中阻隔氧來提高對光敏遮光層曝光的靈敏度。由於這種保護層在形成遮光層(遮光圖像)之後是不必要的，因此它通過顯影而除去。遮光層的厚度優選在0.2至1.5pm、更優選為0.3至1.0pm的範圍內。當該厚度在上述範圍內時，通過確保所需的光密度，獲得良好的顯示對比度，同時不存在由於太大的粗糙度(在安置遮光膜的部分和沒有安置遮光膜的部分之間的梯級高度)而導致的在遮光層上形成RBG像素的問題。本發明的遮光膜的透射密度(光密度)優選在2.0以上至14.0以下的範圍內，更優選在3.5以上至13.0以下的範圍內，特別優選在6.0以上並且12.0以下的範圍內。當光密度在上述範圍內時，高對比度可以確保良好的顯示質量。此處使用的光密度是指在300至650nm的波長區域內的光密度(透射密度)。襯底在本發明中使用的襯底優選通常用於顯示裝置中的玻璃襯底。該玻璃襯底可以是由已知玻璃製成的玻璃襯底，所述已知玻璃比如鈉玻璃、低鹼玻璃或無鹼玻璃。玻璃襯底的實例在例如"液晶顯示工程學指南(GuidetoLiquidCrystalDisplayEngineering)(HanaeSuzuki著，並且由NikkanKogyoShimbun公司(1998)出版)"中有描述。襯底的其它實例包括矽晶片和透明塑料襯底，比如有聚烯烴製備的透明塑料襯底。還可以使用TFT襯底。襯底的厚度優選為0.5至3mm，更優選為0.6至2mm。從顯示圖像的對比度和可見性考慮，本發明的遮光膜優選為黑色的。當遮光膜的色度在xyz彩色表中由(x,y)表示時，根據與理想黑色彩色的所需色度的色差，可以評價更好的黑色。這意味著，當色差更小時，顏色接近理想的黑色，而當色差更大時，該顏色在黑色的範圍之外。具體地，當理想黑色的色度的(x，y)值由(0.33，0.33)表示時，在理想色度和所需色度之間的差可以由在XY彩色表中的AE值表示。轉印材料本發明的轉印材料是用於形成遮光膜的材料，優選用於形成本發明的顯示裝置用遮光膜的材料。本發明的轉印材料包括至少一層含有本發明光敏組合物的光敏層，並且必要時進一步包括熱塑性樹脂，中間層和覆蓋在所述層的最表面上的保護層。在本發明的轉印材料中的光敏層至少包含含有合金部分的粒子和單體，並且優選地，還包含光聚合引發劑和粘合劑。將光敏層形成為光敏的，使得乾燥之後每l^m膜厚度的光密度為2.0以上。需要時，可以向光敏層中添加其它組分。在光敏層中的含有合金部分的粒子、單體、粘合劑和光聚合引發劑，以及其它組分如著色劑與在本發明的光敏組合物中的那些相同，並且它們的優選實施方案與本發明的光敏組合物的優選實施方案相同。下面，將詳細描述本發明的轉印材料。本發明的轉印材料優選包含適合於作為形成上述遮光膜的合適方法中的一種示例的方法(3)的光敏轉印材料。光敏轉印材料可以包含臨時載體和乾燥的光敏層，所述乾燥的光敏層是通過將本發明的光敏組合物直接塗敷在臨時載體上而形成的，或在插入另外層的情況下間接地塗敷在臨時載體上形成的。光敏層的厚度優選在0.2至1.5pm、更優選0.3至1.0pm的範圍內。當厚度在上述範圍內時，通過確保所需的光密度獲得優異的顯示對比度，同時不存在由於太大的粗糙度(在安置遮光膜的部分和沒有安置遮光膜的部分之間的梯級高度)而導致的在遮光層上形成RBG像素的問題。光敏轉印材料優選包含介於臨時載體和光敏層之間的熱塑性樹脂層，更優選包含介於熱塑性樹脂層和光敏層之間的鹼溶性中間層。在光敏層的曝光表面上可以安置保護層。臨時載體是化學和熱穩定的，並且優選包含撓性物質。具體地，優選物質的實例包括薄的片或片的層壓體，所述片由Teflon⑧、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯和聚丙烯製成。當形成這樣的層時，優選臨時載體具有良好的可從熱塑性樹脂層上的剝離性。臨時載體的合適厚度在5至300(am的範圍內，並且特別優選在20至150pm的範圍內。熱塑性樹脂層熱塑性樹脂層至少包含具有熱塑性的樹脂，並且通常使用通過使用溶劑製備的含熱塑性樹脂的液體而形成。在熱塑性樹脂中包含的樹脂的實例包括丙烯酸類樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、橡膠基樹脂、乙酸乙烯酯基樹脂、聚烯烴基樹脂以及它們的共聚物。構成熱塑性樹脂的樹脂理想地為鹼溶性的。含有熱塑性樹脂的樹脂的具體實例包括選自如下的至少一種乙烯/丙烯酸酯共聚物的皂化產物、苯乙烯/(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化產物、苯乙烯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸酯共聚物的三組分共聚物、乙烯基甲苯/(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化產物、聚(甲基)丙烯酸酯、禾Q(甲基)丙烯酸酯共聚物比如(甲基)丙烯酸丁酯和乙酸乙烯酯之間的共聚物的皂化產物；以及可溶解在有機聚合物的鹼性水溶液中的樹脂，所述有機聚合物在^辨絲激手識(HandbookofPerformanceofPlastics),由全日本塑料成型工業的曰本塑料工業聯盟協會(theJapanPlasticIndustryFederationandAssociationofAllJapanPlasticMoldingIndustry)編輯，由KogyoChosakaiPublishing股份有限公司在1968年10月25日出版)中有描述。這些樹脂優選通過將如下的兩種樹脂混合而使用。一種樹脂優選為(A)重均分子量在50,000至500,0000的範圍內並且玻璃化轉變溫度(Tg)在0至140°C的範圍內的樹脂(下面稱作樹脂(A))，更優選重均分子量在60,000至200,000的範圍內並且玻璃化轉變溫度(Tg)在30至110°C的範圍內的樹脂。如在日本專利申請公布(JP-B)Nos.54-343227、55-38961、58-12577、54-25957禾Q59-44614;JP-ANos.61-134756、54-92723、54-99418、54-137085、57-20732、58-93046、59-97135、60-159743、60-247638、60-208748、60-214354、60-230135、60-258539、61-169829、61-213213、63-147159、63-213837、63-266448、64-55551、64-55550、2-191955、2誦199403、2-199404和2-208602;OLSNo.3504254和日本專利申請4-39653中描述的那樣，樹脂的具體實例包括可溶於鹼性水溶液中的樹脂。優選在JP-A63-147159中描述的甲基丙烯酸/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸甲酯共聚物。優選將樹脂(B)與上述的各種樹脂(A)—起使用。另一種樹脂(B)的重均分子量優選在3000至30,000的範圍內，以及玻璃化轉變溫度(Tg)在30至170。C的範圍內，更優選重均分子量優選在4000至20,000的範圍內，以及玻璃化轉變溫度(Tg)在60至140°C的範圍內。儘管優選實例可以選自在上述專利公布中描述的那些，但是在JP-BNo.55-38961和JP-ANo.5-241340中描述的苯乙烯/(甲基)丙烯酸類共聚物也是優選的。當樹脂(A)的重均分子量小於50,000並且玻璃化轉變溫度(Tg)低於0。C時，可能產生網狀物，或者在轉印過程中，熱塑性樹脂可能通過蠕動到周緣內而汙染永久載體。另一方面，當樹脂(A)的重均分子量超過500,000並且其玻璃化轉變溫度(Tg)超過140°C時，可能在轉印過程中產生氣泡，或者使用鹼性水溶液對熱塑性樹脂的可移除性可能劣化。熱塑性樹脂層的厚度優選為1pm以上。當熱塑性樹脂層的厚度在上述範圍內時，轉印物(底層)的大小為1nm以上的粗糙度可以得到完全放鬆(relaxed)。從使用鹼性水溶液的可移除性和對生產的相容性考慮，厚度的上限優選為約100pm，更優選為約50pm。用於形成熱塑性樹脂層的含有熱塑性樹脂的溶液沒有特別的限制，只要構成該層的樹脂可溶於該溶液中即可，並且溶劑可以選自甲基乙基酮、正丙醇和異丙醇中。中間層當安置熱塑性樹脂層時，優選在熱塑性樹脂層和光敏層之間安置中間層，以防止這兩個層在塗敷它們的溶液過程中被混合，以及阻隔氧。中間層至少使用樹脂形成，並且通常使用含有樹脂的溶液形成，所述含有樹脂的溶液是通過使用對用於形成熱塑性樹脂層和光敏層的溶劑的相容性較差的水性溶劑體系而製備的。包含在中間層中的樹脂優選是鹼溶性的，並且該樹脂的實例包括聚乙烯醇樹脂、聚乙烯吡咯烷酮樹脂、纖維素樹脂、丙烯醯胺樹脂、聚環氧乙烷樹脂、明膠、乙烯基醚樹脂、聚醯胺樹脂以及它們的共聚物。還可以使用這樣製備的樹脂，即通過與含有羧基或磺醯基的單體共聚而使得通常不溶於鹼中的樹脂可溶於鹼中而製備的。它們中，優選聚乙烯醇。聚乙烯醇的皂化度優選為80%以上，更優選在83至98%的範圍內。優選將多種樹脂的混合物用作構成中間層的樹脂。更優選使用聚乙烯醇和聚乙烯吡咯垸酮的混合物。以聚乙烯醇相對於聚乙烯吡咯烷酮的質量比率計，它們之間的混合比優選在1/99至75/25的範圍內，更優選在10/90至50/50的範圍內。當混合的質量比率在上述範圍內時，可以抑制靈敏度降低，所述靈敏度降低的原因是氧阻隔功能，同時，可以形成具有良好表麵條件的中間層，從而允許被塗敷在中間層上的光敏樹脂層的粘附性是有利的。中間層的厚度優選在O.l至5iam的範圍內，更優選在0.5至3pm的範圍內。在上述範圍內的中間層厚度可以使氧阻隔性能優異，同時中間層在顯影過程中可以在短時期內被移除。可以使用溶劑製備用於形成中間層的塗布溶液。儘管溶劑沒有特別的限制，只要它可以溶解上述樹脂即可，但是優選通過將上述可與水混溶的溶劑與水混合而製備出的混合溶劑。優選溶劑的實例包括水以及如下的混合溶劑水/甲醇=90/10、水/甲醇=70/30、水/甲醇=55/45、水/乙醇=70/30、水/l-丙醇=70/30、水/丙酮=卯/10和水/甲基乙基酮=95/5。這些混合比率以質量比表示。由於在光敏轉印材料中含有的光敏層是通過塗敷溶液而形成的，所述溶液通過將含有合金部分的粒子和單體混合(優選使用溶劑)而製備的，因此，即使作為薄膜也能獲得高的光密度，同時色調良好(尤其是良好的黑色色調)。此外，進行熱處理之後，加熱引起的反射率增加小，並且所述層的生產過程對環境有良好的相容性，對環境造成的負擔小。下面，將主要描述使用光敏轉印材料的轉移，在襯底上形成光敏層的方法。通過使光敏層表面作為最上表面而與襯底的表面緊密地接觸，將光敏層層壓在襯底上，並且優選通過剝離臨時載體，將光敏層轉移到襯底上。可以使用已知的層壓機或真空層壓機進行層壓。為了增加摩擦，還可以使用自動切割機層壓機。用於層壓的襯底的加熱溫度優選在約60至150°C的範圍內，並且橡膠輥的溫度優選在約80至140°C的範圍內。加壓壓力(線性壓力)優選在約50至200N/cm的範圍內。優選將光敏層以在約1至5m/分鐘的範圍內的線傳輸速度層壓在襯底上。當橡膠輥的溫度超過140°C時，轉印材料可能鈹縮(winkled)，而當該溫度低於80°C時，光敏樹脂層和襯底之間的粘合性可能弱化。當使用光敏轉印材料形成遮光膜時，臨時載體在光敏轉印材料和襯底之間的層壓之後被剝離，將光敏層曝光，之後顯影，並且在曝光和顯影之後進行加熱處理。上述方法可以被用作曝光、顯影和熱處理的情況。顯示裝置用襯底本發明的顯示裝置用襯底包含形成在該襯底上的遮光膜。由於使用本發明的上述光敏材料或本發明的上述轉印材料形成遮光膜，即使當遮光膜薄並且有良好色調(尤其是良好的黑色調)時，光密度也高，並且熱處理的熱量所引起的反射率增加也小，從而使得圖像對比度和布線線路的遮蔽性能優異。襯底的生產方法與環境的相容性良好，對環境造成的負擔小。儘管遮光膜是通過上述有利於形成本發明的遮光膜的方法(1)至(3)形成的，但方法(3)是最優選的。構成光敏組合物和轉印材料的各種組分如上所述，並且優選實施方案也相同。厚度和透射密度與在上述遮光膜中的厚度和透射密度相同。顯示裝置用濾色器本發明的顯示裝置用濾色器由本發明的顯示裝置用襯底或本發明的遮光膜構成。由於使用本發明的上述光敏組合物或上述轉印材料形成遮光膜，因此，即使當遮光膜薄並且有良好色調(尤其是良好的黑色調)時，光密度也高，並且熱處理的熱量所引起的反射率增加也小，從而使得圖像對比度和布線線路的遮蔽性能優異。襯底的生產方法與環境的相容性良好，對環境造成的負擔小。本發明的濾色器包括在可透光襯底上的像素組以及本發明的上述遮光膜，所述像素含有多個表現彼此不同顏色的像素，所述遮光膜作為用於將構成像素組的每一個像素分隔的遮光圖像(所謂的黑底)。上述襯底、含有TFT元件的尋址襯底(TFT元件襯底)可以被用作可透光襯底。此處使用的透光性是指允許光透過襯底的性質，並且優選透過90%以上的來自光源的光。當使用TFT襯底時，將顯示裝置用遮光膜安置在TFT元件襯底上，以分隔像素組和構成該像素組的各個像素。在沒有安置像素組的情況下，與上述不同的本發明濾色器可以只包含在TFT元件襯底上的顯示裝置用遮光膜(黑底)。在這種情況下，像素組形成在獨立於TFT元件襯底的可透光襯底上，並且採用其上形成像素組的襯底面以對TFT元素襯底。這樣使得TFT陣列的孔徑比優異。像素組包含多個具有彼此不同色調的像素，並且可以通過常規方法使用多種用於形成像素的有色光敏樹脂組合物和光敏轉印材料而形成。在形成像素組之後，優選進行熱處理。對於有色光敏樹脂組合物和光敏轉印材料，可以參考JP-ANos.2005-3861和2004-361448。顯示裝置本發明的顯示裝置包含本發明的濾色器。由於顯示裝置包含本發明的濾色器，或具體地，包含本發明的光敏組合物或轉印材料，因此，即使當遮光膜薄並且有良好色調(尤其是良好的黑色調)時，光密度也高，並且熱處理的熱量所引起的反射率增加也小，從而使得圖像對比度和布線線路的遮蔽性能優異。襯底的生產方法與環境的相容性良好，對環境造成的負擔小。顯示裝置沒有特別的限制，只要它包含本發明的濾色器即可。顯示裝置還可以包含己知顯示裝置的構成元件。例如，顯示裝置可以包含濾色器襯底和被設置成面對濾色器襯底的透明襯底、在這些襯底之間安置的液晶層以及用於對在液晶層中的液晶進行尋址的液晶尋址裝置(包括無源矩陣尋址裝置或有源矩陣尋址裝置)，並且本發明的上述濾色器可以被用作濾色器襯底。液晶的顯示方法沒有特別的限制，並且可以根據目的適當選擇。可利用的顯示方法的實例包括ECB(電控制雙折射)、TN(扭轉液晶向列)、OCB(光學補償性彎曲)、VA(垂直取向)、HAN(雜化排列液晶向列)、STN(超扭轉液晶向列)、IPS(面內轉換)、GH(客體主體)、FLC(鐵電液晶)、AFLC(反-鐵電液晶)和PDLC(聚合物分散體液晶)方法。實施例儘管本發明的方法已經將進行更詳細的描述，但是本發明絕不限於下列實施例，除非它們在本發明的精神之外。除另有說明之外，"份"和"％"是基於按質量計的份和％。實施例1含有銀/鈀合金和銀的粒子分散溶液的製備將乙酸銀(I)(51,7g)、乙酸鈀(II)(34.8g)、葡糖醛酸(54g)、焦磷酸鈉(45g)、聚乙二醇(2g;分子量3000)和E735(5g;乙烯基吡咯烷酮/乙酸乙烯酯共聚物的商品名，由國際特殊產品(InternationalSpecialtyProducts)製備)溶解在1000ml純水中，獲得溶液1。單獨地(inaseparaterun),將羥基丙酮(40.8g)溶解在500ml純水中，以獲得溶液2。將上述獲得的溶液1劇烈攪拌，同時將溫度保持在25°C，並且在10分鐘內將溶液2添加到這種溶液中，之後溫和攪拌另外的6小時。然後，混合溶液轉變為黑色溶液，並且獲得含有銀/鈀合金部分的金屬粒子(以下稱作粒子l)。隨後，通過將這種混合溶液離心，沉澱出粒子l。對於離心，將混合溶液分成150ml等份的溶液，並且使用臺式離心機H-103N(商品名，由KOKUSAN股份有限公司製備)，將每一個等份在2,000rpm的轉速下離心30分鐘。倒出上層清液，並且將總體積調節為150ml。添加純水(1350ml)，並且將混合溶液攪拌15分鐘，以再次分散粒子l。將這個程序重複兩次，以除去在水相中的可溶物質。之後，將溶液離心以沉澱出粒子1，之後在相同上述條件下離心。離心之後，如上所述那樣將上層清液倒出，並且將溶液的總體積調節到150ml。向該溶液中添加純水(850ml)和丙酮(500ml)，將粒子1通過攪拌15分鐘再分散。將分散溶液如上所述那樣再次離心，並且在沉澱出粒子l之後，將上層清液倒出，將體積調節到150ml。添加純水(150ml)和丙酮(1200ml)，之後攪拌另外15分鐘，以再次分散粒子1。粒子1通過離心分離。離心的條件與上述相同，不同之處在於離心時間延長至90分鐘。在倒出上層清液之後，將總體積調節到70ml。向該溶液中添加丙酮(30ml)，並且使用艾格爾磨機(商品名艾格爾磨機M-50(介質130g直徑為0.65mm的氧化鋯珠粒)，由日本Eiger製造)，將所得溶液分散，獲得粒子1的分散溶液(分散溶液A1)。用於光敏遮光層的塗布溶液的製備將下列組成的混合物添加到分散溶液Al中，以製備出用於光敏遮光層的塗布溶液[組成]-分散溶液A1:40.0ml聚合物P-l:6.0g(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(60/40[質量比])共聚物、重均分子量35,000)-表面活性劑l:0.1g-對苯二酚單甲基醚0.001g-季戊四醇六丙烯酸酯6.0g-二[4-[N-[4-(4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪-^基)苯基]氨基甲醯基]苯基]癸二酸酯O.lg*表面活性劑1表面活性劑1的組成如下-結構化合物1:30份-甲基乙基酮70份結構化合物1—(CH2-H):—(CH，)廠一(CH巧H》廠0-(po-々o，OCH2CH2CnF2n+1i(PO)7H0(E。)7H(n=6，X=55，y-5，Mw=33940，Mw/Mn=2.55，PO:環氧丙烷，EO:環氧乙垸)用於保護層的塗布溶液的製備將以下配方l的化合物混合，以製備出用於保護層的塗布溶液。[用於保護層的塗布溶液的配方PI]-PVA-205:32.2份(皂化度=88%，聚合度=550，由KURARAY股份有限公司製備的聚乙烯醇)-聚乙烯吡咯垸酮14.9份(商品名K-30，由國際特殊產品(InternationalSpecialtyProducts)製造)-蒸餾水524份-甲醇429份遮光膜的製備無鹼玻璃襯底在用UV洗滌裝置洗滌之後，使用刷子用清潔液體將其清潔，然後用超純水進行超聲清潔。將清潔之後的襯底在120。C加熱3分鐘，以穩定表麵條件。在冷卻襯底之後，將溫度控制為23。C，並且使用裝備有狹縫噴嘴的玻璃襯底塗布機(由Hirata公司製造)，將如上所述獲得的用於光敏遮光層的塗布溶液塗敷在襯底上，使得光密度為4.0，並且形成光敏遮光層。隨後，使用真空乾燥裝置(商品名VCD，由TokyoOhkaKogyo股份有限公司製造)將部分溶劑乾燥30秒，消除塗布膜的流動性，並且將該塗布膜在120°C預烘焙3分鐘，獲得光密度為4.0並且厚度為0.87pm的光敏遮光層。隨後，通過與形成光敏遮光層相同的方法，將用於保護層的塗布液塗敷在光敏遮光層上，使得乾燥之後的厚度為1.5pm，並且將塗敷的液體層在100。C乾燥5分鐘。然後，在超高壓汞蒸氣燈下，用70mJ/cn^的發光能量從襯底的塗布面側曝光光敏遮光層。隨後，使用稀釋5倍(使用時pH值；10.2)的顯影劑(商品名TCD，由富士膠片株式會社生產；鹼性顯影劑)，將該曝光層顯影(33。C，20秒；顯影過程)，並且將該層在220°C迸一步熱處理30分鐘，以製備出遮光膜。實施例2除了將實施例1中的乙酸鈀(II)和乙酸銀(I)的量分別替換為70.0g和26.0g之外，通過與實施例1中的方法相同的方法製備粒子分散溶液(分散溶液A2)。實施例3除了將分散溶液(A1)替換為下面的粒子分散溶液(分散溶液A3)之外，通過與實施例1中的方法相同的方法製備遮光膜。含有銀/金合金和銀的粒子分散溶液(分散溶液A3)的製備通過將四氯金酸四水合物(49.8g)、葡糖醛酸(20g)、焦磷酸鈉(24g)、聚乙二醇(1.5g;分子量3,000)和E735(2.5g;乙烯基吡咯烷酮/乙酸乙烯酯共聚物的商品名，由國際特殊產品(InternationalSpecialtyProducts)生產)溶解在純水(500ml)中，獲得溶液3。單獨地，通過將乙酸銀(I)(40.4g)、葡糖醛酸(35g)、焦磷酸鈉(24g)、聚乙二醇(1.5g;分子量3，000)和E735(2.5g;商品名of乙烯基吡咯垸酮/乙酸乙烯酯共聚物，由國際特殊產品(InternationalSpecialtyProducts)生產)溶解於純水(500ml)中，獲得溶液4。通過將羥基丙酮(28.0g)溶解在純水(500ml)中，獲得溶液5。將上述獲得的溶液5進行劇烈攪拌，同時將溫度保持在25。C，並且在10分鐘內將溶液3和4同時加入到這種溶液中，之後溫和攪拌另外的6小時。然後，混合溶液轉變成黑色溶液，獲得含有銀/金合金部分的金屬粒子(下面，稱作粒子3)。隨後，通過將這種混合溶液離心，沉澱出粒子3。對於離心，將混合溶液分成150ml等份的溶液，並且使用臺式離心機H-103N(商品名，由KOKUSAN股份有限公司製備)，將每一份在2,000rpm的轉速下離心30分鐘。倒出上層清液，並且將總體積調節為150ml。向該上層清液中添加純水(1350ml)，並且將混合溶液攪拌15分鐘，以再次分散粒子3。將這個程序重複兩次，以除去在水相中的可溶物質。之後，將溶液離心以再次沉澱出粒子3。離心之後，如上所述那樣將上層清液倒出，並且將溶液的總體積調節到150ml。向該溶液中添加純水(850ml)和丙酮(500ml)，將粒子3通過攪拌15分鐘再分散。將分散溶液如上所述那樣再次離心，並且在沉澱出粒子3之後，將上層清液倒出。通過添加純水將體積調節到150ml，添加純水(150ml)和丙酮(1200ml)，之後攪拌另外15分鐘，以再次分散粒子3。粒子3通過離心分離。離心的條件與上述相同，不同之處在於離心時間延長至90分鐘。在倒出上層清液之後，將總體積調節到70ml。向該溶液中添加丙酮(30ml)，並且使用艾格爾磨機(商品名艾格爾磨機M-50(介質130g直徑為0.65mm的氧化鋯珠粒)，由日本Eiger製造)將所得溶液分散，獲得粒子3的分散溶液(分散溶液A3)。實施例4除了將實施例1中的分散溶液Al替換為下面的粒子分散溶液(分散溶液A4)之外，以與在實施例1中相同的方法製備遮光膜。含有銀/錫合金和錫的粒子分散溶液(分散溶液A4)的製備通過將乙酸銀(1)(23.1g)、乙酸錫(II)(65.1g)、葡糖醛酸(54g)、焦磷酸鈉(45g)、聚乙二醇(2g;分子量3,000)和E735(5g;乙烯基吡咯烷酮/乙酸乙烯酯共聚物的商品名，由國際特殊產品(InternationalSpecialtyProducts)生產)溶解在純水(500ml)中，獲得溶液6。單獨地，將羥基丙酮(36.1g)溶解在純水(500ml)中，獲得溶液7。將上述獲得的溶液6進行劇烈攪拌，同時將溫度保持在25。C，並且在2分鐘內將溶液7加入到這種溶液中，之後溫和攪拌另外的6小時。然後，混合溶液轉變成黑色溶液，獲得含有銀/錫合金部分的金屬粒子(下面，稱作粒子4)。隨後，通過將這種混合溶液離心，沉澱出粒子4。對於離心，將混合溶液分成150ml等份的溶液，並且使用臺式離心機H-103N(商品名，由KOKUSAN股份有限公司製備)，將每一份在2,000rpm的轉速下離心30分鐘。倒出上層清液，並且將總體積調節為150ml。向該上層清液中添加純水(1350ml)，並且將混合溶液攪拌15分鐘，以再次分散粒子4。將這個程序重複兩次，以除去在水相中的可溶物質。之後，將溶液離心以再次沉澱出粒子4。將溶液在上述條件下離心。離心之後，如上所述那樣將上層清液倒出，並且將溶液的總體積調節到150ml。向該溶液中添加純水(850ml)和丙酮(500ml)，將粒子4通過攪拌15分鐘再分散。將分散溶液如上所述那樣再次離心，並且在沉澱出粒子4之後，將上層清液倒出。通過添加純水將體積調節到150ml，添加純水(150ml)和丙酮(1200ml)，之後攪拌另外15分鐘，以再次分散粒子4。粒子4通過離心分離。離心的條件與上述相同，不同之處在於離心時間延長至90分鐘。在倒出上層清液之後，將總體積調節到70ml。向該溶液中添加丙酮(30ml)，並且使用艾格爾磨機((商品名艾格爾磨機(M-50(介質130g直徑為0.65mm的氧化鋯珠粒)，由日本的Eiger製造)將所得溶液分散，獲得粒子4的分散溶液(分散溶液A4)。實施例5轉印材料的製備使用狹縫噴嘴，將由下面配方H1製備出的用於熱塑性樹脂層的塗布溶液塗敷到厚度為75pm的聚對苯二甲酸乙二醇酯臨時載體(PET臨時載體)的表面上，以使層的乾燥厚度為14.6iam。將該塗布溶液在100。C乾燥3分鐘，以形成熱塑性樹脂層。使用狹縫塗布機，將由上述配方P1製備出的用於中間層的塗布溶液塗敷在熱塑性樹脂層上，以使該層的乾燥厚度為1.6pm。將這些塗布層在100。C乾燥3分鐘，以層壓中間層(氧阻隔層)。用狹縫塗布機，將在實施例1中製備出的用於光敏遮光層的塗布液(包含分散溶液A1)塗敷在這個中間層上，以使光密度為4.0，並且通過將該塗層在100。C乾燥3分鐘，形成光敏遮光層。由此製備出包含順序層壓在PET臨時載體上的熱塑性層、中間層和光敏遮光層的膜，並且通過將厚度為12nm的聚丙烯膜壓力粘合在遮光層上以作為保護膜，從而製備出光敏轉印材料。用於熱塑性樹脂層的塗布溶液的配方HI-甲醇1U份-丙二醇單甲基醚乙酸酯6.36份-甲基乙基酮52.4份-甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚比[摩爾比]=55/11.7/4.5/28.8、重均分子量=卯，000、Tg=70。C):5.83份-苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚比[摩爾比]=63/37、重均分子量=10,000、Tg=100。C):13.6份-2,2-二[4-(甲基丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基]丙烷(由8^11-11&]^1111^化學公司生產，由2摩爾當量的五甘醇單甲基丙烯醯酯與雙酚A的脫水和縮合製備出的化合物)9.1份-表面活性劑l:0.54份通過轉印製備具有遮光圖像的襯底用帶有尼龍紗線的旋轉刷子洗滌無鹼玻璃襯底，同時通過噴淋吹掃在25。C溫熱的玻璃清潔液20秒。在用純水淋浴漂洗襯底之後，通過淋浴將矽烷偶聯溶銜(N-P-氨基乙基)-y-氨基丙基三甲氧基矽烷的3%水溶液，商品名KBM603，由Shin-Etsu化學股份有限公司)吹掃20秒，之後淋浴純水。使用預加熱裝置，將襯底在100。C加熱2分鐘。隨後，將上述獲得的光敏轉印材料的保護膜剝離，將該轉印材料放置在玻璃襯底上，以使加熱之後，曝光的光敏遮光層接觸玻璃襯底的表面，並且使用層壓機(商品名LamicII，由日立工業(HitachiIndustries)生產)，在130°C的橡膠輥溫度、100N/cm的線性壓力和2.2m/分鐘的傳輸速度的條件下，將其粘合到玻璃襯底的表面上(層壓過程)。然後，將PET臨時載體剝離(轉印過程)。隨後，使用裝備由超高壓汞蒸氣燈的接近式對準曝光器(proximityaligner)(由日立電子工程(HitachiElectronicEngineering)製造)，將襯底在70mJ/cm2發光能量下從襯底上被轉移光敏遮光層的那側進行成圖案式曝光(曝光過程)。曝光之後，通過由扁平噴嘴在30°C、0.04MPa的噴嘴壓力下，從熱塑性樹脂層的上面噴射三乙醇胺顯影劑(商品名T-PD1，含2.5%的三乙醇胺、非離子表面活性劑和聚丙烯消泡劑，由富士膠片株式會社(FijiPhotoFilmCo.Ltd.)生產)的12X稀釋溶液(其是在1質量％的T-PD1與11質量份純水的比率下混合的)50秒，使襯底通過噴淋顯影進行顯影，並且通過顯影將熱塑性樹脂層和中間層移除。隨後，通過從錐形噴嘴在29°C、0.15MPa的噴嘴壓力下，噴射碳酸鈉顯影劑(商品名T-CD-1，含有0.38摩爾/升碳酸氫鈉和0.47摩爾/升碳酸鈉、5質量％二丁基萘磺酸鈉、陰離子表面活性、消泡劑和穩定劑，由富士膠片株式會社(FujiPhotoFilmCo.,Ltd.)生產，稀釋5倍，使用時pH-10.2)30秒進行噴淋，將光敏遮光層顯影，從而獲得形成圖案的圖像。然後，使用具有尼龍線的旋轉刷，在33°C的溫度和0.2MPa的壓力下，從錐形噴嘴噴射用純水稀釋10X的清潔劑(商品名T-SD1，含有磷酸鹽、非離子表面活性劑和穩定劑；由富士膠片株式會社生產)，將殘餘顯影劑移除，獲得遮光膜。使用來自發光能量為500mJ/cn^的超高壓汞蒸氣燈的光，從玻璃襯底上形成圖像的那側，對該膜進行後曝光，並且在200。C熱處理15分鐘。實施例6至8除了將實施例5中用於製備光敏遮光層用塗布溶液的分散溶液Al由分散溶液A2(實施例6)、分散溶液A3(實施例7)和分散溶液A4(實施例8)代替之外，以與在實施例5中相同的方法製備遮光膜。比較例1除了將實施例1中用於製備光敏遮光層用塗布溶液的分散溶液A1由下面的炭黑分散溶液B1代替之外，以與在實施例1中相同的方法製備遮光膜。炭黑分散溶液B1的製備將炭黑(3.8g;商品名Legal400，由裡格公司(LegalCo.)生產)、Solsperse2000(0.38g;商品名，由亞比西亞公司(AbisiaCo.)生產)和甲基乙基酮(50ml)混合。將玻璃珠粒(40g;粒徑3mm)添加到這種混合溶液中，並且用塗料攪拌器分散6小時。將玻璃珠粒移除，製備出炭黑分散溶液Bl。比較例2除了將實施例1中用於製備光敏遮光層用塗布溶液的分散溶液A1由下面描述的銀粒子分散溶液B2代替之外，以與在實施例1中相同的方法製備遮光膜。銀粒子分散溶液B2的製備分散銀漿液的製備將蒸餾水(3,488g)添加到明膠(112g)中，將所得混合物在47°C加熱以溶解明膠。將乙酸鈣(4.0g)和氫硼化鉀(2.0g)添加到這種溶液中，並且之後立即將溶解於1.0升水中的氮化銀(6.0g)在劇烈攪拌下加入。再加入蒸餾水，並且將溶液的最終重量調節到5.0kg。然後，在將產物冷卻到凝膠化溫度附近之後，使溶液通過小孔(hales)進入到冷卻水中，以形成細條33(noodle)。將該細條作為用於形成藍色銀的放大催化劑供給。為了方便起見以防止細條形成熔融塊(moltenmass),用1份水稀釋3份細條(細條漿液)。將溶解於蒸餾水(81g)中的單磺酸氫醌鉀(6.5g)和KC1(0.29g)添加到氫硼化物-還原的銀核(650g)中，並且將該混合物添加到冷卻到約6°C的細條漿液中。分別在獨立的容器中製備出兩種溶液A和B。溶液A:亞硫酸鈉(無水)19.5g亞硫酸氫鈉(無水)0.98g蒸餾水122.0g溶液B:硝酸銀9.75g蒸餾水122.0g將溶液A和B混合，並且繼續攪拌以形成白色沉澱物，該白色沉澱物消失。之後立即地，在劇烈攪拌下將該混合物於短時間內(5分鐘內)添加到細條漿液中。將溫度保持在10。C，並且使放大反應進行約80分鐘，直到全部的可溶銀鹽在核上還原以獲得藍色漿液粒子。隨後，通過尼龍網眼袋，使自來水流過所獲得的藍色漿液粒子，並且使清潔水流過該袋約30分鐘，以使所有鹽被洗掉。洗滌之後，水從分散在明膠漿液中的藍色銀排除，直到產物的量減少到412g，因而凝膠熔合之後，獲得濃度為1.5%的藍色銀分散體。透射電子顯微照片證實，藍色銀包含邊長在約20至30nm範圍內並且厚度為約7nm的粒子薄片。銀粒子的製備將分散劑(6g;商品名吡唑890，由日本油和油脂公司(1^^011011&FatsCo.)生產)和5%的木瓜蛋白酶溶液(2000g)添加到分散銀的漿液(4,000g)中，並且將該混合物在37°C保持24小時。將保存之後的溶液在2,000rpm離心5分鐘，以使銀粒子沉澱。在倒出上層清液之後，被酶分解的明膠用蒸餾水洗滌而移除，獲得銀粒子沉澱物。然後，用甲醇洗滌銀粒子沉澱物，並且乾燥，獲得約60g的銀粒子聚集體。將這種聚集體(53g)、分散劑(5g;商品名.'Solperse20000，由亞比西亞公司(AbisiaCo.)生產)禾卩甲基乙基酮(22g)混合，將直徑為2mm的玻璃珠粒(IOOg)與上述混合物混合，並且使用塗料攪拌器將該混合物分散3小時，以獲得銀粒子分散溶液B2。評價l在實施例和比較例中製備出的遮光膜進行下列項目的測量。結果顯示在表1中。1.膜厚度使用接觸表面粗糙度計(商品名P-l，由TENKORCo.生產)，測量各個遮光膜(曝光過程之前)的乾燥厚度。2.光密度各個遮光膜的光密度按如下測量使用形成各個實施例和比較例中的黑底的光敏遮光液，在透明襯底上形成薄膜層，以使透射光密度為3.0以下，然後除了不進行形成圖案的曝光之外，以與實施例和比較例相同的方式進行處理，獲得用於測量形成在透明襯底上的薄膜的透射光密度的樣品。將Macbeth密度計(商品名TD-904,由MacbethCo.製造)與玻璃襯底一起使用，測量安置在上述樣品上的遮光膜的光密度(OD)。所使用襯底的光密度(OD^通過相同的方法單獨測量。從OD減去ODQ(OD-OD^獲得的值被定義為形成在樣品基底上的薄膜的光密度。使用接觸型表面粗糙度計P-10(由KLATenkor公司製造)，測量形成在用於測量透射光密度的樣品上的膜的厚度。從透射光密度測量結果和膜厚度之間的關係，獲得實施例和比較例的黑底厚度的光密度(OD)。3.反射率使用分光光度計(商品名是U-560，由JASCOCo.製造)和反射率測量裝置(商品名ARV-474，由JASCOCo.製造)組合形式的測量裝置，從玻璃襯底的未塗布表面側測量各個遮光膜的反射率(％)。入射角和反射角為5°，並且測量波長為500nm。隨後，將測量之後的各個遮光膜與玻璃襯底一起放置在襯底加熱裝置內，並且對於在實施例1至4和比較例1和2，35在220°C烘焙30分鐘，對於實施例5至8中的樣品，在220°C烘焙15分鐘。通過與上述相同的方法，測量烘焙和冷卻之後的各個遮光膜的反射率(%)。表ltableseeoriginaldocumentpage36如表1所示，在實施例中獲得高的光密度，同時能夠抑制加熱(烘焙)所引起的反射率的增加。遮光膜的黑色色調也優異。另一方面，在採用炭黑作為著色劑的比較例1中，厚度增加，而在膜含有銀粒子的比較例2中，不能抑制加熱所引起的反射率的增加，儘管在薄膜中能夠獲得高的光密度。實施例9至12使用在實施例5至8中獲得的光敏轉印材料，對由與在實施例5中的方法相同的方法清潔並且加熱之後的無鹼玻璃襯底，進行層壓處理、轉移處理和曝光處理。在曝光過程中，將臨時載體在載體和熱塑性樹脂層之間的界面剝離，並且使用70mJ/cn^的發光能量對光敏轉印材料進行成圖案式曝光，其中將襯底和掩模(具有圖像圖案的石英曝光掩模)垂直放置，將掩模表面和熱塑性樹脂層的表面之間的距離調節至200pm，並且用鄰接近式對準曝光器(由日立電子工程(HitachiElectronicEngineering)製造)輻照光敏轉印材料。隨後，該光敏轉印材料按如下進行顯影處理(1)顯影h用pHll的10倍稀釋顯影劑(商品名T-PD2，由富士膠片株式會社生產的鹼顯影劑)顯影(33。C，20秒；顯影處理)；(2)顯影2:用pH10.2的5倍稀釋顯影劑(商品名T-CDl，由富士膠片公株式會社生產的鹼顯影劑)顯影(33。C，20秒；顯影處理)；(3)漂洗25。C進行20秒；和(4)乾燥40。C進行60秒。隨後，將光敏轉印材料在乾燥器中於220°C乾燥40分鐘。如上所述那樣，分別製備具有三種遮光膜的襯底。各個遮光膜具有在縱向和橫向上的線寬度都為15)im的點陣圖案，並且窗口部分是長度為270^m並且寬度為80jLim的矩形。由下列方法，通過提供紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)像素，製備出濾色器。使用在JP-ANo.5-34517的實施例1中描述的具有紅色、藍色和綠色層(分別指的是R、G和B層)的轉印材料，將紅色轉印材料的光敏樹脂層的表面堆疊在襯底具有遮光膜的一側上，以使前者表面與後者表面緊密接觸。使用層壓機(商品名LamicII，由日立工業公司(HitachiIndustriesCo.)製造)，在130°C的橡膠輥溫度、100N/cm的線壓力為以及2.2m/分鐘的傳輸速度的條件下，將兩個表面層壓(層壓處理)。然後，將PET臨時載體剝離(轉印處理)。隨後，使用高壓汞蒸氣燈，通過掩模，在200mJ/cn^的發光能量下，從其上轉移具有遮光膜的襯底的光敏樹脂層的那側上將襯底曝光。曝光之後，通過以與在具有遮光膜的襯底的生產過程中的顯影過程(顯影1、顯影2、漂洗和乾燥)相同的過程，對襯底進行顯影。通過上述過程，在具有遮光膜的襯底上，形成紅色像素(R像素)。隨後，通過與形成R像素相同的方法，分別使用紅色和綠色轉印材料形成藍色和綠色像素(分別為B和G像素)。這樣製備出含有R、B和G色像素的三種像素以及分別將有色像素分隔的遮光膜的濾色器。評價2如下評價如上獲得的各個濾色器。4.色調的評價用肉眼觀察具有遮光膜的襯底的遮光膜的色調。每一個遮光膜都具有優異的黑色色調。5.氣泡的評價在光學顯微鏡(放大倍數200倍)下，觀察每一個濾色器的100個紅色像素，並且如果有，就證實像素中有氣泡。每一濾色器都不含氣泡。日本專利申請2005-270872的全部內容通過弓i用結合在此。為了說明和描述，已經提供了本發明實施方案的前面描述。其意圖並不是窮盡性的，或將本發明限於此處公開的精確形式。顯然，對於本領域中的技術人員將有很多改進和變化。實施方案的選擇和描述是為了最好地解釋本發明的原理及其實踐應用，由此使本發明的技術人員能夠對於各種實施方案理解本發明，並且能夠具有各種適合於特殊使用預期的變化。意圖是本發明的範圍由後附權利要求和它們的等價內容限定。在本說明書中提及的所有出版物、專利申請和技術標準都通過引用結合在此，其程度就好像各個單獨的出版物、專利申請或技術標準被具體並且單獨地說明，從而通過引用結合一樣。權利要求1.一種光敏組合物，其包含含有合金部分和單體的粒子，其中在將所述光敏組合物形成膜之後，所述膜按每1μm幹膜厚度計具有2.0以上的光密度。2.權利要求1的光敏組合物，其中所述粒子包含合金部分和金屬部分。3.權利要求1的光敏組合物，其中所述合金部分包含多種選自金、銀、銅、鈀、鉤、錫和鈦中的金屬。4.權利要求l的光敏組合物，其中所述粒子的數均粒徑在60至3000nm的範圍內。5.權利要求1的光敏組合物，其中所述粒子在所述組合物中的體積分數在5至70%的範圍內。6.—種轉印材料，其包含臨時載體和安置到所述臨時載體上的光敏層，其中所述光敏層包含權利要求1的光敏組合物。7.—種遮光膜，其通過將權利要求1的光敏組合物塗敷到襯底上而形成。8.—種遮光膜，其通過將權利要求6的轉印材料的光敏層轉移到襯底上而形成。9.一種顯示裝置用襯底，其包含權利要求7的遮光膜。10.—種顯示裝置用襯底，其包含權利要求8的遮光膜。11.一種顯示裝置用濾色器，其包含權利要求9的顯示裝置用襯底。12.—種顯示裝置用濾色器，其包含權利要求10的顯示裝置用襯底。13.—種顯示裝置，其包含權利要求ll的顯示裝置用濾色器。14.一種顯示裝置，其包含權利要求12的顯示裝置用濾色器。15.—種製備遮光膜的方法，所述方法包括通過將權利要求1的光敏組合物塗敷到襯底上，然後乾燥塗敷的光敏組合物，形成光敏層；通過將所述光敏層進行成圖案式曝光，然後將曝光的光敏層顯影，形成有圖案的圖像；以及將所述有圖案的圖像在150°C或更高的溫度進行5分鐘以上的熱處理。16.權利要求15的用於製備遮光膜的方法，其中所述熱處理在170°C或更高的溫度進行10分鐘以上。17.—種用於製備遮光膜的方法，所述方法包括將權利要求6的轉印材料的光敏層轉移到襯底上；通過將轉移的光敏層進行成圖案式曝光，然後將曝光的光敏層顯影，形成有圖案的圖像；以及將有圖案的圖像在150°C或更高的溫度進行5分鐘以上的熱處理。18.權利要求17的用於製備遮光膜的方法，其中所述熱處理在170°C或更高的溫度進行IO分鐘以上。19.一種遮光膜，其通過採用權利要求15的方法而製備。20.—種遮光膜，其通過採用權利要求17的方法而製備。全文摘要本發明提供一種光敏組合物、使用該光敏組合物的轉印材料和遮光膜及其製備方法、顯示裝置用濾色器、顯示裝置用襯底和顯示裝置，所述光敏組合物包含含有合金部分和單體的粒子，其中在將所述光敏組合物形成膜之後，該膜按每1μm幹膜厚度計具有2.0以上的光密度。文檔編號G03F7/004GK101263424SQ20068003366公開日2008年9月10日申請日期2006年9月14日優先權日2005年9月16日發明者畠山晶申請人:富士膠片株式會社