具有防通氣裝置的還原劑劑量系統的製作方法
2023-05-29 18:13:36 2
專利名稱：具有防通氣裝置的還原劑劑量系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種還原劑劑量系統，並且更特別是涉及一種具有防通氣裝置的還原劑劑量系統。
背景技術：
還原劑劑量系統通常用來減少例如機動和固定發電應用的大型機械中的NOx排放物，在這些大型機械中，要考慮的空間和重量並不是問題。還原劑存儲在位於機械上的罐內，並且隨著機械操作並產生廢氣，還原劑從罐泵送到機械廢氣系統內。還原劑與廢氣在高溫下反應，以便實現廢氣內的NOx的選擇性催化還原(SCR)。劑量系統的公知缺陷與冷凍一些還原劑的相對高的環境溫度(大約12 T )相關。 在還原劑冷凍時，還原劑在劑量系統內膨脹，造成例如噴射器噴嘴的複雜部件損壞和/或堵塞。阻止冷凍的一種方式是在使用之後清潔該系統。為了清潔劑量系統，清潔流體(通常是空氣)被引導經過系統通道和部件，以便將剩餘的還原劑推出系統。Lecea等人的美國專利申請公開文獻No. 2005/0252201 (現在放棄的『201公開文獻)公開一種示例性清潔過程。具體地，『201公開文獻公開一種經由泵和通道連接到廢氣系統的尿素存儲罐。尿素經由位於通道上的噴霧器噴射到廢氣系統內。『201公開文獻還公開一種使用壓縮空氣從泵和噴霧器之間的通道清潔還原劑的清潔系統。在壓縮空氣引入通道之後，空氣和還原劑的混合物流回罐，或者經由噴霧器離開系統。
發明內容
根據一個方面，本發明涉及一種還原劑劑量系統。還原劑劑量系統可包括能夠保持還原劑的罐、劑量裝置以及將罐連接到劑量裝置的供應通道。還原劑劑量系統還可包括能夠將清潔流體引導到劑量裝置和供應通道中的至少一個的清潔裝置，以及能夠允許還原劑經由供應通道從罐到劑量裝置並防止清潔流體進入罐的閥。根據另一方面，本發明涉及一種還原劑劑量系統。還原劑劑量系統可包括能夠保持還原劑的罐、劑量裝置以及將罐連接到劑量裝置的供應通道。還原劑劑量系統還可包括能夠將清潔流體引導到劑量裝置和供應通道中的至少一個的清潔裝置、能夠將劑量裝置連接到罐的第一返回通道、位於罐內並與第一返回通道流體連通且具有到罐的出口的腔室， 以及能夠將腔室與大氣連通的排放部。根據又一方面，本發明涉及一種用於減少還原劑存儲罐內通氣的方法。該方法可包括對還原劑加壓，並且將加壓的還原劑從還原劑存儲罐引導到劑量裝置。該方法還包括對清潔流體加壓，並且引導加壓的清潔流體，以便迫使還原劑回到還原劑存儲罐。該方法可另外包括防止加壓的清潔流體返回到還原劑存儲罐的低於罐內液位的部分。
圖1是示例性公開的功率系統的示意圖2是可用於圖1的功率系統的還原劑源的示意圖；圖3是可用於圖2的還原劑源的閥的截面圖；圖4是可用於圖1的功率系統的替代還原劑源的示意圖；以及圖5是另一示例性公開的功率系統的示意圖。
具體實施例方式圖1表示示例性功率系統5，其具有能夠產生廢氣流的發動機306，以及能夠將還原劑引入發動機的廢氣流以影響減少NOx排放物的化學反應的劑量系統10。在一個實施方式中，劑量系統10可以是尿素劑量系統，尿素劑量系統將尿素溶液噴射到發動機306的廢氣系統12內，以影響選擇性催化還原(SCR)。尿素溶液可包括水(H2O)和尿素((NH2)2CO)。 在高於大約250°C的溫度下，該溶液分解成用來將發動機306的廢氣流中的NOx (NO和NO2) 轉換成氮(N2)和水的氨(NH3)。劑量系統10可包括泵送裝置15、劑量裝置20和清潔裝置 25。泵送裝置15可操作以便將加壓還原劑輸送到劑量裝置20，從而通過劑量裝置20對廢氣系統12按劑量供給(dosing)。清潔裝置25可操作，從而選擇性地清潔泵送裝置15和/ 或劑量裝置20的殘留還原劑。泵送裝置15可包括對還原劑加壓並將還原劑引導到劑量裝置20的部件。特別是， 泵送裝置15可包括泵30、還原劑源35和過濾器40。泵30可在通道42內產生還原劑流， 通道42流體連接到還原劑源35、過濾器40和劑量裝置20。泵30可以是計量泵，例如隔膜泵、活塞泵或旋轉泵。還原劑源35可以是用於存儲還原劑的低壓罐。過濾器40可以是能夠從還原劑流中移除冰晶體和/或碎片的裝置。隨著泵30從還原劑源35抽吸還原劑並經由通道42朝著劑量裝置20推送還原劑，還原劑的一部分會冷凍或已經被冷凍。這種冷凍的還原劑會在過濾器40處在泵30的上遊收集。劑量裝置20可包括將還原劑噴射到發動機306的廢氣系統12內的部件。特別地，劑量裝置20可包括經由通道70流體互連的壓力源45、壓力調節器50、控制閥55、止回閥60和分配裝置85。壓力源45可包括能夠對例如空氣的清潔流體加壓的泵，和/或能夠容納加壓流體的容器。壓力源45可經由通道70將加壓流體朝著分配裝置85引導。壓力調節器50可機械地保持通道70內的壓力適用於通過分配裝置85進行還原劑按劑量供給。控制閥55可以是任何適當的閥，例如能夠在打開位置和關閉位置之間運動的螺線管致動和彈簧偏置的控制閥。在打開位置上，控制閥55可選擇性地使得流體流從壓力源45經過通道70流到分配裝置85，並且在關閉位置上，選擇性地防止流過通道70。止回閥60可以幫助確保還原劑單向流過通道70。止回閥60可以是任何適當的閥，例如球形止回閥。分配裝置85可以將還原劑分配到廢氣系統12中。通過分配裝置85分配的還原劑可有助於減少NOx排放物的化學反應。清潔裝置25可以被控制，以便選擇性地從劑量系統10的部件中清潔還原劑。清潔裝置25可包括傳感器115、控制閥120、控制閥125、止回閥130和與傳感器115以及控制閥55、120和125通訊的控制器135。控制器135可以經由電線137進一步與泵30通訊。 如果希望，控制器135還可連接到劑量系統10的其他部件，例如與發動機306的廢氣系統 12熱接觸的溫度傳感器。響應於來自傳感器115和/或溫度傳感器的輸入，控制器135可選擇性地影響泵30以及控制閥55、120和125的操作。控制器135可以是本領域公知的用於自動執行機械程序的任何類型的可編程邏輯控制器，例如發動機控制單元(ECU)。傳感器115可布置在通道70內，並且可以是用於測量其中流體的壓力的任何適當的傳感器。傳感器115可以經由電線140電連接到控制器135，以便為控制器135提供作為輸入的指示通道70的壓力的數值。在傳感器115報告不適用於劑量系統10操作的壓力數值時，控制器135可經由電線145使得控制閥55從打開位置朝著關閉位置運動，由此防止流體流過通道70。控制閥120和止回閥130可流體布置在將通道70連接到通道42的通道150內。 控制閥120可類似於控制閥55，並且可選擇性地允許和防止加壓空氣流過通道150。控制閥120的操作可經由電線155通過控制器135調節。止回閥130可類似於止回閥60，並有助於確保清潔流體從壓力源45朝著泵30的入口單向流過通道150。控制閥125可類似於控制閥55和120，並且可選擇性地允許和防止清潔流體和還原劑經由通道160從分配裝置85返回流到還原劑源35。控制閥125的操作可以經由電線 165通過控制器135調節。通道160的尺寸可在一個實施方式中大於通道42，以便需要較小的壓力來產生流動。如圖2所示，還原劑源35可總體體現為罐32，罐32具有入口 290和出口 34，並能夠保持還原劑。在一個例子中，入口 290和出口 34都位於罐32的上部(即高於罐32內的液位36的部分)。入口 290能夠將通道160與罐32的上部連通，使得在清潔事件的過程中返回到還原劑源35的清潔流體和還原劑的混合物進入罐32。出口 34能夠經由通道295 將通道42與位於罐32的下部(即低於罐32內的液位36的部分)的閥200連通。在一個實施方式中，過濾器或過濾器元件300可與通道295的位於罐32的下部的端部相關聯。出口 34可在劑量事件的過程中使得還原劑通過泵30經由過濾器元件300從罐32抽吸，並且在清潔事件的過程中使得還原劑和清潔流體返回到罐32。在清潔事件的過程中，加壓清潔流體和還原劑的混合物可在罐32的上部內收集。 如果沒有考慮到，這種混合物會將罐32的上部內的總體壓力增加到希望程度以上。通過包含能夠將加壓氣體從罐32釋放到大氣的排放出口 M0，劑量系統10可有助於防止罐32內的壓力達到極限。排放出口 240可位於上部處，例如在罐32的上表面，並且通過彈簧加載的排放帽250封閉。通過這種構造，在罐32內的壓力達到預定程度時，彈簧加載的排放帽 250可克服彈簧的偏置運動，從而將加壓氣體釋放到大氣。替代地，如果希望，類似的排放出口配置可以手動釋放、根據來自計時器的輸入釋放或者通過傳感器、控制器和/或電子器件的使用來釋放。為了有助於減少彈簧加載的排放帽250的打開過程中釋放到大氣的氣態還原劑的量，還原劑源35可包括在罐32的液位36的上方位於入口 290處並與排放出口 240流體連通的總體封閉的腔室230。如上所述，清潔流體和殘留還原劑的混合物會在清潔事件的過程中經由入口 290進入罐32和腔室230。隨著這種混合物進入腔室230，液體還原劑會與混合物分離，並且通過重力抽吸，從而經由出口 270離開腔室230，同時與混合物分離的氣體(即清潔流體和/或氣態還原劑)可以經由排放出口 240離開腔室230。為了促使液體還原劑從腔室230經由出口 270流動，腔室230可包括定位在入口 290下方的一個或多個傾斜壁，以便朝著出口 270引導液體還原劑。在一些情況下，返回的清潔流體/還原劑混合物會以這樣的速度和/或力進入腔室230使得不希望的混合物量朝著能夠離開罐32進入大氣的排放出口 240偏離傾斜壁。為了防止還原劑的這種不希望的排放，飛濺減小元件220可被定位成減緩從入口 290進入腔室230的還原劑的流動。飛濺減小元件220可在入口 290的下方總體定位在腔室230的傾斜壁上。飛濺減小元件220可包括由包括塑料、PVC、鋁、鋼及其組合的材料製成的網狀或多孔表面。在清潔事件的過程中，殘留的還原劑和清潔流體也可經由通道42和295返回到罐 32。如果允許在浸沒在罐32的液位36以下的位置處直接進入罐32，則任何進入罐32的清潔流體(空氣)會在罐32內造成氣泡，導致罐32內的還原劑的退化。與返回通道201相關的閥200可防止清潔流體返回到罐32的底部。返回通道201可在閥200處從通道295 分支，並且延伸到罐32的上部。在所示實施方式中，返回通道201可經由入口 280延伸到腔室230內。如圖2和3所示，閥200可總體體現為分解器，其具有主體206和布置在主體206 內並能夠在兩個隔開的端部位置之間運動的閥元件204。特別地，閥元件204可從第一位置朝著第二位置運動，在第一位置上，閥元件204接合第一閥座208以便在清潔事件的過程中防止流體從通道295流過閥200，在第二位置上，在劑量事件的過程中，流體可從罐32流過閥200到通道295和42。在閥元件204位於第一位置時，經由通道42返回罐32的流體 (即還原劑和清潔空氣)也可以進入罐32，但是僅僅直接到其上部，從通道295到返回通道 201並進入腔室230。以此方式，基本上沒有清潔流體可經由閥200直接進入罐32的底部。如圖3的例子所示，閥元件204可體現為球元件，雖然例如提升閥或線軸元件的其它結構也是可以的。作為球元件，第一閥座208可總體體現為能夠在第一位置上接收閥元件204的凹形錐形閥座。在位於所述的第二位置時，閥元件204可接合具有相關旁通凹槽 202的非密封的第二閥座210。旁通凹槽202可以被構造成使得即使閥元件204可以貼靠第二閥座210，還原劑也可在劑量事件的過程中通過旁通凹槽202從罐32流到通道295和 42。圖4表示還原劑源35的替代實施方式。在此實施方式中，螺線管閥215可代替閥 200。螺線管閥215可總體具有第一狀態和第二狀態，在第一狀態下，還原劑可在劑量事件的過程中從罐32的下部流過通道295和42，並且在第二狀態下，在清潔事件的過程中，經由通道160返回到罐32的還原劑和清潔流體可經由入口 280直接進入腔室230。如果希望， 設想到螺線管閥215可編程，以便在第一狀態和第二狀態之間自動轉換，或者手動調節。圖5表示主要用於例如固定發電應用的固定應用的劑量系統10的替代實施方式。 類似於圖1的劑量系統10，圖5的劑量系統10可包括泵送裝置15、劑量裝置20、清潔裝置 25和泵送裝置25。但是，與圖1的實施方式相比，圖5的泵送裝置25可包括不同的配閥構造，以有助於遠程罐90的使用。特別地，除了所述的控制閥55之外，清潔裝置25可包括補充控制閥92和劑量控制閥94。控制閥120和125可以從圖5的清潔裝置25中省略。補充控制閥92可定位成選擇性地控制通過通道96從遠程罐90向罐32填充還原劑。劑量控制閥94可定位成選擇性地控制經過通道160的流體流，由此控制通道42內的壓力累積，以及隨後的清潔事件的啟動。遠程罐90可通過通道96流體連接到罐32，從而為罐32補充還原劑。在大多數應用中，遠程罐90可具有比罐32大的容量，並且如果希望，甚至同時連接到不同劑量系統10的多個罐32。在一個實施方式中，例如低壓傳送泵98的壓力源可與遠程罐90相關聯， 以便對還原劑加壓，並由此形成從遠程罐90到罐32的還原劑流。設想到泵98可以連續操作，或者只響應於罐32內的液位來操作。替代地或另外地，如果希望，還原劑流可以通過重力來輔助(即遠程罐90可在重力學角度上定位成高於罐32，使得重力造成或增強還原劑流到罐32)。在一些情況下，具有布置其中的例如止回閥102的閥的旁通線100可以連接在通道96和遠程罐90之間，使得在罐32不需要補充時，通過泵98加壓的還原劑返回到遠程罐 90。補充控制閥92可以是螺線管致動的導引操作的控制閥，其具有流體連接到第二閥元件106的第一閥元件104。第一閥元件104可以是螺線管致動的，從而克服彈簧偏置在第一位置和第二位置之間運動，在第一位置上，來自壓力源45的加壓空氣(或另一種流體)被引導，從而運動第二閥元件106，並且在第二位置上，加壓空氣從第二閥元件106釋放。在加壓空氣被引導到第二閥元件106時，第二閥元件106可運動到還原劑經過位置，在該位置上，通過泵98加壓的還原劑可以被引導，從而對罐32補充。在加壓空氣從第二閥元件106釋放時，第二閥元件106可朝著還原劑阻斷位置被彈簧偏置。在一個例子中，第一閥元件104的啟動以及隨後的第二閥元件106的操作可以響應於來自與罐32相關聯的液位傳感器108的信號通過控制器135觸發。類似於補充控制閥92，劑量控制閥94可體現為螺線管致動的導引操作的控制閥， 其具有流體連接到第二閥元件112的第一閥元件110。第一閥元件110可以是螺線管致動的，從而克服彈簧偏置在第一位置和第二位置之間運動，在第一位置上，來自壓力源45的加壓空氣(或另一種流體)被引導，從而運動第二閥元件112，並且在第二位置上，加壓空氣從第二閥元件112釋放。加壓空氣被引導到第二閥元件112時，第二閥元件112可運動到還原劑旁通位置，在該位置上，通過泵30加壓的還原劑可以被引導回到罐32而不是引導到分配裝置85。通過將還原劑引導回到罐32，壓力不能在通道42內累積，由此防止分配裝置 85噴射。在加壓空氣從第二閥元件112釋放時，第二閥元件112可朝著還原劑阻斷位置被彈簧偏置。在位於還原劑阻斷位置時，通過泵30運動的還原劑的壓力可在通道42內累積， 並由此有助於分配裝置85噴射。工業實用性本發明的還原劑劑量系統可用於其中還原劑的冷凍和系統堵塞成為問題的任何功率系統應用中。本發明的還原劑劑量系統可通過提供清潔能力減小冷凍和/或堵塞的可能性。本發明的還原劑劑量系統還可顯著地減小相關罐的還原劑內出現的發泡現象，以及造成的氣態還原劑到大氣的釋放。現在將描述劑量系統10的操作。對於圖1的實施方式，還原劑劑量可以在廢氣系統12內的溫度超過例如大約 250°C的閾值溫度時開始，從而執行選擇性催化還原。在廢氣溫度超過閾值溫度時，控制器 135可將控制閥55運動到其通流位置，並同時造成泵30對還原劑加壓，使得空氣和還原劑分別經由通道70和42朝著分配裝置85流動。此時，控制閥120和125可保持在或運動到阻斷經過通道150和160的流動的位置。在這種情況下，加壓空氣和還原劑流可以通過分配裝置85噴射或以其它方式注射到廢氣系統12。隨著發動機306產生廢氣，經由分配裝置85從罐32引導到廢氣系統12的還原劑可在高溫下與廢氣內所含的NOx反應，進行NOx的選擇性催化還原(SCR)。劑量系統10可以此方式使用，以便減少例如用於機車應用的發動機的大型發動機中的NOx排放物。在廢氣系統12內的溫度落到閾值溫度以下時，可以停止劑量，並開始清潔。一旦清潔開始，控制器135可防止發動機306關斷，直到清潔過程完成為止。替代地，如果希望，發動機306可完全關斷，並且隨後可以開始清潔過程。可以開始清潔來防止劑量部件由於冷凍或隨著廢氣系統12冷卻形成聚合物所造成的損壞和/或堵塞。清潔過程可以通過控制器135將控制閥120和125運動到其通流位置並通過防止泵30操作來啟動。在控制閥120位於其通流位置時，來自壓力源45的加壓清潔流體可以被引導經過通道150和42到還原劑源35。在控制閥125也運動到其通流位置時，被引導經過控制閥120和通道150和42的加壓清潔流體流也可同時被引導經過泵30， 並接著經由控制閥125和通道160回到還原劑源35，和/或經過泵30並接著經過分配裝置 85進入廢氣系統12，從而從這些部件推出還原劑。在清潔過程中，加壓清潔流體可經由通道70進入分配裝置85，並且在分配裝置85內和殘留還原劑一起被重新引導經過通道42、 控制閥125和通道160返回到還原劑源35。如果希望，設想到控制閥120和125可以在清潔過程中同時運動到其通流位置，或者在不同時刻選擇性地運動到通流位置。對於圖2，經由通道160返回到還原劑源35的清潔流體和還原劑可通過入口 290 進入腔室230。從此，返回的流體可與飛濺減小元件220相互作用，並且經由腔室出口 270 進入罐32。飛濺減小元件220可有助於減小返回還原劑不希望地朝著排放部240偏轉並排放到環境的可能性。經由通道42返回到還原劑源35的清潔流體和還原劑可經由入口 34 進入罐32，並經由通道295朝著閥200流動。在清潔過程中，閥元件204可通過返回流體的壓力貼靠第一閥座208移動，從而阻斷流體排放在罐32內的液位36下方，而且替代地使流體轉向經過返回通道201，從而在該液位上方且在腔室230內排放。在隨後的劑量事件過程中，閥元件204可通過流體壓力返回到貼靠第二閥座210的通流位置，在該位置，通過泵 30的操作經由過濾器元件300抽吸的還原劑可經由旁通凹槽202經過閥元件204(參考圖 3)，並經由通道295進入通道42。對於圖4的實施方式，在清潔過程中經由通道42返回到還原劑源35的清潔空氣和還原劑可經由螺線管閥215和返回通道201直接流到腔室230。如上所述，螺線管閥215 在清潔過程中可運動到其第二位置，並且接著在隨後劑量事件過程中通過彈簧偏置返回到其第一位置。在位於第一位置時，流體可通過泵30經由過濾器元件300、通道四5、螺線管閥215和通道42抽吸。對於圖5的實施方式，還原劑劑量可以在類似於以上描述的情況下開始(即在廢氣系統12內的溫度超過大約250°C )，從而進行選擇性催化還原。特別地，在廢氣系統12 的溫度超過閾值溫度時，控制器135可將控制閥55運動到其通流位置，並同時激勵劑量控制閥94的第一閥元件110，造成第二閥元件112運動到其第二或流動阻斷位置。在控制閥 55和第二閥元件112都位於其流動阻斷位置時，加壓空氣和還原劑可經由通道70和42流到分配裝置85，從而通過分配裝置85噴射。在劑量事件的過程中，在還原劑源35內的通過液位傳感器108監控的還原劑高度落到預定高度以下時，控制器135可激勵補充控制閥92 的第一閥元件104，以便將第二閥元件106運動到其通流位置，在該位置來自遠程罐90的補充還原劑流入還原劑源35。在廢氣系統12內的溫度落到閾值溫度以下時，可以停止劑量，並開始清潔。為了開始圖5所示的劑量系統10的清潔，控制器135可停止激勵劑量控制閥94的第一閥元件 110，使得第二閥元件112被彈簧偏置到其第一或通流位置。此時，控制閥55也可位於或運動到其通流位置，使得來自壓力源45的加壓空氣可經由通道70流入分配裝置85，並且與殘留還原劑流一起經過通道42、第二閥元件112和通道160返回到罐32的腔室230。在圖5 的實施方式中，清潔流體不能經過泵30。在一個例子中，補充控制閥92的第二閥元件106 可以在清潔過程中被保持在其流動阻斷位置，使得清潔流體也不流到遠程罐90。
本領域的普通技術人員將明白可以對公開的劑量系統進行多種改型和變型。本領域普通技術人員從說明書的考量和公開的劑量系統的實施中將明白其他的實施方式。所打算的是該說明書和例子只作為示例性考慮，而本發明的真實範圍通過下面的權利要求及其等同物來指明。
權利要求
1.一種還原劑劑量系統(10)，包括 罐(35)，能夠保持還原劑；劑量裝置(20)；供應通道(42)，將所述罐連接到所述劑量裝置；清潔清洗裝置0 ，能夠將清潔流體引導到所述劑量裝置和所述供應通道中的至少一個；以及閥(200)，能夠允許還原劑經由所述供應通道從所述罐到所述劑量裝置，並且防止清潔流體進入所述罐。
2.根據權利要求1所述的還原劑劑量系統，其中所述閥包括兩個相對的閥座(208、 210)和一個閥元件004)，所述閥元件(204)能夠在第一位置和第二位置之間運動，在所述第一位置，所述閥元件(204)貼靠所述兩個相對的閥座中的第一個以防止清潔流體進入所述罐，在所述第二位置，所述閥元件(204)貼靠所述兩個相對的閥座中的第二個以允許還原劑從所述罐到所述供應通道。
3.根據權利要求2所述的還原劑劑量系統，其中所述閥還包括位於所述兩個相對的閥座中的第二個處的凹槽O02)；所述凹槽能夠在所述閥元件位於所述第二位置時使得還原劑旁通所述閥元件；以及所述閥能夠在所述閥位於所述第一位置時防止清潔流體進入所述罐的低於液位的部分。
4.根據權利要求3所述的還原劑劑量系統，還包括第一返回通道001)，將所述供應通道連接到所述罐的所述液位以上的部分； 入口，其位於所述罐的所述液位以下並經由所述閥流體聯接到所述第一返回通道和所述供應通道兩者上；以及過濾器元件(300)，位於所述入口處。
5.根據權利要求4所述的還原劑劑量系統，還包括排放室(230)，位於所述罐的所述液位以上，並且流體聯接到所述第一返回通道；以及第二返回通道(160)，將所述劑量裝置連接到所述排放室。
6.一種減小還原劑存儲罐(3 內通氣的方法，包括 對還原劑加壓；將加壓的還原劑從所述還原劑存儲罐引導到劑量裝置00)； 對清潔流體加壓；引導加壓的清潔流體，迫使還原劑回到所述還原劑存儲罐；以及防止所述清潔流體返回到所述還原劑存儲罐的低於所述還原劑存儲罐內存在的液位的部分。
7.根據權利要求6所述的方法，還包括將返回的清潔流體經由所述還原劑存儲罐的低於所述液位的部分引導到所述還原劑存儲罐的高於所述液位的部分。
8.根據權利要求7所述的方法，還包括將返回的清潔流體引導到所述還原劑存儲罐的高於所述液位的部分。
9.根據權利要求8所述的方法，還包括將清潔流體從所述還原劑存儲罐排放到大氣。
10.根據權利要求8所述的方法，還包括減少來自返回的清潔流體的飛濺。
全文摘要
公開一種用於機械(5)的還原劑劑量系統(10)，該機械具有發動機(306)和廢氣系統(12)。還原劑劑量系統具有被構造成保持還原劑的罐(35)、劑量裝置(20)和將罐連接到劑量裝置的供應通道(42)。還原劑劑量系統還具有被構造成將清潔流體引導到劑量裝置和供應通道中的至少一個的清潔裝置(25)和被構造成允許還原劑從罐到供應通道並防止清潔流體進入罐的閥(200)。
文檔編號F01N3/36GK102325972SQ201080008741
公開日2012年1月18日 申請日期2010年2月16日 優先權日2009年2月20日
發明者R·B·格吉斯, S·D·魯曾布姆, S·P·西亞加拉簡, S·瑪帕拉普, T·O·威拉斯奎茲, Y·T·伯伊, 孫金輝 申請人:卡特彼勒公司