乾燥塗布膜的方法和製造平版印刷版前體的方法

2023-05-30 02:15:36 4

專利名稱：乾燥塗布膜的方法和製造平版印刷版前體的方法
技術領域：
本發明涉及乾燥塗布膜的方法和製造平版印刷版前體((lithographicprinting plate precursor)的方法，特別涉及乾燥塗布膜的方法，其包括下列步驟將塗布膜乾燥至 乾燥點，所述塗布膜包括塗布於輸送的支持體之上的含有高沸點溶劑的塗布液體；然後在 乾燥箱內，在用蒸汽噴嘴向所述塗布膜噴霧沸點低於所述高沸點溶劑的沸點的溶劑的蒸汽 的同時，乾燥所述高沸點溶劑。本發明還特別涉及製造平版印刷版前體的方法。
背景技術：
近年來，使用計算機以電子處理圖像信息的數位化技術已廣為傳播，支持這樣的 數位化技術的製版技術已投入實際使用。具體地，根據數位化圖像信息調節高方向性的光 (比如雷射束)，用該雷射束掃描並照射平版印刷版的原版。因而，不通過製版膠片，用於直 接製造印刷版的計算機直接製版(computer to plate, CTP)技術已投入實際使用。因此， 對適合於這樣的CTP技術的所謂的數字直接平版的需求增大。這樣的數字直接平版的實例包括用於紅外雷射的陽圖型(positive type)平版印 刷版前體。用於紅外雷射的陽圖型平版印刷版前體通常通過下述方法製造將作為光敏層 的塗布液體塗布於支持體(比如鋁板)上，然後通過使用加熱器或向塗布液體上噴霧熱空 氣來加熱塗布液體，將塗布液體乾燥。這裡，從平版印刷版前體的質量的角度來看，優選盡 可能地乾燥並除去光敏層中包括的溶劑。關於乾燥方法，通常使用採用熱空氣的方法，不限於平版印刷版前體的情況。近年 來，已提出使用含有溶劑的蒸汽的熱空氣的乾燥方法。專利文獻1公開了這樣的乾燥方法， 其使用過熱蒸汽連續乾燥包括水分的待乾燥物體。專利文獻2公開了印刷方法，其中通過 向片材上的印刷油墨施加高溫下的過熱蒸汽，加熱並乾燥印刷油墨從而調節片材的水分含 量。專利文獻3公開了使用過熱蒸汽乾燥食品的方法。專利文獻1 國際專利申請No. 1997-502252的日本國家公開專利文獻2 日本專利申請未審公開No. 2002-19310專利文獻3 日本專利申請未審公開No. 2002-33327
發明內容
技術問題然而，專利文獻1到3的方法已出現問題，當通過將包括高沸點溶劑的塗布液體塗 布於輸送的支持體上，將塗布膜乾燥至乾燥點，然後在乾燥箱內用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧 沸點低於所述高沸點溶劑的沸點的溶劑的蒸汽的同時將所述高沸點溶劑乾燥而形成塗布 膜時，在外圍裝置中或產品表面上產生外觀和性能故障。本發明考慮這樣的情形而完成。本發明的目的在於提供乾燥塗布膜的方法和製造 平版印刷版前體的方法，即使在乾燥箱內用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於所述塗布液體 的溶劑的沸點的溶劑的蒸汽的同時將所述塗布液體的溶劑乾燥，也能抑制產品表面上產生的異常外觀和性能故障。技術方案為了實現上述目的，根據本發明第一方面的乾燥塗布膜的方法是包括下列步驟的 乾燥塗布膜的方法將塗布膜乾燥至乾燥點，所述塗布膜通過將含有高沸點溶劑的塗布液 體塗布於輸送的支持體之上而形成；然後在乾燥箱內用蒸汽噴嘴向所述塗布膜噴霧沸點低 於所述高沸點溶劑的沸點的溶劑的蒸汽的同時乾燥所述高沸點溶劑，其中在乾燥箱內加熱 所述支持體至預定溫度T，並輸送所述支持體。本發明的發明人在乾燥箱內用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於所述高沸點溶劑 的沸點的溶劑的蒸汽的同時將高沸點溶劑乾燥的情形下獲得下列知識。即，在塗布膜中的 溶劑在過熱水蒸汽的氣氛下快速除去的情形下，過熱水蒸汽的濃度越高，過熱蒸汽除去溶 劑的能力越強。另一方面，當過熱水蒸汽的濃度較高時，過熱水蒸汽在膜表面上冷凝的風險 增大。當發生冷凝時，塗布膜的表面變粗糙，產品表面上產生異常外觀和性能故障。相似地， 在乾燥箱內的有機溶劑氣氛下，蒸汽的濃度越高，低沸點溶劑的蒸汽除去溶劑的能力越強。 然而，蒸汽的濃度過高不利地引起低沸點溶劑被膜吸收，降低乾燥速度。因此，在乾燥箱內用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於塗布液體的溶劑的沸點的溶 劑的蒸汽的同時將塗布液體的溶劑乾燥的情形下，有必要在防止冷凝的同時使乾燥能力最 大化。所以，測量支持體進入乾燥箱之前的支持體溫度，調節支持體溫度以避免冷凝。然 後，將支持體輸送到乾燥箱。關於調節溫度的方法，可以考慮在乾燥箱的入口使用加熱輥加 熱的方法、噴霧熱空氣的方法、通過使用紅外輻射的輻射熱加熱的方法、加熱板等。根據第一方面，加熱支持體以在乾燥箱內具有預定溫度T，並輸送支持體，從而可 以抑制因塗布膜上的冷凝引起的產品表面上的異常外觀和性能故障。根據本發明的第二方面，在第一方面中，加熱乾燥箱的內壁。在第二方面中，乾燥箱受熱的內壁可以防止溶劑的蒸汽冷凝產生的液滴附著於內 壁或蒸汽噴嘴上。因此，可以抑制因冷凝的液滴掉落並附著在塗布膜上引起的產品表面上 的異常外觀和性能故障，並抑制因液滴附著於外圍裝置引起的設備故障。在加熱內壁的方法中，在通過用於乾燥的熱空氣加熱內壁的同時，優選通過使用 通過隔熱材料防止熱消散的隔熱結構、內壁和外壁之間具有真空的真空隔熱結構、在乾燥 區的內壁和外壁之間通過溫水或蒸汽的雙壁結構、通過電熱絲主動加熱內壁的結構等來防 止水滴附著在乾燥箱的內壁上。根據本發明的第三方面，在第一或第二方面，將支持體和乾燥箱加熱至(預定溫 度T-5(°C))或更高的溫度。在第三方面，由於將支持體和乾燥箱加熱至(預定溫度T-5CC ))或更高的溫度， 可以抑制塗布膜上的冷凝，由於乾燥箱內冷凝的液滴掉落和附著於塗布膜上引起的產品表 面上的異常外觀和性能故障，和液滴附著於外圍裝置上引起的設備故障。這裡，預定溫度T(°C)優選為T= 16XX°_286，其中乾燥箱內提供的蒸汽的量為 X(g/m3)。該等式是用於計算飽和蒸氣壓的Wagner-Pruss等式的變形。根據本發明的第四方面，在第一到第三表面的任意一項中，將乾燥箱中支持體的 入口和出口密封。
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在第四方面，可以防止蒸汽從乾燥箱洩漏，並防止溶劑的蒸汽因外面吹來的冷空 氣冷凝。關於防止蒸汽洩漏和外面的空氣吹入的方法，優選使用通過熱空氣氣封乾燥箱中 支持體的入口和出口的方法、或通過輥或擋風板防止蒸汽洩漏的方法。在氣封的情形下，優 選地，乾燥空氣的露點為5到15°C，空氣速度不小於5m/s。根據本發明的第五方面，在第一到第四方面的任意一項中，蒸汽噴嘴隔熱。在第五方面，由於蒸汽噴嘴隔熱，防止了液滴附著於蒸汽噴嘴上。因此，可以抑制 因液滴附著於塗布膜上引起的產品表面上的異常外觀和性能故障，並抑制因液滴附著於外 圍裝置上引起的設備故障。根據本發明的第六方面，在第一到第五方面的任意一項中，隨後將噴霧於塗布膜 的過熱蒸汽排出至乾燥箱中設置的排氣系統。在第六方面，優選將過熱水蒸汽排出至排氣系統，以免和支持體一起排出至乾燥 箱的外面。這是因為當過熱水蒸汽和支持體一起排出至乾燥箱的外面時，過熱水蒸汽成為 水滴，引起產品表面上的異常外觀和性能故障。根據本發明的第七方面，在第一到第六方面的任意一項中，在乾燥箱內設置與所 述支持體接觸的加熱輥以加熱支持體。在第七方面，由於輸送至乾燥箱的支持體在乾燥箱內加熱，可升高支持體的溫度 以防止支持體上的冷凝。根據本發明的第八方面，在第一到第七方面的任意一項中，將乾燥箱設置為支持 體上的塗布膜表面豎直或朝下地通過乾燥箱，將蒸汽噴嘴設置於從塗布膜下向塗布膜噴霧 溶劑的蒸汽的位置。在第八方面，即使液滴附著於蒸汽噴嘴上，也可以避免水滴附著於支持體上，從而 防止產品表面上的異常外觀等。根據本發明的第九方面，在第一到第八方面的任意一項中，在乾燥箱的內頂面上， 以近似相等的間隔設置平行於支持體的移動方向的凹槽或溝道。在第九方面，即使液滴附著於乾燥箱的內表面，在乾燥箱的頂部表面上以近似相 等的間隔設置的凹槽或溝道可以防止液滴附著於支持體上。根據本發明的第十方面，在第一到第九方面的任意一項中，溶劑的蒸汽是通過分 離過濾器除去了其含有的液滴和異物的過熱水蒸汽。在第十方面，將轉化成過熱水蒸汽的溶劑的蒸汽用作溶劑的蒸汽，該過熱水蒸汽 含有的液滴和異物通過分離過濾器除去。因此，由於使用通過分離過濾器除去了所含液滴 和異物的過熱水蒸汽進行乾燥，可以有效除去塗布膜的高沸點溶劑。另外，可以抑制因產品 表面上的異物引起的性能故障，並抑制因液滴的附著引起的異常外觀和性能故障。這裡，「乾燥點」表示即使布和塗布液體接觸，塗布液體也不附著於布的狀態，或者 固體濃度不小於60%，優選為70到80%的狀態。這裡，所含的液滴表示霧狀液滴，霧的粒 徑不小於200nm。根據本發明的第十一方面，在第一到第十方面的任意一項中，將過熱蒸汽和熱空 氣混合，並噴霧於塗布膜。在第十一方面也優選將過熱水蒸汽和熱空氣混合併噴霧於塗布膜。本發明的第十二方面是製造平版印刷版前體的方法，該方法使用根據第一到第十一方面任意一項的乾燥塗布膜的方法。通過根據第十二方面使用用於乾燥塗布膜的方法製造平版印刷版前體，可以合適 地製造平版印刷版前體。有利效果 在根據本發明的乾燥塗布膜的方法和製造平版印刷版前體的方法中，在乾燥箱內 用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於塗布液體的溶劑的沸點的溶劑的蒸汽的同時將塗布液 體的溶劑乾燥的情況下，可以抑制產品表面上產生的異常外觀和性能故障。


圖1的圖形顯示了本發明用於實施方案中平版印刷版前體的生產線的基本構造；圖2的圖形顯示了根據本發明的乾燥器的構造實例；圖3的圖形顯示了根據本發明的過熱水蒸汽乾燥單元的構造實例；圖4的圖形顯示了根據本發明的過熱水蒸汽乾燥單元的基本構造；圖5A的圖形顯示了根據本發明的密封過熱水蒸汽乾燥單元的入口和出口的方法 實例；圖5B的圖形顯示了根據本發明的密封過熱蒸汽乾燥單元的入口和出口的方法的
另一實例；圖5C的圖形顯示了根據本發明的密封過熱水蒸汽乾燥單元的入口和出口的方法 的另一實例；圖6的圖形顯示了根據本發明的控制過熱水蒸汽乾燥單元中的支持體的溫度的 方法；圖7的圖形顯示了根據本發明的過熱蒸汽乾燥單元的優選構造；圖8A的圖形顯示了根據本發明的過熱水蒸汽乾燥單元的其他方面；圖8B的圖形顯示了圖8A中優選的蒸汽噴嘴的實例。附圖標記說明10-製造平版印刷版前體的設備，14-表面處理單元，16-塗布液體製備和供給單 元，18-塗布單元(圖像記錄層)，20-乾燥單元(乾燥器)，22-塗布單元(外塗層)，24-幹 燥單元(乾燥器)，28_熱空氣乾燥單元，29-過熱水蒸汽乾燥單元，34、34'-噴嘴，36-排 氣孔，38-熱空氣，40-擋風板，42-輥，44-凹槽或溝道，46-加熱輥，60-熱空氣供給器， 62-軟水器，64-鍋爐，66-分離過濾器，68-過熱水蒸汽發生器，70-減壓閥，72-蒸汽流量 計，80-過熱水蒸汽供給器。
具體實施例方式下面根據附圖描述根據本發明的乾燥塗布膜的方法和製造平版印刷版前體的方 法的優選實施方案。圖1顯示根據本發明的平版印刷版原版的生產線10的實例，下面將描 述該生產線10的實例。在本實施方案中，作為實例描述在平版印刷版前體的生產線中用於 汽化和乾燥成像層塗布膜中含有的揮發性較小的溶劑的乾燥器。然而，本發明不限於該技 術領域，並可用於各種技術領域的乾燥塗布膜的方法。首先描述根據本發明的平版印刷版前體的製造設備10的基本構造。
圖1的圖形顯示本實施方案中平版印刷版的製造設備10的基本構造。在圖1中， 箭頭A顯示支持體16的輸送方向。圖1的平版印刷版前體的圖形生產線10主要包括供應支持體16的供給器12，處 理支持體16的塗布表面的表面處理單元14，在支持體16上塗布成像層的塗布液體(成像 層塗布液體)的塗布單元18，乾燥經塗布的圖像記錄層的乾燥單元20，在成像層上塗布外 塗層的塗布單元22，乾燥外塗層的乾燥單元24，和收卷支持體16的收卷單元26。圖1顯示 的平版印刷版前體的生產線10是一個實例，例如在塗布成像層塗布液體之前可設置塗布 底層的塗布液體(底層塗布液體)的塗布單元。可選地，在外塗層的乾燥單元24之後，可 設置控制外塗層水分的水分控制器。從供給器12供給的支持體16由導輥27、27...等引導，並輸送至各個步驟。首先，在表面處理單元14中，進行支持體16必需的預處理。該預處理包括例 如，為了使成像層和支持體16附著良好並使非圖像區域具有保水能力的脫脂處理；用於 使支持體16的表面變粗糙的表面粗糙化處理(顆粒化處理(graining treatment)等)； 用於在表面上形成氧化塗層以改進支持體16的耐磨性、耐化學性、和保水能力的陽極氧化 處理；和用於改進陽極氧化塗層的塗布強度、親水性、以及和成像層的附著的矽酸鹽處理 (si 1icatetreatment)0塗布單元18是在支持體16的表面上塗布成像層塗布液體的設備。關於塗布方法， 可使用例如滑珠塗布法、簾式塗布法、棒式塗布法、旋轉塗布法、噴霧塗布法、浸漬塗布法、 氣刀塗布法、刮刀塗布法、輥式塗布法等。儘管塗布方法沒有特別限定，但在這些方法中優 選使用滑珠塗布法、簾式塗布法、棒式塗布法等。圖1顯示棒式塗布的情形。乾燥單元20是乾燥支持體16上形成的成像層的設備。乾燥單元20包括根據本 發明的過熱水蒸汽乾燥單元29、位於過熱水蒸汽乾燥單元29前方的熱空氣乾燥單元28、和 位於過熱水蒸汽乾燥單元29後方的冷卻單元30。這裡，塗布的成像層塗布膜含有作為第一 溶劑的揮發性較小的高沸點溶劑。第一溶劑(下面寫作高沸點溶劑)的有效汽化和乾燥對 於平版印刷版前體的質量是重要的。該乾燥單元20 (下面寫作乾燥器20)的詳細構造在後 面描述。塗布單元22是在成像層上形成可溶於水的外塗層以將成像層和氧隔絕並防止成 像層的表面被親油性物質汙染的設備。可溶於水的外塗層可在印刷時容易地除去，並含有 選自可溶於水的有機聚合化合物的樹脂。關於塗布可溶於水的外塗層的方法，可以使用上 面在塗布單元18中提到的相同的方法。塗布了可溶於水的外塗層的支持體16通過乾燥單 元24乾燥。然後，可溶於水的外塗層最終由收卷單元26收卷。下面描述根據本發明的乾燥器20的構造實例。圖2的圖形顯示了根據本發明的乾燥器20的構造。如圖2所示，乾燥器20主要 包括在溶劑的蒸汽的氣氛下乾燥支持體16的過熱水蒸汽乾燥單元29，位於過熱水蒸汽幹 燥單元29的前方對支持體16施加熱空氣以乾燥支持體16的熱空氣乾燥單元28，和位於過 熱水蒸汽乾燥單元29的後方通過冷空氣冷卻支持體16的冷卻單元30。在熱空氣乾燥單 元28、過熱水蒸汽乾燥單元29、和冷卻單元30中形成支持體16進出的開口。每個開口沿 著支持體16的輸送方向具有箱式形狀。熱空氣乾燥單元28和冷卻單元30中設置向支持體16噴霧熱空氣或冷空氣的噴嘴(未顯示)。從而，設置熱空氣乾燥單元28以在將支持體輸送至過熱蒸汽乾燥單元29之 前向支持體16施加熱空氣以乾燥支持體16，設置冷卻單元30以在通過過熱水蒸汽乾燥單 元29乾燥支持體後向支持體16施加冷空氣以冷卻支持體16。對噴嘴的數量和噴嘴的安裝 位置沒有限制。熱空氣乾燥單元28通過熱空氣等將支持體16乾燥至乾燥點(即使布和塗布液體 接觸，塗布液體也不附著於布的狀態、表面光澤度不變的狀態、或固體濃度不小於60%，優 選為70到80%的狀態)。在本發明中，然後，加熱支持體16以使其在過熱水蒸汽乾燥單元29的乾燥箱32 內具有預定溫度T，並輸送支持體16。這是因為在在乾燥箱32內用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於塗布液體溶劑的溶 劑的蒸汽的同時將塗布液體溶劑乾燥的情形下，必須在防止冷凝的同時保證乾燥能力最 大。然後，測量支持體進入乾燥箱32之前的溫度，並調節溫度以避免冷凝，並將支持體輸 送至乾燥箱32。這裡，關於溫度的調節方法，儘管未顯示，但在乾燥箱的入口可設想採用通 過加熱輥加熱的方法、噴霧熱空氣的方法、通過使用紅外輻射的輻射熱加熱的方法、加熱板寸。通過在塗布於支持體16的成像層塗布膜附近向塗布膜表面噴霧溶劑的蒸汽，過 熱水蒸汽乾燥單元29可以汽化並乾燥成像層塗布膜中包括的高沸點溶劑。這裡，在本實施 方案中，將過熱水蒸汽用作溶劑的蒸汽。圖3的示意圖顯示向過熱水蒸汽乾燥單元29供給水溶劑的蒸汽的過熱水蒸汽供 給器80的實例。首先，將通過軟水器62的水供給鍋爐64，通過鍋爐64將供給的水變成水 蒸汽。通過分離過濾器66從水蒸汽除去異物，然後，經減壓閥70通過過熱水蒸汽發生器68 將水蒸汽變成過熱水蒸汽。通過蒸汽流量計72將水蒸汽調節至所需流速，並供給過熱水蒸 汽乾燥單元29。這裡，例如，由Miura Co.，Ltd.製造的簡化直通蒸汽鍋爐ME-40可合適地 用作鍋爐64。由TLV Co. , Ltd.製造的分離過濾器SF-1可合適地用作分離過濾器66。由 Dai-Ichi High Frequency Co.，Ltd.製造的過熱水蒸汽發生器Super-Hi 70W可合適地用 作過熱水蒸汽發生器68。優選地，將這樣製造的過熱水蒸汽供給過熱水蒸汽乾燥單元29。然後，優選地，如圖2所示，將這樣製造的過熱水蒸汽和熱空氣供給器60的熱空氣 混合，並供給過熱水蒸汽乾燥單元29。如圖4所示，過熱水蒸汽乾燥單元29由容納支持體16的乾燥箱32形成。乾燥 箱32內設置蒸汽噴嘴34。另外，優選地，設置用於將乾燥箱32內的水蒸汽排放到乾燥箱 32外的排氣孔36。用於將水蒸汽排出到乾燥箱32外的構造不局限於圖4所示，排氣設施 可設置於支持體16的入口 32a和出口 32b。優選加熱乾燥箱32的內壁。關於加熱乾燥箱 32內壁的方法，為了防止熱消散，可使用採用隔熱材料並通過乾燥熱空氣隔熱內壁的結構、 在內壁和外壁之間具有真空的真空隔熱結構、在內壁和外壁之間通過溫水或蒸汽的雙壁結 構、或通過電熱絲主動加熱內壁的方法。此時，內壁的溫度不低於乾燥箱32的露點。關於 乾燥箱32的材料，優選例如SUS(304、306、316等)和鐵(SECC等)。優選玻璃棉、巖棉、和 ALK24等作為隔熱材料。關於隔熱方法，優選噴瓷、塗布含陶瓷的塗層等。過熱水蒸汽的量 不小於50g/m3，且不超過600g/m3，優選不少於100g/m3且不超過400g/m3。過熱水蒸汽的溫 度為(熱空氣乾燥溫度)士20°C，優選為乾燥溫度士5°C。蒸汽的乾燥度不小於95%，優選
8不小於98%。加熱支持體16和乾燥箱32的加熱溫度優選為不低於(預定溫度T-5 (V ))的溫 度。因為將支持體和乾燥箱加熱至(預定溫度T-5(°C))或以上可以抑制塗布膜上的冷凝， 由乾燥箱內冷凝的液滴掉落和附著於塗布膜上引起的產品表面上的異常外觀和性能故障， 和液滴附著於外圍裝置上引起的設備故障。這裡，當乾燥箱內供給的蒸汽量為X(g/m3)時，預定溫度T(°C)優選為T = 16XX°_286。例如，當100%溼度表示成飽和絕對溼度的蒸汽量時，供給的蒸汽量X在100°C 約為590g/m3，在150°C約為2475g/m3，在200°C約為7330g/m3。因此，當供給一定量的蒸汽 (供給的蒸汽量X)時，必須調節支持體的溫度T，使得溼度不是100%。例如，當供給590g/ m3的蒸汽時，支持體的溫度T優選為不低於100°C。如圖5A到5C所示，優選將乾燥箱32的入口 32a和出口 32b密封以防止過熱水蒸 汽洩漏和外面的空氣吹入。關於防止過熱水蒸汽洩漏和外面空氣吹入的方法，優選使用通 過熱空氣氣封乾燥箱內的支持體的入口和出口的方法、或通過輥或擋風板防止蒸汽洩漏的 方法。在氣封的情形下，優選地，乾燥空氣的露點為5到15°C，空氣速度不小於5m/s。圖5A顯示通過熱空氣38密封的情形。熱空氣流38可以防止蒸汽擴散和通過密 封。圖5B顯示通過熱空氣38和擋風板40密封的情形。這可以在物理上使蒸汽向外洩露 的開口變窄。圖5C顯示通過熱空氣38和輥42密封的情形。這些密封方法也可組合使用， 從而更有效地將恆溫下的加熱的蒸汽密封在設備內。此外，優選隔熱蒸汽噴嘴34。在此情況下，使用蒸汽噴嘴34通過隔熱材料隔熱的 結構或雙重結構(加熱介質流動)。蒸汽噴嘴34也具有能夠沿著蒸汽噴嘴的寬度方向均 勻噴霧蒸汽的結構。蒸汽噴嘴34的噴氣出口具有諸如縫隙、串聯孔、無規孔(衝壓金屬結 構)等的任何形狀。為了防止水滴的冷凝和附著，蒸汽噴嘴34優選具有雙管結構或隔熱結 構。此外，使用具有均勻的噴嘴內壓力且沿著寬度方向沒有噴氣分布的結構。所採用的與 支持體16的噴氣角度可以與支持體16垂直或平行。當以高速(不低於30m/分鐘)輸送 支持體時，優選以高空氣速度(不低於5m/秒鐘)垂直於支持體噴吹蒸汽。支持體16的溫度可通過輻射、熱傳導等主動調節。圖6顯示在乾燥箱32內將支 持體16的溫度控制為露點或以上的方法的實例。設置夾套型加熱輥46、46...以在乾燥箱 32內接觸支持體16。因此，由於當輸送至乾燥箱時在乾燥箱內將支持體的溫度控制為露點 或以上，可以防止因過熱水蒸汽引起的塗布膜上的水滴。如圖7所示，優選在乾燥箱32的內頂表面上以大致相等的間隔平行於支持體的移 動方向設置凹槽或溝道44。另外，頂面優選為傾斜的，從而水滴可以容易地流過凹槽或溝 道44。乾燥箱32內的溼度和露點可因多個因素變化，比如在生產線開始時在各處加熱不充 分、伴隨著各處停止加熱的生產線停止、和將乾燥條件或乾燥溶劑切換成另一種等。因此， 即使水滴附著於乾燥箱的內表面上，以大致相等的間隔設置於乾燥箱內頂面上的凹槽或溝 道可以防止水滴附著於支持體上。頂面優選為傾斜的，從而水滴可以容易地流過凹槽或溝 道44。此外，儘管未顯示，優選地，在乾燥箱32內，支持體16設置為支持體16的塗布膜 表面可以豎直或朝下，蒸汽噴嘴設置於從塗布膜下向塗布膜噴霧過熱水蒸汽的位置。即使 水滴附著在蒸汽噴嘴上，也可以避免水滴附著在支持體上，因此可以防止產品表面上的異常外觀等。加熱的水蒸汽和塗布膜中含有的高沸點溶劑從排氣孔36排出乾燥箱32外。優選 通過熱交換機理回收並聚集過熱水蒸汽，將水和高沸點溶劑分離，以便回收和重複使用。如上所述，根據本發明的乾燥塗布膜的方法和製造平版印刷版前體的方法，在幹 燥箱內用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於塗布液體的溶劑的沸點的溶劑的蒸汽的同時將 塗布液體的溶劑乾燥的情況下，可以抑制因產品表面上的異物引起的性能故障，或者因液 滴的附著引起的異常外觀和性能故障。優選地，當支持體16的輸送開始後，在不低於100°C的溫度下通過熱空氣加熱幹 燥箱32，然後，提供過熱水蒸汽；當支持體16的輸送結束後，停止向乾燥箱32提供過熱水 蒸汽，然後冷卻乾燥箱32。當支持體16的輸送開始後，在不低於100°C的溫度下通過熱空 氣加熱乾燥箱32，然後，提供過熱水蒸汽；當支持體16的輸送結束後，停止向乾燥箱32提 供過熱水蒸汽，然後冷卻乾燥箱32，從而，水滴較難以附著，從而可以抑制在外圍裝置中或 產品表面上的異常外觀和性能故障。這裡，代替如圖4到7所示的蒸汽噴嘴，可設置例如圖8A所示的每一個均為獨立 型噴嘴的多個蒸汽噴嘴34'。在此情況下，蒸汽噴嘴34'優選具有如圖8B所示的雙管的 隔熱結構。蒸汽噴嘴可以是雙液噴嘴。這裡，雙液噴嘴是通過高速氣流(比如壓縮空氣) 研磨並霧化低沸點溶劑的液體(本發明中是水)，並以低壓噴出細霧的噴嘴。已知的雙液噴 嘴可用作這樣的雙液噴嘴。在本實施方案中，顯示了沿著支持體16的輸送方向依次設置熱空氣乾燥單元28、 過熱水蒸汽乾燥單元29、和冷卻單元30的實例。然而，本發明不限於此。此外，在本實施方案中，描述了過熱蒸汽是過熱水蒸汽的情形。然而，只要溶劑的 沸點低於塗布液體的高沸點溶劑的沸點，則對於通過使該溶劑過熱獲得過熱蒸汽的情形， 相同的描述也是正確的。下面將描述本實施方案使用的各種材料。[支持體]在本發明中，支持體不局限於帶狀材料，也包括具有帶狀以外形狀的金屬、樹脂、 紙張、布等。根據本實施方案用於平版印刷版前體的鋁板由金屬製成，該金屬主要包括尺寸穩 定的鋁，由鋁或鋁合金製成。除純鋁板外，也可使用主要包括鋁並包括少量不同元素的合金 板，和上面層疊或氣相沉積了鋁或鋁合金的塑料膜或紙張。也可使用將鋁片粘合在聚對苯 二甲酸乙二酯膜上獲得的複合片材。用於本實施方案的鋁板的組成沒有特別限制，可合適地使用純鋁板。從 提煉技術的角度來看，製造完全純鋁是困難的。因此，可使用稍含有不同元素的鋁 板。例如，在 Aruminiumu Handobukku(Aluminum Handbook),第四版(Japan Light MetalAssociation(1990))中描述的已知材料，具體地，可相應地使用例如JIS A1050、JIS A1100、JIS A3003、JIS A3004、JIS A3005 和 international registration alloy 3103A 的鋁合金板。也可使用含有99. 4到95質量％的鋁並包括選自Fe、Si、Cu、Mg、Mn、Zn、Cr、 和Ti的不少於三種的鋁合金，和使用鋁廢料或二次錠料(secondary ingot)的鋁板。鋁合金板的鋁含量沒有特別限定，鋁含量可以是95到99. 4質量％。此外，優選地，該鋁板含有下列範圍內的選自Fe、Si、Cu、Mg、Mn、Zn、CrjnTi的不少於三種不同元素。這 可以獲得具有細晶粒的鋁。Fe 0. 20到1.0質量％、Si 0. 10到1. 0質量％、Cu :0. 03到1. 0 質量％、Mg 0. 1 到 1. 5 質量％、Mn 0. 1 到 1. 5 質量％、Zn 0. 03 到 0. 5 質量％、Cr 0. 005 到0. 1質量％、和Ti :0. 01到0. 5質量％。鋁板也可含有諸如Bi和Ni的元素以及不可避免的雜質。製造鋁板的方法可以是連續澆鑄法和DC澆鑄法。也可使用由省略了中間退火和 滲透處理的DC澆鑄法製造的鋁板。也可使用在精軋中(finishrolling)通過夾層滾軋、轉 移等產生凹陷和凸出的鋁板。用於本實施方案的鋁板可以是連續帶狀片材或板材的鋁支持 體，或可以是切成和作為產品運輸的平版印刷版前體相應的尺寸的片狀片材的鋁支持體。用於本實施方案的鋁板的厚度通常約為0. 05mm到1mm，優選為0. 1mm到0. 5mm。根 據印刷機尺寸、印刷版尺寸和用戶要求，該厚度可以相應變化。在本實施方案中，在製造用於平版印刷版的支持體的方法中，通過在上述鋁板上 進行至少包括表面粗糙化處理、陽極氧化處理、和特定的密封處理的表面處理而獲得用於 平版印刷版的支持體。該表面處理可進一步包括多種處理。在本實施方案的多個步驟中， 所使用的鋁板的合金組分在用於該步驟的處理溶液中洗出。因此，處理溶液可含有鋁板的 合金組分。特別地，優選通過在處理前將這些合金組分加入處理溶液進入穩態的方法使用 處理溶液。關於上述表面處理，優選在電解表面粗糙化處理前進行鹼刻蝕處理或desmut處 理。也優選按此順序進行鹼刻蝕處理和desmut處理。鹼刻蝕處理和desmut處理優選在電 解表面粗糙化處理後進行。也優選按此順序進行鹼蝕刻處理和desmut處理。電解表面粗 糙化處理後可省略鹼刻蝕處理。也優選在這些處理前進行機械錶面粗糙化處理。電解表面 粗糙化處理可進行不少於兩次。也優選然後進行陽極氧化處理、密封處理、親水化處理等。[低沸點溶劑]用於本實施方案的低沸點溶劑的沸點優選不小於30°C且不超過130°C。這樣的低 沸點溶劑的實例包括下列溶劑，但本發明不局限於這些溶劑。沸點顯示於括號內。醇，比如甲醇(64.5 °C 到 64. 65 °C )、乙醇(78. 32°C )、正丙醇(97. 15 °C )、異丙 醇(82. 3°C )、正丁醇(117. 7°C )、和異丁醇(107. 9°C )；醚，比如乙醚(34.6°C )和異丙 醚(68.27°C)；酮，比如丙酮(56.2°C)、甲乙酮(79. 59°C )、甲基-正丙基酮(103. 3°C)、 甲基異丁基酮(115.9°C )、和二乙基酮(102. 2°C)；酯，比如乙酸甲酯(57.8°C)、乙酸乙 酯(77. 1°C )、乙酸-正丙基(101.6°C )、和乙酸-正丁基(126.5°C )；烴，比如正己烷 (68. 742 °C )和環己烷(80. 738 °C )；和水。[高沸點溶劑]用於本實施方案的高沸點溶劑的沸點優選不低於150°C。這樣的高沸點溶劑的實 例包括下列溶劑，但本發明不局限於這些溶劑。沸點顯示於括號內。丁基內酯(204°C )、乙醯胺(222°C )、1，3_ 二甲基-2-咪唑啉酮(225. 5°C )、 N，N-二甲基甲醯胺(153°C )、四甲基脲酸(175°C到177°C )、硝基苯(211. 3°C )、甲醯胺 (210. 5°C )、N-甲基吡咯烷酮(202°C)、N，N-二甲基乙醯胺(166°C )、和二甲亞碸(189°C )。〈成像層〉在本發明中，可通過在如上所述形成的處理層上設置成像層而獲得平版印刷版前
11體。這裡設置的成像層可以是在本發明中任何已知的成像層，優選為能在熱模式或光 模式下記錄的成像層。從效果的角度來看，成像層優選為能通過使用紅外雷射等的熱模式 曝光成像的成像層。所述成像層可具有單層結構，或可具有由多層形成的層疊的層結構。下面將描述具有不同種類成像層的各種平版印刷版前體。(紅外雷射記錄型平版印刷版前體)下面描述可通過紅外雷射成像並適合於本發明的平版印刷版前體。對於可通過 紅外雷射成像的平版印刷版前體，可任意選擇已知的圖像記錄方法，比如使用陰圖型或陽 圖型成像層的方法，該成像層使用在鹼性水溶液中的溶解度隨紅外雷射曝光而變的材料; 和使用含有疏水前體的成像層的方法，該疏水前體可形成親油墨區(ink receptiveness region)，從而在紅外雷射曝光的部分形成疏水區。首先描述陽圖型或陰圖型的成像層。在這樣的成像層中，通過紅外雷射曝光圖 像，並通過鹼性水溶液顯影。成像層分成兩類陰圖型，其中鹼性顯影性因活性光(active light)的照射而變差，從而經照射(曝光)的部分作為圖像區域；陽圖型，和顯影性相反地 (conversely)得到改進從而經照射(曝光)的部分作為非圖像區域。陽圖型成像層的實例包括相互作用釋放體系(interaction releasingsystem) (熱敏陽圖型)成像層、已知的酸性催化劑分解體系成像層、和含鄰醌二疊氮化物的體系成 像層。這些成像層通過下述作用而可溶於水或鹼性水形成成像層的高分子化合物的鍵由 於自身因光照或加熱產生的酸或熱能而斷裂。因此，這些成像層通過顯影而除去，形成非圖 像區域。陰圖型成像層的實例包括已知的酸催化的交聯體系(也包括陽離子聚合)成像層 和聚合固化體系成像層。其中，一些通過形成成像層的化合物的交聯反應而固化以形成圖 像區域，其中由光照或加熱產生的酸作為催化劑；一些通過可聚合化合物通過光照或加熱 產生的自由基的聚合反應的進行而固化以形成圖像區域。即使形成上述成像層的任意一種時，在本發明中，特定的中間層顯示高的效果，特 定的中間層適合用於陽圖型成像層。下面將詳細描述各個成像層。1.陽圖型成像層本發明的優選方面包括具有陽圖型成像層的平版原版，陽圖型成像層中含有可溶 於鹼的樹脂和鋶化合物或銨化合物，不少於50質量％的可溶於鹼的樹脂為novolac樹脂， 並設置可通過紅外雷射記錄的成像層。作為更優選的方面，該陽圖型成像層含有(A)後面 描述的紅外吸收劑以增大敏感性。該陽圖型成像層可具有單層，或可具有由多個成像層形 成的層疊層結構。[novolac型酚醛樹脂]首先描述novolac型酚醛樹脂。novolac樹脂表示在酸催化劑下通過縮聚至少一 種酚和至少一種醛或酮獲得的樹脂。這裡，酚的實例包括苯酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、2，5-二甲苯酚、3，5-二甲苯 酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對乙基苯酚、丙基苯酚、正丁基苯酚、叔丁基苯酚、1-萘酚、2-萘酚、鄰苯二酚、間苯二酚、氫醌、鄰苯三酚、1，2，4-苯三醇、間苯三酚、4，4'-聯苯二醇、 2，2_雙(4'-羥基苯基)丙烷。醛的實例包括甲醛、乙醛、丙醛、苯甲醛、和糠醛。酮的實 例包括丙酮、甲乙酮、和甲基異丁基酮。優選從苯酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、2，5- 二甲苯酚、3，5- 二甲苯酚、和間苯二酚 選擇的酚，和從甲醛、乙醛、和丙醛選擇的醛或者酮的縮聚物。特別地，優選間甲酚對甲 酚2，5-二甲苯酚3，5-二甲苯酚間苯二酚的混合摩爾比為40 100 0 50 0 20 0 20 0 20的混合酚與甲醛的縮聚物，或苯酚間甲酚對甲酚的混合摩爾比 為0 100 0 70 0 60的(混合)酚與甲醛的縮聚體。關於這些novolac樹脂，優選使用通過凝膠滲透色譜測量得到的轉化為聚苯乙烯 的重均分子量(下面僅稱為「重均分子量」)為500到20，000的novolac樹脂。更優選使 用重均分子量為1，000到15，000的novolac樹脂，尤其優選使用重均分子量為3，000到 12，000的novolac樹脂。優選該範圍內的重均分子量是為了曝光部分的足夠的成膜性和優 異的鹼性顯影性。當novolac樹脂用作成像層的粘合劑樹脂時，可僅使用一種或可組合使用不少於 兩種。所有的粘合劑樹脂可以是novolac樹脂，或者也可組合使用其他樹脂。此外，當組合 使用其他樹脂時，優選novolac樹脂作為主粘合劑。形成成像層的粘合劑樹脂(可溶於鹼 的樹脂)中的novolac樹脂的比率優選為不小於50質量％，更優選在65到99. 9質量％的 範圍內。關於可以組合使用的粘合劑樹脂，可使用通常使用的可溶於鹼的樹脂，不溶於水 但可溶於鹼，且在聚合物的主鏈和側鏈至少之一具有酸性基團。除novolac樹脂外的酚醛 樹脂，優選使用例如可溶酚醛樹酯、聚乙烯基酚醛樹脂、具有酚羥基的丙烯酸樹脂等。可組 合使用的樹脂的具體實例可包括例如日本專利申請未審公開No. 11-44956，和日本專利申 請未審公開No. 2003-167343中描述的聚合物。[光-熱轉化劑]本發明中的成像層優選含有光_熱轉化劑。這裡使用的光-熱轉化劑對吸收波長 範圍沒有特別限制，任何物質均可用作光-熱轉化劑，只要它是吸收光能照射並發熱的物 質。從容易獲得高輸出雷射的角度來看，光-熱轉化劑的優選實例包括在760nm到1200nm 的波長具有最大吸收的紅外吸收染料或顏料。關於染料，可使用已知的染料，比如市售染料和諸如「Senryo Binran (DyeHandbook，，(由 Society of Synthetic Organic Chemistry，Japan 編撰，Showa 45出版(1970))的文獻中描述的染料。具體地，染料的實例包括偶氮染料、金屬絡合物偶氮 染料、批唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞花青染料、碳鐺染料、醌亞胺染料、次甲基 染料、花青染料、方酸顏料(squaryliumpigment)、吡喃鐺鹽、金屬硫醇鹽複合物、類菁染料 (oxonol dye)、二銨染料(diimonium dye)、銨染料、和克酮酸染料(croconium dye)。優選的染料的實例包括日本專利申請未審公開No. 58-125246、59-84356、 59-202829,60-78787中描述的花青染料；日本專利申請未審公開No. 58-173696、 58-181690,58-194595中描述的次甲基染料；日本專利申請未審公開No. 58-112793、 58-224793、59-48187、59-73996、60-52940、60-63744 中描述的萘醌染料；日本專利申請未 審公開No. 58-112792中描述的方酸顏料；和英國專利No. 434，875中描述的花青染料。
也合適地使用美國專利No. 5，156，938中描述的近紅外吸收敏化劑。也優選使用 美國專利No. 3，881，924中描述的取代的芳基苯並(硫)吡喃鐺鹽、日本專利申請未審公開 No. 57-142645 (美國專利No. 4，327，169)中描述的三次甲基噻喃鐺鹽、日本專利申請未審 公開 No. 58-181051、58-220143、59-41363、59-84248、59-84249、59-146063、和 59-146061 中描述的吡喃鐺化合物、日本專利申請未審公開No. 59-216146中描述的花青染料、美國專 利No. 4，283，475中描述的五次甲基噻吡喃鐺鹽、和日本已審專利申請公開No. 05-13514和 05-19702中公開的吡喃鐺化合物。染料的另一優選實例可包括美國專利No. 4，756，993中以式(I)和式(II)描述的 近紅外吸收染料。在這些染料中，特別優選的染料的實例包括花青染料、酞花青染料、類菁染料、方 酸顏料、吡喃鐺鹽、噻吡喃鐺染料、和鎳硫醇鹽複合物。此外，在日本專利申請未審公開 No. 2005-99685的26到38頁描述的化合物因光-熱轉化效率高而為優選。特別地，最優選 日本專利申請未審公開No. 2005-99685中由通式(a)表示的花青染料，因為當該花青染料 用作本發明的光敏組合物時，該花青染料和可溶於鹼的樹脂的相互作用強，且穩定性和經 濟性好。[可分解的溶解抑制劑]此外可將可分解的溶解抑制劑加入本發明的陽圖型成像層。特別地，從改進圖像 區域的溶解抑制能力的角度來看，優選在顯影劑中組合使用可熱分解，且在未分解時顯著 降低可溶於鹼的樹脂的溶解度的物質(可分解的溶解抑制劑)，比如鐺鹽、鄰醌二疊氮化 物、和磺酸烷基酯。作為可分解的溶解抑制劑，優選鐺鹽，比如鋶鹽、銨鹽、重氮鹽、和碘鐺 鹽、及鄰醌二疊氮化物。更優選鋶鹽、銨鹽、和重氮鹽。本發明使用的鐺鹽的合適的實例包括美國專利No. 4，069，055、4，069，056， 和日本專利申請未審公開No. 03-140140、2006-293162、和2004-117546中描述的銨鹽； 和 J.V. Crivello et al. , Polymer J. 17，73 (1985)、J. V. Crivello et al. , J. Org. Chem.，43，3055 (1978)、W. R. Watt et al. , J. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. ,22, 1789(1984)、J. V. Crivello et al. , Polymer Bull.，14，279 (1985)、J. V. Crivello et al. ,Macromorecules,14(5),1141(1981)>J. V. Crivello et al. ,J. Polymer Sci. ,Polymer Chem. Ed.，17，2877(1979)，歐洲專利申請 No. 370，693,233, 567,297, 443、和 297，442， 美國專利 No. 4，933，377、3，902，114、5，041，358、4，491，628、4，760，013、4，734，444、和 2，833，827，德國專利No. 2，904，626,3, 604，580、和3，604，581，和日本專利申請未審公開 No. 2006-293162 和 2006-258979 中描述的鋶鹽。其他合適的鐵鹽包括S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng.，18,387(1974)、 T. S. Bal et al. , Polymer, 21,423 (1980)、日本專利申請未審公開 No. 05-158230、日本專利 申請未審公開No. 05-158230描述的通式(1)、日本專利申請未審公開No. 11-143064描述的 通式(1)、和日本專利申請未審公開No. 11-143064描述的通式(1)所顯示的重氮鹽。優選的鐵鹽的其他實例包括D. C. Necker et al.，Macromolecules 17， 2468(1984)、C. S. Wen et al. , Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, 478 頁，Tokyo, 10 月 (1988)、美國專利 No. 4，069，055 和 4，069，056 中描述的轔鹽 J. V. Crivello et al.， Macomorecules，10(6)，1307(1977)、Chem. & Eng. News, 11 月 28 日，31 頁(1988)、歐
14洲專利No. 104，143、美國專利No. 5,041, 358和4，491，628、和日本專利申請未審公開 No. 02-150848 和 02-296514 中描述的碘鐵鹽；J. V. Crivello et al.，Macromorecules, 10(6)，1307(1977)、J. V. Crivelloet al. , J. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed.，17， 1047(1979)中描述的硒鹽；和 C. S. Wen et al.，Teh，Proc. Conf. Rad. Curing ASIA，478 頁， Tokyo，10月(1988)中描述的砷鹽。鐺鹽的反離子的實例包括四氟硼酸、六氟磷酸、三異丙基萘磺酸、5-硝基_鄰甲苯 磺酸、5-磺基水楊酸、2，5-二甲基苯磺酸、2，4，6_三甲基苯磺酸、2-硝基苯磺酸、3-氯苯磺 酸、3-溴苯磺酸、2-氟癸醯基萘磺酸、十二烷基苯磺酸、1-萘酚-5-磺酸、2-甲氧基-4-羥 基-5-苯甲醯基-苯磺酸和對甲苯磺酸。其中，烷基芳香族磺酸比如六氟磷酸、三異丙基萘 磺酸、和2，5_ 二甲基苯磺酸特別合適。這些鐺鹽可單獨使用，或可按兩種或更多種這些鐺鹽的混合物使用。當成像層具 有層疊層結構時，可僅將鐺鹽加入單個層，或加入多個層。可選地，可將由兩種或更多種鐺 鹽製成的混合物加入單個層。醌二疊氮化物的合適實例可包括鄰醌二疊氮化物。用於本發明的鄰醌二疊氮化 物是具有至少一個鄰醌二疊氮基，且鹼溶解度因熱分解而增大的化合物。可使用具有各 種結構的化合物。換言之，通過熱分解鄰醌二疊氮化物以使粘合劑的溶解抑制能力喪失 的效果，和通過鄰醌二疊氮化物本身變成可溶於鹼的物質的效果，鄰醌二疊氮化物有助 於感光材料體系的溶解。用於本發明的鄰醌二疊氮化物可以是例如作者為J. Cohser的 "Light-Sensitive Systems」 的 339 到 352 頁(John & Wiley & Sons. Inc.)上描述的化 合物。特別地，通過和多種芳香族多羥基化合物或芳香族氨基化合物反應獲得的鄰醌二 疊氮化物的磺酸酯或磺醯胺是合適的。此外，也可以合適地使用日本已審專利申請公開 No. 43-28403中描述的苯醌(1，2) - 二疊氮基磺醯氯或萘醌-(1，2) - 二疊氮基-5-磺醯氯 和鄰苯三酚-丙酮樹脂的酯，和美國專利No. 3，046，120和3，188，210中描述的苯醌_(1， 2)- 二疊氮基磺醯氯或萘醌_(1，2)- 二疊氮基-5-磺醯氯和苯酚-甲醛樹脂的酯。此外，也可合適地使用萘醌_(1，2)_ 二疊氮基-4-磺醯氯和苯酚甲醛樹脂或甲 酚-甲醛樹脂的酯、和萘醌_(1，2)_ 二疊氮基-4-磺醯氯和鄰苯三酚丙酮樹脂的酯。其 他可用的鄰醌二疊氮化物報導於大量專利中，是已知的。這樣的鄰醌二疊氮化物的實 例包括已審或未審的專利文獻中描述的鄰醌二疊氮化物，比如日本專利申請未審公開 No. 47-5303、48-63802、48-63803、48-96575、49-38701、和 48-13354，和日本已審專利申請 公開 No. 41-11222、45-9610、和 49-17481，以及比如美國專利 No. 2，797，213,3, 454，400、 3，544，323,3, 573，917,3, 674，495、和 3，785，825，英國專利 No. 1，227，602、1，251，345、 1，267，005、1，329，888、和 1，330，932，和德國專利 No. 854，890 的記載。基於根據本發明的成像層的總固體含量，作為可分解的溶解抑制劑的鐺鹽和/或 鄰醌二疊氮化物的加入量優選為0. 1到10質量％，更優選為0. 1到5質量％，尤其優選為 0. 2到2質量％的範圍。這些化合物可單獨使用，或可按幾種組合使用。除鄰醌二疊氮化物外的添加劑的加入量優選為0到5質量％，更優選為0到2質 量％，尤其優選為0. 1到1. 5質量％。用於本發明的添加劑和粘合劑優選存在於相同的層。也可組合使用不可分解的溶解抑制劑。這樣的溶解抑制劑的優選的實例可包括 日本專利申請未審公開No. 10-268512詳細描述的磺酸酯、磷酸酯、芳香族羧酸酯、芳香族
15二碸、羧酸酐、芳香酮、芳香醛、芳香胺、芳香醚；日本專利申請未審公開No. 11-190903詳 細描述的具有內酯骨架、N，N-二芳基醯胺骨架的酸彩色染料；和日本專利申請未審公開 No. 2000-105454詳細描述的非離子表面活性劑。[其他添加劑]在根據本發明的成像層中，可按日本專利申請未審公開No. 2000-187318所述組 合使用分子中具有(甲基)丙烯酸酯單體作為聚合組分的聚合物，所述單體具有2或3個 碳數為3到20的全氟化烷基，以提高識別性(疏水性/親水性的區別)和耐圖像表面劃傷 性。基於根據本發明的成像層的總固體含量，這樣的化合物的加入量優選為0. 1到10質 量％，更優選為0. 5到5質量％。為了得到耐劃傷性，也可將降低表面靜摩擦係數的化合物加入根據本發明的成像 層內。這樣的化合物的具體實例可包括美國專利No. 6，117,913中使用的含有長鏈烷基羧 酸的酯。基於根據本發明的成像層的總固體含量，這樣的化合物的加入量優選為0. 1到10 質量％，更優選為0. 5到5質量％。必要時，根據本發明的成像層可包括具有低分子量酸性基團的化合物。酸性基團 的實例可包括磺酸基、羧酸基、和磷酸基。其中，優選具有磺酸基的化合物。這樣的化合物 的具體實例可包括芳香族磺酸和脂肪族磺酸比如對甲苯磺酸和萘磺酸。另外，為了改進敏感性，也可組合使用環酸酐、酚、和有機酸。關於環酸酐，可按美 國專利No. 4，115，128所述使用鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、3， 6-endoxy- A 4_四氫鄰苯二甲酸酐、四氯鄰苯二甲酸酐、馬來酸酐、氯馬來酸酐、a -苯基馬 來酸酐、琥珀酸酐、均苯四甲酸酐。酚的實例包括雙酚A、對硝基苯酚、對乙氧基苯酚、2，4， 4'-三羥基二苯甲酮、2，3，4_三羥基二苯甲酮、4-羥基二苯甲酮、4，4'，4〃 -三羥基三苯 甲烷、和4，4'，3〃，4〃 -四羥基-3，5，3'，5'-四甲基三苯甲烷。此外，有機酸的實例包 括日本專利申請未審公開No. 60-88942、02-96755中描述的磺酸、亞磺酸、烷基硫酸、膦酸、 磷酸酯、和羧酸等。具體實例包括對甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、對甲苯亞磺酸、乙基硫酸、 苯基膦酸、苯基次膦酸、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、苯甲酸、間苯二甲酸、己二酸、對甲苯甲酸、 3，4_ 二甲氧基苯甲酸、鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、4-環己烯基-1，2-二羧酸、芥酸、月桂酸、 正i^一烷酸、和抗壞血酸。當上述環酸酐、酚、和有機酸加入成像層時，這些化合物在成像層的比率優選為 0. 05到20質量％，更優選為0. 1到15質量％，尤其優選為0. 1到10質量％。當製備根據本發明的成像層的塗布液體時，可加入日本專利申請未審公 開No. 62-251740和03-208514中描述的非離子表面活性劑、日本專利申請未審公開 No. 59-121044和04-13149中描述的兩性表面活性劑、EP No. 950517中描述的矽氧烷基化 合物、和日本專利申請未審公開No. 11-288093中描述的含氟單體共聚物，以提高對顯影條 件的處理穩定性。非離子表面活性劑的具體實例包括山梨醇三硬脂酸酯、山梨糖單棕櫚酸酯、山梨 醇三油酸酯、硬脂酸單甘油酯、和聚氧乙烯基壬基苯基醚。兩性表面活性劑的具體實例包括 烷基二(氨基乙基)甘氨酸、烷基多氨基乙基甘氨酸氫氯化物、2-烷基-N-羧基乙基-N-羥 基乙基咪唑啉鹽甜菜鹼、和N-十四烷基-N，N-甜菜鹼型(例如，商品名稱AM0GEN K，由 Dai-Ichi KogyoSeiyaku Co. , Ltd.生產)。
關於矽氧烷基化合物，優選二甲基矽氧烷和聚烯基氧化物的嵌段共聚物。具 體實例可包括聚氧化烯烴變性的矽酮，比如由Chisso Corp.製造的DBE-224、DBE-621、 DBE-712、DBP-732、DBP-534，和德國的 Tego Co.製造的 Tego Glide 100。上述非離子表面活性劑和兩性表面活性劑在成像層中的比率優選為0. 05到15質 量％，更優選為0. 1到5質量％。可將用於在通過曝光加熱後立即獲得可見圖像的印出劑和作為圖像著色劑的染 料和顏料加入根據本發明的平版印刷版前體的成像層。印出劑的典型實例可包括通過曝光加熱釋放酸的化合物(光學酸釋放劑)和可以 成鹽的有機染料的組合。具體實例包括日本專利申請未審公開No. 50-36209和53-8128中 描述的鄰萘醌二疊氮基-4-磺醯滷和可成鹽的有機染料的組合物；和日本專利申請未審公 開 No. 53-36223、54-74728、60-3626、61-143748、61-151644、和 63-58440 中描述的三滷甲 基化合物和可成鹽的有機染料的組合物。三滷甲基化合物的實例包括氧唑基化合物和三嗪 基化合物，兩者均具有隨著時間的高穩定性並提供清晰的印出圖像。關於圖像著色劑，除上述可成鹽的有機染料外可使用其他染料。包括可成鹽 的有機染料的染料的合適的實例包括可溶於油的染料和鹼性染料。具體實例包括油黃 (Oil Yellow)#101、油黃 #103、油粉紅(Oil Pink)#312、油綠(Oil Green)BG、油藍(Oil Blue)B0S、油藍 #603、油黑(Oil Black)BY、油黑 BS、油黑 T-505 (這些由 Orient Chemical Industries, Co.，Ltd.製造)，維多利亞純藍(Victoria Pure Blue)、晶紫(Crystal Violet) (CI 42555)、甲基紫(MethylViolet) (CI 42535)、乙基紫(Ethyl Violet)、若 丹明(Rhodamine)B(CI 145170B)、孔雀綠(Malachite Green) (CI 42000)、和亞甲基藍 (Methylene Blue) (CI52015)。特別地，優選日本專利申請未審公開No. 62-293247中描述的 染料。基於成像層的總固體含量，這些染料可按0.01到10質量％的比率加入，優選為0. 1 到3質量％的比率。為了使塗層等具有柔韌性，必要時可進一步向根據本發明的成像層塗 布液體中加入增塑劑。例如，可使用丁基鄰苯二甲醯、聚乙二醇、檸檬酸三丁酯、鄰苯二甲酸 二乙酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二己酯、鄰苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三 丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氫糠酯、低聚和聚合的丙烯酸或甲基丙烯酸等。此外，除了這些之外，可根據目的適當加入環氧化合物、乙烯基醚、日本專利申請 未審公開No. 08-276558中描述的具有羥甲基的酚化合物、具有烷氧基甲基的酚化合物、和 日本專利申請未審公開No. 11-160860中描述的具有鹼性溶解抑制作用的可交聯化合物。這樣獲得的根據本發明的圖像記錄材料中的成像層的成膜性和膜強度優異，且在 通過紅外線曝光的曝光部分的鹼溶解度高。2.陰圖型成像層2-1.聚合固化層陰圖型成像層的一個實例包括聚合固化層。該聚合固化層含有(A)紅外吸收劑， ⑶自由基生成劑(自由基聚合引發劑)，和(C)通過產生的自由基聚合固化的可自由基聚 合的化合物，並優選含有(D)粘合劑聚合物。紅外吸收劑將吸收的紅外輻射轉化成熱。此 時產生的熱分解自由基聚合引發劑比如鐺鹽以產生自由基。可自由基聚合的化合物選自具 有至少一個乙烯式不飽和雙鍵，和具有至少一個且優選不少於兩個末端乙烯式不飽和鍵的 化合物。聚合反應因產生的自由基而發生，從而可自由基聚合的化合物被固化
2-2.酸交聯層成像層的其他方面包括酸交聯層。酸交聯層含有(E)通過光或熱產生酸的化合物 (下稱酸產生劑)，和(F)被產生的酸交聯的化合物(下稱交聯劑)。酸交聯層還含有(G) 可溶於鹼的聚合物，用於形成含有可在酸的存在下和交聯劑反應的物質的層。在該酸交聯 層中，通過由光照或加熱引起的酸產生劑的分解產生的酸促進交聯劑的作用，以在交聯劑 之間或交聯劑和粘合劑聚合物之間形成牢固的交聯結構。因而，鹼溶解度變差，造成不溶於 顯影劑。此時，為了有效地使用紅外雷射的能量，將(A)紅外吸收劑摻進成像層中。[(A)紅外吸收劑]可通過紅外雷射形成圖像的成像層含有紅外吸收劑。紅外吸收劑對吸收波長範圍 沒有特別限制，任何物質均可用於紅外吸收劑，只要它是吸收用於記錄的光能照射並發熱 的物質。然而，從容易獲得高輸出雷射的角度來看，紅外吸收劑的優選實例包括在800nm到 1200nm的波長具有最大吸收的紅外吸收染料和顏料。關於染料，可使用已知的染料，比如市售染料和諸如「Senryo Binran (DyeHandbook，，(由 Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan 編撰，Showa 45出版(1970))的文獻中描述的染料。具體地，染料的實例包括偶氮染料、金屬絡合物偶氮 染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞花青染料、碳鐺染料、醌亞胺染料、蒽醌染 料、花青染料、方酸顏料、吡喃鐺鹽、和金屬硫醇鹽複合物。優選染料的實例包括日本專利申請未審公開No. 58-125246、59-84356、 59-202829,60-78787中描述的花青染料；日本專利申請未審公開No. 58-173696、 58-181690、和58-194595中描述的次甲基染料；日本專利申請未審公開No. 58-112793、 58-224793、59-48187、59-73996、60-52940、和 60-63744 中描述的萘醌染料；日本專利申請 未審公開No. 58-112792中描述的方酸顏料；和英國專利No. 434，875中描述的花青染料。也合適地使用美國專利No. 5，156，938中描述的近紅外吸收敏化劑。也優選使用 美國專利No. 3，881，924中描述的取代的芳基苯並(硫)吡喃鐺鹽、日本專利申請未審公開 No. 57-142645 (美國專利No. 4，327，169)中描述的三次甲基噻喃鐺鹽、日本專利申請未審 公開 No. 58-181051、58-220143、59-41363、59-84248、59-84249、59-146063、和 59-146061 中描述的吡喃鐺化合物、日本專利申請未審公開No. 59-216146中描述的花青染料、美國專 利No. 4，283，475中描述的五次甲基噻吡喃鐺鹽、和日本已審專利申請公開No. 05-13514和 05-19702中公開的吡喃鐺化合物。染料的另一優選實例可包括美國專利No. 4，756，993中 以式(I)和式(II)描述的近紅外吸收染料。根據本發明的紅外吸收顏料的優選的其他實例包括日本專利申請No. 2001-6326 和日本專利申請No. 2001-237840中描述的特定的假吲哚花青染料，例證如下
18 在這些染料中，特別優選的染料實例包括花青染料、方酸顏料、吡喃鐺鹽、鎳硫醇 鹽複合物、和假吲哚花青染料。更優選花青染料和假吲哚花青染料。特別優選的實例包括 由下列通式(A)表示的花青染料。通式(A) 在通式(A)中，X1表示氫原子、滷素原子、_NPh2、和鏟-L1或下面顯示的基團。這 裡，X2表示氧原子、氮原子、或硫原子，L1表示碳數為1到12的烴基、具有雜原子的芳環、和 碳數為1到12並包括雜原子的烴基。雜原子在此表示N、S、0、滷素原子、和Se。Xa_和後面 描述的Za_作相似的定義，Ra表示選自氫原子、烷基、芳基、取代或非取代的氨基、和滷素原 子的取代基。
R1和R2各自獨立地表示碳數為1到12的烴基。為了成像層的塗布液體的保存穩 定性，R1和R2優選為碳數為2或更大的烴基。另外，R1和R2尤其優選彼此鍵合以形成五元 環或六元環。
Ar1和Ar2可以相同或彼此不同，表示可具有取代基的芳香族烴基。芳香族烴基的 優選實例包括苯環和萘環。取代基的優選實例包括碳數為12或以下的烴基、滷素原子、和 碳數為12或以下的烷氧基。Y1和Y2可以相同或彼此不同，表示硫原子或碳數為12或以下 的二烷基亞甲基。R3和R4可以相同或彼此不同，表示碳數為20或以下並可具有取代基的 烴基。取代基的優選實例包括碳數為12或以下的烷氧基、羧基、和磺基。R5、R6、R7、和R8可 以相同或彼此不同，表示氫原子或碳數為12或以下的烴基。為了原材料的利用率，優選氫 原子。Za_表示反陰離子。然而，當由通式(A)表示的花青染料在結構內具有陰離子取代基 時，Za_是不必要的，電荷的中和是不必要的。對於成像層塗布液體的保存穩定性，Za_的優 選實例包括滷素離子、高氯酸鹽離子、四氟化碳離子、六氟磷酸鹽離子、和磺酸鹽離子。特別 優選的實例包括高氯酸鹽離子、六氟磷酸鹽離子、和芳基磺酸鹽離子。在本發明中，由通式(A)表示的可以合適地使用的花青染料的具體實例可包括日 本專利申請未審公開No. 2001-133969的W017]到W019]段描述的花青染料。其他花青染料的特別優選的實例還包括上面提到的日本專利申請No. 2001-6326 和2001-237840描述的特定的假吲哚花青染料。本發明使用的顏料包括市售顏料和「Karah Indekkusu Binran (C. I.) (Handbook of Color Index) 」 ；"Saishin Ganryo Binran (Latest PigmentHandbook)，，(Japan Association of Pigment Technologies), 1977 ；"SaishinGanryo Oyo Gijutsu(Latest Pigment Application Technologies)，，，CMCPublishing Co. , Ltd. , 1986 ；禾口 "Insatsu Inki Gi jutsu (Printing Ink Technologies)，，，CMC Publishing Co. Ltd.，1984 中描述的 顏料。顏料的種類的實例包括黑色顏料、黃色顏料、橙黃色顏料、棕色顏料、紅色顏料、紫 色顏料、藍色顏料、綠色顏料、螢光顏料、金屬粉末顏料、和其他聚合物結合的顏料。具體地， 可使用不可溶的偶氮顏料、偶氮色澱顏料、濃縮的偶氮顏料、螯合物偶氮顏料、酞花青顏料、 蒽醌基顏料、茈和紫環酮基顏料、硫靛藍基顏料、喹吖啶酮基顏料、二噁嗪基顏料、異吲哚啉 酮基顏料、喹酞酮基顏料、染色的色澱顏料、吖嗪顏料、亞硝基顏料、硝基顏料、天然顏料、熒 光顏料、無機顏料、碳黑等。在這些顏料中，優選碳黑。這些顏料可以不經表面處理而使用，或可以進行表面處理後使用。表面處理方法 的實例包括用樹脂或蠟塗布表面的方法、附著表面活性劑的方法、或將活性物質(例如，矽 烷偶合劑、環氧化合物、聚異氰酸酯等)粘合於顏料表面的方法。上述表面處理方法描述於 "Kinzoku Sekken no Seishitu toOyo(Properties and Applications of Metal Soaps)，，， Saiwai Shobo Co.，Ltd. ； 『『Insatsu Inki Gi jutsu (Printing Ink Technologies)，，， CMC Publishing Co.，Ltd.，1984 ；禾口 『『Saishin Ganryo Oyo Gi jutsu (Latest Pigment ApplicationTechnologies)，，，CMC Publishing Co.，Ltd.，1986。從成像層塗布液體中的分散物體的穩定性和成像層的均勻性的角度來看，顏料的 粒徑優選在0. 01 i! m到10 i! m的範圍內，更優選在0. 05 i! m到1 i! m的範圍內，尤其優選在 0. 111111至1」liim的範圍內。關於分散顏料的方法，可使用已知的用於墨水製造、色粉製造的分散技術等。分 散機的實例包括超聲波分散機、砂磨機、精碎機、珍珠磨、超級磨、球磨、葉輪、分散器、KD磨、 膠體磨、三極體(dynatr0n)、3輥磨、和加壓捏和器。詳情描述於「Saishin Ganryo OyoGi jutu(Latest PigmentApplication Technologies，，，CMC Publishing Co. Ltd. , 1986。基於成像層的總固體質量，成像層中的紅外吸收劑的含量優選為0.01到50質 量％，更優選為0. 1到10質量％，最優選為0.5到10質量％。該範圍內的含量可以高靈敏 度記錄，形成高質量的圖像，不發生非圖像部分的染色。[⑶產生自由基的化合物]自由基生成劑指通過光能、熱或兩者產生自由基，啟動並促進具有可聚合不飽和 基團的化合物聚合的化合物。可用於本發明的自由基生成劑可以選自並使用已知的熱聚 合引發劑和具有鍵解離能小的鍵的化合物。自由基生成劑的實例包括鐺鹽、有機滷代化合 物比如具有三滷代甲基的均三嗪化合物和氧唑化合物、過氧化物、偶氮基聚合引發劑、芳 基疊氮化物、羰基化合物比如二苯甲酮、苯乙酮、和噻噸酮、茂金屬化合物、六芳基二咪唑 (biimidazole)化合物、有機硼鹽化合物、和二碸化合物。在本發明中，自由基生成劑的特別合適的實例包括鐺鹽。特別優選使用由下列通 式(B-1)到(B-3)表示的鐺鹽。通式(B-1)Arn-I+-Ar12Z11—通式(B-2)Ar21-N+ = NZ21" 通式(B-3)^S—R33Z31"在式(B-1)中，Ar11和Ar12各自獨立地地表示碳數為20或以下並可具有取代基的 芳基。當該芳基具有取代基時，取代基的優選實例包括滷素原子、硝基、碳數為12或以下的 烷基、碳數為12或以下的烷氧基、和碳數為12或以下的芳氧基。Z11—表示無機陰離子或有 機陰離子。在(B-2)類型中，Ar21表示碳數為20或以下並可具有取代基的芳基。取代基的優 選實例包括滷素原子、硝基、碳數為12或以下的烷基、碳數為12或以下的烷氧基、碳數為12 或以下的芳氧基、碳數為12或以下的烷氨基、碳數為12或以下的二烷氨基、碳數為12或以 下的芳氨基、和碳數為12或以下的二芳氨基。Z21—表示和Z11—相同的反離子。在式(B-3)中，R31、R32、和R33可以相同或彼此不同，各自表示碳數為20或以下並 可具有取代基的烴基。取代基的優選實例包括滷素原子、硝基、碳數為12或以下的烷基、碳 數為12或以下的烷氧基、和碳數為12或以下的芳氧基。Z31—表示和Z11—相同的反離子。通式(B-1)到(B-3)中的Z"-、Z21-、和Z31—表示無機陰離子或有機陰離子。無機陰 離子的實例包括滷素離子(F_、CI—、Br\ F)、高氯酸鹽離子(C104_)、過溴酸鹽離子(Br04_)、 四氟硼酸鹽離子(BF4_)、SbF6_、和PF6-。有機陰離子的實例包括有機硼酸鹽陰離子、磺酸鹽 離子、膦酸離子、羧酸鹽離子、R4°-so3H_、R4°-SO2-、R4°-SO2S-、和 R4°-S02N_Y-R4° 離子(這裡，R40 表示碳數為1到20的烷基或碳數為6到20的芳基，Y表示單鍵、-C0-、或-S02_)。在本發明中，可以合適地使用的鐺鹽的具體實例可包括日本專利申請未審公開 No. 2001-133969的
到
段描述的那些鐺鹽。本發明使用的鐺鹽優選在不超過400nm的波長具有最大吸收，更優選在不超過 360nm的波長具有最大吸收。因此，紫外區的吸收波長使平版印刷版前體的操作可在白光下 進行。
這些鐺鹽可單獨使用，或可不少於兩種組合使用。基於成像層塗布液體的總固體含量，這些鐺鹽的加入比率可為0. 1到50質量％， 優選為0. 5到30質量％的比率，尤其優選為1到20質量％的比率。在上述範圍內的加入 量下，實現高靈敏度的記錄，並抑制印刷時在非圖像部分產生的染色。這些鐺鹽並不總需要加入成像層中，也可加入到設置於成像層附近的其它層。[ (C)可自由基聚合的化合物]在本方面中，用於成像層的可自由基聚合的化合物是具有至少一個乙烯式不飽和 雙鍵的可自由基聚合的化合物，選自具有至少一個末端乙烯式不飽和鍵和優選不少於兩個 末端乙烯式不飽和鍵的化合物。這樣的化合物在本領域內眾所周知，這些化合物可沒有任 何特定限制地用於本發明。這些化合物具有諸如單體、預聚物(即二聚物、三聚物和低聚 物)、它們的混合物、它們的共聚物的化學形式。單體和它們的共聚物的實例包括不飽和羧 酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸等)，和它們的酯和醯胺。 優選使用不飽和羧酸和脂肪族多元醇化合物的酯，和不飽和羧酸和脂肪族多官能胺化合物 的醯胺。此外，合適地使用具有親核取代基(比如羥基、氨基、巰基)的不飽和羧酸酯或醯 胺與單官能或多官能的異氰酸酯或環氧化物的加成反應產物，以及與單官能或多官能的羧 酸的脫水縮合反應產物。具有親電子取代基(比如異氰酸酯基和環氧基)的不飽和羧酸酯 或醯胺與單官能或多官能的醇、胺或硫醇的加成反應產物是合適的。此外，具有離去取代基 (比如滷素基團和甲苯磺醯氧基)的不飽和羧酸酯或醯胺與單官能或多官能的醇、胺或硫 醇的取代反應產物也是合適的。作為另一個實例，也可以使用具有不飽和膦酸、苯乙烯等的 化合物代替上述不飽和羧酸。作為可自由基聚合的化合物(即脂肪族多官能的醇化合物和不飽和羧酸的酯)的 丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、異巴豆酸酯、和馬來酸酯的具體實例描述於 日本專利申請未審公開No. 2001-133696的W037]到W042]段。這些化合物也可用於本 發明。關於其他酯的實例，可合適地使用日本已審專利申請公開No. 46-27926、日本已審 專利申請公開No. 51-47334、和日本專利申請未審公開No. 57-196231中描述的脂肪醇基 酯；日本專利申請未審公開No. 59-5240、59-5241、和02-226149中描述的具有芳香基骨架 的酯；和日本專利申請未審公開No. 01-165613中描述的含有氨基的酯。脂肪族多官能胺化合物和不飽和羧酸的醯胺單體的具體實例包括亞甲基雙_丙 烯醯胺、亞甲基雙-甲基丙烯醯胺、1，6-六亞甲基二-丙烯醯胺、1，6-六亞甲基雙-甲基丙 烯醯胺、二亞乙基三胺三丙烯醯胺、苯二甲基雙丙烯醯胺、和苯二甲基雙甲基丙烯醯胺。其他優選的醯胺體系單體的實例可包括日本已審專利申請公開No. 54-21726中 描述的那些具有環己烯結構的單體。使用異氰酸酯和羥基的加成反應製造的脲烷體系加聚化合物也是合適的。這樣的 化合物的具體實例包括日本已審專利申請公開No. 48-41708中描述的在一個分子中含有 不少於兩個可聚合的乙烯基團的乙烯基脲烷化合物，該化合物通過將由下式(VI)表示的 含有羥基的乙烯基單體加入在一個分子中具有不少於兩個異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合 物而獲得。通式(VI)
CH2 = C (R41) C00CH2CH (R42) OH(其中R41 和 R42 表示 H 或 CH3。)日本專利申請未審公開No. 51-37193、日本已審專利申請公開No. 02-32293和 02-16765中描述的脲烷丙烯酸酯，和日本已審專利申請公開No. 58-49860、56-17654、 62-39417、和62-39418中描述的具有環氧乙烷基骨架的脲烷化合物也是合適的。此外，可以使用日本專利申請未審公開No. 63-277653、63-260909、和01-105238 中描述的，分子中具有氨基結構或硫醚結構的可自由基聚合的化合物。其他實例可包括日本專利申請未審公開No. 4864183和日本已審專利申請公開 No. 49-43191和52-30490中描述的，通過將環氧樹脂和(甲基)丙烯酸反應獲得的聚 酯丙烯酸酯和環氧丙烯酸酯的多官能丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。此外，其他實例可包括 日本已審專利申請公開No. 46-43946、01-40337、和01-40336中描述的特定的不飽和化 合物，和日本專利申請未審公開No. 02-25493中描述的乙烯基膦酸體系化合物。在一些 情況下，可以合適地使用日本專利申請未審公開No. 61-22048中描述的含有全氟化烷基 的結構。此外，也可使用作為可通過光固化的單體而引入的化合物和Nippon Secchaku Kyokaishi(Journal of Japan Adhesion Society)，vol.20，No. 7(1984)的 300 到 308 頁 上的低聚物。關於這些可自由基聚合的化合物，使用細節(比如使用的結構、單獨或組合使用、 和加入量)可根據最終記錄材料的性能設計而任意設置。例如，從下列角度進行選擇。從 敏感性的角度來看，優選每分子的不飽和基團的含量大的結構，在很多情況下，優選具有不 少於兩個官能團的結構。為了增大圖像區域(即，固化膜)的強度，優選具有不少於三個官 能團的結構。另外，通過將這些可自由基聚合的化合物和具有不同官能團數量和不同可聚 合基團(例如，丙烯酸酯基化合物、甲基丙烯酸酯基化合物、苯乙烯基化合物)的化合物組 合使用調節光靈敏度和強度的方法也是有效的。分子量大的化合物和高度疏水的化合物的 敏感性或膜強度優異。另一方面，就顯影速度或在顯影劑中的沉積而言，這樣的化合物可能 不是優選的。此外，相對於與成像層中的其他組分(例如，粘合劑聚合物、引發劑、著色劑) 的相容性和可分散性，自由基聚合化合物的選擇和使用是重要因素。例如，通過使用低純度 化合物或組合使用不少於兩種化合物可以改進相容性。為了改進支持體和外塗層之間的附 著，可選擇特定的結構。可自由基聚合的化合物在成像層中的摻合比率較大對敏感性有利。 然而，過量的可自由基聚合的化合物可能造成不優選的相分離，或可能造成因成像層的粘 合引起的製造方法的問題(例如，源於成像層組分的轉移或附著的製造故障)和比如從顯 影劑沉積的問題。從這些角度來看，在很多情況下，基於所有組成成分，可自由基聚合的化合物的優 選的摻合比率為5到80質量％，優選為20到75質量％。這些可單獨使用，或可以不少於 兩種組合使用。另外，在可自由基聚合的化合物的使用中，可以從對氧的聚合抑制程度、分 辨率、霧度(fogging)、折射率變化、表面粘合性等的角度任意選擇合適的結構、摻合和加入 量。根據情況，也可採用層狀結構(比如底層和外層)，並由此進行塗布方法。[⑶粘合劑聚合物]在這樣的成像層中，從改進成像層的膜性質的角度來看，優選使用粘合劑聚合物。 線性有機聚合物優選用作粘合劑。任何線性有機聚合物可用作「線性有機聚合物」。優選
23地，為了可以水顯影或弱鹼性水顯影，選擇可溶於或可溶脹於水或弱鹼性水的線性有機聚 合物。線性有機聚合物不僅根據作為形成成像層的塗層形成劑的用途，也根據作為水、弱鹼 性水、或有機溶劑顯影劑的用途選擇並使用。例如，使用可溶於水的有機聚合物可以水顯影。這樣的線性有機聚合物的實 例包括側鏈中具有羧酸基的自由基聚合物，比如日本專利申請未審公開No. 59-44615 ； 日本已審專利申請公開No. 54-34327、58-12577、和54-25957 ；日本專利申請未審公開 No. 54-92723、59-53836、和59-71048中描述的那些自由基聚合物，即甲基丙烯酸共聚物、 丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、和部分酯化的馬來酸共聚物。 相似地，線性有機聚合物的實例包括在側鏈中具有羧酸基的酸纖維素衍生物。此外，通過將 環酸酐加入具有羥基的聚合物得到的聚合物是有用的。其中，特別地，具有苯甲基或烯丙基，側鏈中具有羧基的(甲基)丙烯酸樹脂在膜 強度、敏感性、和顯影性之間的平衡優異，是合適的。此外，日本已審專利申請公開No. 07-12004、07-120041、07-120042、和 08-12424 ； 日本專利申請未審公開No. 63-287944、63-287947、01-271741、和11-352691中描述的含有 酸基的脲烷體系粘合劑聚合物的強度非常優異，且就印刷耐久性和低曝光適應性而言是有 利的。除這些之外，聚乙烯基吡咯烷酮、聚環氧乙烷等可作為可溶於水的線性有機聚合 物。為了增大固化膜的強度，可溶於醇的尼龍、2，2_雙-(4-羥基苯基)-丙烷和環氧氯丙烷 的聚醚等是可用的。本發明使用的聚合物的重均分子量優選不小於5000，更優選為10，000到 300, 000 ；數均分子量不小於1000，更優選為2000到250，000。多分散性(重均分子量/數 均分子量)優選不小於1，更優選為1.1到10。這些聚合物可以是無規聚合物、嵌段聚合物、和接枝聚合物的任意一種，優選為無 規聚合物。本發明使用的粘合劑聚合物可以單獨使用，或可以粘合劑聚合物的混合物使用。 基於成像層塗布液體的總固體含量，這些聚合物加入成像層的比率為20到95質量％，優選 為30到90質量％的比率。當加入量小於20質量％時，圖像形成後，圖像區域的強度不足。 當加入量超過95質量％時不形成圖像。具有乙烯式不飽和雙鍵的可自由基聚合的化合物 與線性有機聚合物的質量比優選為1/9到7/3。下面描述酸交聯層的組分。和聚合固化型成像層中相同的紅外吸收劑可用於這裡 使用的紅外吸收劑。基於成像層的總固體質量，優選的含量優選為0. 01到50質量％，更優選為0. 1到 10質量％，最優選為0.5到10質量％。在上述含量範圍內，可實現高靈敏度的記錄，並可進一步抑制獲得的平版的非圖 像部分中產生的染色。[(E)酸產生劑]在本實施方案中，通過熱分解產生酸的酸產生劑指通過用200到500nm波長範圍 內的光照射化合物或在不低於100°c的溫度下加熱化合物產生酸的化合物。酸產生劑的實例包括可通過加熱分解以產生酸的已知的化合物和它們的混合物，比如用於光陽離子聚合的光引發劑、用於光自由基聚合的光引發劑、用於顏料的光去色劑 (photodecolorizer)、由此形成的光脫色劑(photodiscolorizers)、和用於微抗蝕(micro resist)的已知酸產生劑等。 在上述酸產生劑中，優選由下列通式(E-1)到(E-5)表示的化合物。通式
(E-1) 通式(E-2) 通式(E-3)通式(E-4) 通式(E-5) 在通式(E-1)到(E-5)中，R1、R2、R4、和R5可以相同或可以彼此不同，表示碳數為 20或以下的可具有取代基的烴基。R3表示滷素原子、碳數為10或以下並可具有取代基的 烴基、或碳數為10或以下的烷氧基。Ar1和Ar2可以相同或彼此不同，表示碳數為20或以 下並可具有取代基的芳基。R6表示碳數為20或以下並可具有取代基的二價烴基。n表示0 到4的整數。式中，R1、R2、R4、和R5優選為碳數為1到14的烴基。由通式(E-1)到(E-5)表示的酸產生劑的優選方面在日本專利申請未審公開 No. 2001-142230的
到
段中通式(I)到(V)表示的化合物詳細描述。這 些化合物可通過例如日本專利申請未審公開No. 02-100054和日本專利申請未審公開 No. 02-100055中描述的方法合成。(E)酸產生劑的實例也可包括具有滷化物、磺酸鹽等作為反離子的鐺鹽。其中，它 們的合適的實例可包括具有由下列通式(E-6)到(E-8)表示的碘鐺鹽、鋶鹽、或重氮鹽的結 構式的鐺鹽的結構式。通式(E_6)Ar-I+-Ar4 x 通式(E_7) 通式(E_8)Ar3－N12 x在通式(E-6)到(E-8)中，X-表示滷化物離子、C1CV、PFf、SbFf、BF廠、或R7S(V，R7 表示碳數為20或以下並可具有這裡的取代基的烴基。Ar3和Ar4各自獨立地地表示碳數為20或以下並可具有取代基的芳基。R8、R9、和R1(l表示碳數為18或以下並可具有取代基的烴基。這樣的鐺鹽在日本專利申請未審公開No. 10-39509的W010]到W035]段中由通 式(I)到(III)表示的化合物描述。基於成像層的總固體質量，酸產生劑的加入量優選為0.01到50質量％，更優選為 0. 1到25質量％，最優選為0. 5到20質量％。當加入量小於0.01質量％時，可能不能獲得圖像。當加入量超過50質量％時，非 圖像區域可能具有在作為平版印刷的原版進行印刷期間產生的染色。上述酸產生劑可單獨使用，或可不少於兩種組合使用。[(F)交聯劑]下面描述交聯劑。交聯劑的實例包括下列交聯劑。(i)被羥甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物(ii)具有N_羥甲基、N_烷氧基甲基、或N_醯氧基甲基的化合物(iii)環氧化合物下面詳細描述化合物(i)到(iii)。由羥甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物(i)的實例包括由羥甲基、乙醯氧基 甲基、烷氧基甲基多取代的芳香族化合物或雜環化合物。請注意，也包括通過稱為可溶酚醛 樹酯(resole resin)的酚與醛在鹼性條件下的縮聚獲得的樹脂狀化合物。在由羥甲基或烷氧基甲基多取代的芳香族化合物或雜環化合物中，特別優選在羥 基附近的位置具有羥甲基或烷氧基甲基的化合物。在由烷氧基甲基多取代的芳香族化合物或雜環化合物中，優選具有碳數為18或 以下的烷氧基甲基的化合物，更優選下列通式(F-1)到(F-4)表示的化合物。通式(F-1) 通式(F-2) 在通式(F-1)到(F-4)中，L1到L8各自獨立地地表示羥甲基或被碳數為18或以 下的烷氧基取代的烷氧基甲基，比如甲氧基甲基和乙氧基甲基。優選這些交聯劑，因為他們具有高交聯效率並改進印刷耐久性。(ii)具有N_羥甲基、N-烷氧基甲基、或N-芳氧基甲基的化合物的實例包括歐洲
在通式(F-5)中，Ar1表示可具有取代基的芳烴環，R1、! 2、和R3表示氫原子或碳數 為12或以下的烴基。m表示2到4的整數，n表示1到3的整數。就原材料的可得性而言，優選苯環、萘環、和蒽環作為芳烴環。取代基優選為滷素 原子、碳數為12或以下的烴基、碳數為12或以下的烷氧基、碳數為12或以下的烷硫基、氰
基、硝基、三氟甲基等。在上述基團中，為了增大敏感性，Ar1更優選為不具有取代基的苯環和萘環，或具 有滷素原子、碳數為6或以下的烴基、碳數為6或以下的烷氧基、碳數為6或以下的烷硫基、 碳數為12或以下的烷基氨基甲醯基、或硝基作為取代基的苯環和萘環。為了易於合成，上面由R1和R2表示的烴基優選為甲基。為了具有高靈敏度，由R3 表示的烴基優選為碳數為7或以下的烴基，比如甲基和苯甲基。為了易於合成，m優選為2 或3，n優選為1或2。[ (G)可溶於鹼性水的高分子化合物]可在適用於本發明的交聯層中使用的可溶於鹼性水的高分子化合物的實例包括 novolac樹脂和在側鏈中具有羥基芳基的聚合物。novolac樹脂的實例包括通過在酸性條
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專利未審公開(下面表示為「EP-A」)No. 0，133，216、西德專利No. 3，634，671和3，711，264 中描述的單聚和低聚三聚氰胺_甲醛縮合物，和尿素_甲醛縮合物；和EP-ANo. 0，212，482 中描述的烷氧基取代的化合物。在這些化合物中，優選例如具有至少兩個自由的N-羥甲基、N-烷氧基甲基、或 N-醯氧基甲基的三聚氰胺甲醛衍生物，最優選N-烷氧基甲基衍生物。(iii)環氧化合物的實例包括具有不少於一個環氧基的單聚、二聚、低聚和多聚環 氧化合物，並包括雙酚A和環氧氯丙烷的反應產物以及低分子量苯酚_甲醛醛樹脂和環氧 氯丙烷的反應產物。其他實例可包括美國專利No. 4，026, 705和英國專利No. 1，539，192中描述的環氧
樹脂，並使用。在使用化合物⑴到(iii)作為交聯劑的情況下，基於成像層的總固體質量，加入 量優選為5到80質量％，更優選為10到75質量％，最優選為20到70質量％。當加入量小於5質量％時，獲得的圖像記錄材料的成像層的耐久性可能變差。當 加入量超過80質量％時，在保存期間的穩定性可能變差。在本發明中，由下列通式(F-5)表示的酚衍生物也可合適地用作交聯劑。[式9]通式(F-5) 通式(G-3)
通式(G-4)
件下縮合酚和醛獲得的樹脂。其中，優選的實例包括由苯酚和甲醛獲得的novolac樹脂、由間甲酚和甲醛獲得 的novolac樹脂、由對甲酚和甲醛獲得的novolac樹脂、由鄰甲酚和甲醛獲得的novolac樹 脂、由辛基苯酚和甲醛獲得的novolac樹脂、由混合間/對甲酚和甲醛獲得的novolac樹 脂、由苯酚/甲酚(間、對、鄰、間/對、間/鄰、和鄰/對混合的任意一種)的混合物和甲酸 獲得的novolac樹脂、和通過在沒有催化劑的封閉條件下在高壓下反應作為原材料的苯酚 與多聚甲醛獲得的高鄰位鍵合、高分子量的novolac樹脂。根據目的，可在重均分子量為800到300，000，數均分子量為400到60，000的
novolac樹脂中選擇合適的novolac樹脂並用作novolac樹脂。也優選側鏈中具有羥基芳基的聚合物，聚合物中的羥基芳基的實例包括鍵合不少 於一個0H基團的芳基。芳基的實例包括苯基、萘基、蒽基和菲基(phenanthrenyl)。其中，從可得性和物理 性質的角度來看，優選苯基和萘基。可用於本實施方案的側鏈中具有羥基芳基的聚合物的實例可包括聚合物，該聚合 物包括任何一種由下列通式(G-1)到(G-4)表示的結構單元。然而，在本發明中，不局限於 這些聚合物。[式10]通式(G-1)通式(G-2) 在通式(G-l)到(G-4)中，R"表示氫原子或甲基。R12和R13可以相同或可以彼此 不同，表示氫原子、滷素原子、碳數為10或以下的烴基、碳數為10或以下的烷氧基、或碳數 為10或以下的芳氧基。R12和R13可以彼此鍵合或熔合以形成苯環或環己烷環。R14表示單 鍵或碳數為20或以下的二價烴基。R15表示單鍵或碳數為20或以下的二價烴基。R16表示 單鍵或碳數為10或以下的二價烴基。X1表示單鍵、醚鍵、硫醚鍵、酯鍵、或醯胺鍵。p表示1 到4的整數。q和r分別表示0到3的整數。這些可溶於鹼的聚合物詳細描述於日本專利申請未審公開No. 2001-142230的
到
段中。可用於本實施方案的可溶於鹼性水的高分子化合物可單獨使用，或可以不少於兩 種組合使用。基於成像層的總固體含量，可溶於鹼性水的高分子化合物的加入量優選為5到95 質量％，更優選為10到95質量％，最優選為20到90質量％。當可溶於鹼性水的樹脂的加入量小於5質量％時，成像層的耐久性可能變差。當 可溶於鹼性水的樹脂的加入量超過95質量％時，可能不形成圖像。可用於根據本發明的成像層的已知的記錄材料的實例包括日本專利申請未審公 開No. 08-276558中描述的含有苯酚衍生物的陰圖型圖像記錄材料、日本專利申請未審公 開No. 07-306528中描述的含有重氮化合物的陰圖型記錄材料、和日本專利申請未審公開 No. 10-203037中描述的陰圖型成像材料，該材料通過使用酸性催化劑的交聯反應獲得，該 反應中使用環中具有不飽和鍵的雜環基團的聚合物。這些文獻中描述的成像層可用作本發 明中的陰圖型成像層的酸交聯層。[其他組分]除這些之外，必要時可進一步向這樣的陰圖型成像層加入多種化合物。例如，在可 見光區的吸收大的染料可用作圖像的著色劑。也可合適地使用諸如酞花青顏料、偶氮顏料、 碳黑、和氧化鈦的顏料。在本發明中，當成像層是聚合固化層時，希望加入少量熱聚合抑制劑以防止具有 乙烯式不飽和雙鍵的化合物的不必要的熱聚合和在塗布液體的製備或保存期間進行自由 基聚合。合適的熱聚合抑制劑的實例包括氫醌、對甲氧基苯酚、二叔丁基對甲酚、鄰苯三酚、 叔丁基鄰苯二酚、苯醌、4，4'-硫雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2'-亞甲基雙(4-甲 基-6-叔丁基苯酚)、和N-亞硝基-N-苯基羥胺鋁鹽。基於所有組合物的質量，熱聚合抑制
30劑的加入量優選為約0. 01質量％到約5質量％。必要時，為了防止聚合被氧抑制，可加入 高級脂肪酸衍生物比如二十二酸和二十二酸醯胺，在塗布後的乾燥過程中不均勻地分布於 成像層的表面上。基於所有組分，高級脂肪酸衍生物的加入量優選為約0. 1質量％到約10
質量％。為了增大處理對顯影條件的穩定性，可將日本專利申請未審公開No. 62-251740 和03-208514中描述的非離子表面活性劑和日本專利申請未審公開No. 59-121044和 04-13149中描述的兩性表面活性劑加入本發明的成像層塗布液體中。非離子表面活性劑的具體實例包括山梨醇三硬脂酸酯、山梨醇單棕櫚酸酯、山梨 醇三油酸酯、硬脂酸單甘油酯、和聚氧乙烯基壬基苯基醚。兩性表面活性劑的具體實例包括烷基二(氨基乙基)甘氨酸、烷基多氨基乙基甘 氨酸氯化氫、2-烷基-N-羧基乙基-N-羥基乙基咪唑啉甜菜鹼、和N-十四烷基-N，N-甜菜 鹼型(例如，由 Daiichi Kogyo Seiyaku Co.，Ltd.製造的 Amogen K)。上述非離子表面活性劑和兩性表面活性劑在成像層塗布液體中的比率優選為 0. 05到15質量％，更優選為0. 1到5質量％。為了使塗層具有柔韌性，必要時向本發明的成像層塗布液體中加入增塑劑。例如， 使用聚乙二醇、檸檬酸三丁酯、鄰苯二甲酸二乙酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二己酯、 鄰苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氫糠酯等。3.含有成像層的疏水前體可用作根據本發明的平版印刷版的支持體的成像層的其他實例包括熱敏成像層， 該熱敏成像層含有可通過加熱或輻射線的照射形成疏水區的化合物(以下在相應的地方 稱為疏水前體)。這樣的成像層含有下述化合物比如(a)具有熱活性官能團的顆粒聚合 物，和(b)封裝具有熱活性官能團的化合物的微囊，該化合物通過例如加熱熔合，或就微囊 而言通過由熱引起的被封裝物的化學反應形成圖像區域，即疏水區域(親墨區域)。這些優 選分散在親水粘合劑中。因此，圖像形成(曝光)後，將平版印刷版前體安裝在印刷機的圓 筒上，供給潤版水和/或墨水，從而不經任何特定的顯影處理即可進行在機顯影(on-press development)0這樣的成像層含有(a)具有熱活性官能團的顆粒聚合物或(b)封裝具有熱活性官 能團的化合物的微囊。上述(a)和(b)共有的熱活性官能團的實例包括進行聚合反應的乙烯式不飽和基 團(例如，丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、烯丙基)；進行加成反應的異氰酸酯基及其封 端基團；作為異氰酸酯基及其嵌段基團的反應配對物的具有活性氫原子的官能團(例如， 氨基、羥基、羧基)；進行加成反應的環氧基；作為環氧基的反應配對物的氨基；羧基或羥 基；與羥基或氨基進行縮合反應的羧基；以及與氨基或羥基進行開環加成反應的酸酐。用 於本發明的熱活性官能團不局限於這些，進行任何反應的任何官能團均可使用，只要該官 能團形成化學鍵。[(a)具有熱活性官能團的顆粒聚合物]適合於(a)熱活性顆粒聚合物的官能團的實例包括丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙 烯基、烯丙基、環氧基、氨基、羥基、羧基、異氰酸酯基、酸酐基、和它們的保護基團。熱活性官 能團可在聚合物聚合時引入聚合物顆粒中，或可在使用聚合物反應聚合後引入。
當在聚合物聚合時引入熱活性官能團時，優選使用具有熱活性官能團的單體進行 乳液聚合或懸浮聚合。這樣的具有熱活性官能團的單體的具體實例包括甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸烯丙 酯、乙烯基甲基丙烯酸酯、乙烯基丙烯酸酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸縮水甘油酯、 2_異氰酸酯基乙基甲基丙烯酸酯、其用醇等封端的異氰酸酯、2-異氰酸酯基乙基丙烯酸 酯、其用醇等封端的異氰酸酯、2-氨基乙基甲基丙烯酸酯、2-氨基乙基丙烯酸酯、2-羥基乙 基甲基丙烯酸酯、2-羥基乙基丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐、雙官能丙烯酸酯、 和雙官能甲基丙烯酸酯。用於本發明的具有熱活性官能團的單體不局限於這些。可用這些單體共聚合且沒有熱活性官能團的單體的實例包括苯乙烯、烷基丙烯酸 酯、烷基甲基丙烯酸酯、丙烯腈、和乙烯基乙酸酯。用於本發明的沒有熱活性官能團的單體 不局限於這些。在聚合物聚合後引入熱活性官能團時使用的聚合物反應的實例包括國際公開W0 96/34316中描述的聚合物反應。在上述(a)具有熱活性官能團的顆粒聚合物中，從成像性的角度來看，優選顆粒 易因熱熔合併彼此鍵合的顆粒聚合物。另外，從在機顯影性的角度來看，特別優選在其表面 上具有親水性且分散在水中的顆粒聚合物。優選地，通過在低於固化溫度的溫度下僅塗布 顆粒聚合物並將顆粒聚合物乾燥而製造的塗層的接觸角(空氣中的水滴)低於通過在高於 固化溫度的溫度下將顆粒聚合物乾燥而製造的塗層的接觸角。顆粒聚合物的表面可以吸附親水聚合物或低聚物，比如聚乙烯醇和聚乙二醇，或 親水低分子化合物，以使顆粒聚合物表面上的親水性成為這樣的優選狀態。然而，使顆粒表 面親水的方法不局限於這些，可採用已知的各種表面親水化方法。考慮到隨著時間的穩定性，(a)具有熱活性官能團的顆粒聚合物的熱熔合溫度優 選不低於70°C，更優選不低於80°C。然而，從敏感性的角度來看不優選過高的熱熔合溫度。 因此，優選80到250°C的範圍，更優選100到150°C的範圍。(a)顆粒聚合物的平均粒徑優選為0. 01到20 u m,尤其優選為0. 05到2. 0 y m，優 選為0. 1到l.Oym。在該範圍內的平均粒徑下可以獲得良好的解析度和隨著時間的穩定性。基於成像層的固體含量，(a)顆粒聚合物的加入量優選為50到98質量％，更優選 為60到95質量％。[ (b)封裝具有熱活性官能團的化合物的微囊]適合於(b)微囊的熱活性官能團的實例包括前述對(a)和(b)通用的官能團、可
聚合不飽和基團、羥基、羧基、羧酸酯基、酸酐基、氨基、環氧基、異氰酸酯基、封端的異氰酸 酯基。具有可聚合不飽和基團的化合物優選為具有至少一個和優選為不少於兩個乙烯 式不飽和鍵的化合物，例如，丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、和烯丙基。這樣的化合物在 本領域內是公知的，可用於本發明，不特別限制於這些。這些化學品的形態為單體、預聚物， 即二聚物、三聚物、低聚物、它們的混合物、和它們的共聚物。具體實例包括不飽和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆 酸、馬來酸)、它們的酯、和不飽和羧酸醯胺。其中，優選不飽和羧酸與脂肪族多元醇的酯以
32及不飽和羧酸與脂肪族多官能胺的醯胺。合適地使用具有親核取代基(比如羥基、氨基、巰基)的不飽和羧酸酯或不飽和羧 酸醯胺與單官能或多官能的異氰酸酯或環氧化物的加成反應產物，及其與單官能或多官能 羧酸的脫水縮合反應產物。具有親電取代基(比如異氰酸酯基和環氧基)的不飽和羧酸酯或醯胺與單官能或 多官能醇、胺或硫醇的加成反應產物，以及具有離去取代基(比如滷素基和甲苯磺醯氧基) 的不飽和羧酸酯或醯胺與單官能或多官能醇、胺或硫醇的取代反應產物也是合適的。其他合適的實例包括具有不飽合膦酸或氯甲基苯乙烯代替上述不飽和羧酸的化 合物。這些具體化合物描述於申請人之前提到的日本專利申請未審公開No. 2001-27742 的W014]到W035]段中。製造封裝這些化合物的微囊的詳細方法描述於日本專利申請未 審公開No. 2001-27742的W036]到W039]段中，這些記載也可用於本發明。適合用於(b)微囊的微囊壁具有三維交聯，可被溶劑溶脹。從這一觀點來看，微囊 的壁材料優選為聚脲、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯、聚醯胺、和它們的混合物。特別優選聚脲和 聚氨酯。可將具有熱活性官能團的化合物引入微囊壁中。(b)微囊的平均粒徑優選為0. 01到20 u m,更優選為0. 05到2. 0 y m，尤其優選為
0. 10到l.Oym。在上述範圍內的平均粒徑下可以獲得良好的解析度和隨著時間的穩定性。在使用(b)具有熱活性官能團的微囊的成像機理中，其中分散有微囊的成像層中 存在的微囊材料、微囊中封裝的化合物、和其他可選組分可以彼此反應以形成圖像區域，即 疏水區域(親墨區域)。該機理的實例包括如上所述微囊因熱彼此熔合的類型；在塗布期 間，在微囊封裝產品中滲出至囊表面或微囊外面的化合物，或者從外面滲入微囊壁的化合 物因熱引起化學反應的類型；微囊材料和封裝的化合物與加入的親水樹脂或加入的低分子 化合物反應的類型；及通過使用不少於兩種微囊壁材料或者它們的封裝產物具有彼此間熱 反應的不同官能團，微囊彼此反應的類型。因此，優選在成像時微囊因熱而熔合和鍵合，但並不必需。按照固體含量換算，加入成像層的(b)微囊的量優選為10到60質量％，更優選為 15到40質量％。上述範圍內的量可以同時提供良好的在機顯影性以及良好的敏感性和印 刷耐久性。當將(b)微囊加入成像層時，可將溶解封裝的產品並溶脹壁材料的溶劑加入微囊 分散介質中。這樣的溶劑促進具有封裝的熱活性官能團的化合物擴散至微囊的外面。根據微囊分散介質、微囊壁的材料、壁厚和封裝的產品，可從許多市售溶劑選擇這 樣的溶劑。例如，就由交聯的聚脲或聚氨酯壁形成的可分散於水的微囊而言，優選醇、醚、乙 縮醛、酯、酮、多元醇、醯胺、胺、和脂肪酸。也可使用不可溶於微囊分散液體但通過混合上述溶劑變得可溶的溶劑。溶劑的加 入量取決於材料的組成。小於合適值的加入量引起成像不充分。大於合適值的加入量使分 散液體的穩定性變差。通常，加入量優選為塗布液體的5到95質量％，更優選為10到90 質量％，尤其優選為15到85質量％。[其他組分]在本方面的熱敏成像層中，除了具有可成像性的(a)具有熱活性官能團的顆粒聚
33合物，和(b)封裝具有熱活性官能團的化合物的微囊外，可根據目的組合使用各種添加劑。(反應引發劑、反應促進劑)在熱敏成像層中，必要時可加入啟動或促進這些反應的化合物。啟動或促進 反應的化合物的實例包括由熱產生自由基或陽離子的化合物。其具體實例包括洛粉鹼 (lophine) 二聚物、三滷代甲基化合物、過氧化物、偶氮化合物、含有重氮鹽或二苯基碘鐺鹽 的鐺鹽、醯基膦、和醯亞胺磺酸鹽。基於成像層的固體含量，這些化合物的加入量優選在1到20質量％的範圍內，更 優選在3到10質量％的範圍內。上述範圍內的加入量提供良好的反應啟動效果或反應催 化效果，而不損害在機顯影性。(親水樹脂)在本發明的熱敏成像層中可加入親水樹脂。加入的親水樹脂改進在機顯影性，另 外改進熱敏成像層本身的塗布強度。親水樹脂優選具有親水基團，比如羥基、羧基、羥基乙基、羥基丙基、氨基、氨基乙 基、氨基丙基、和羧甲基。親水樹脂的具體實例可包括阿拉伯樹膠、酪蛋白、明膠、澱粉衍生物、羧甲基纖維 素及其鈉鹽、纖維素乙酸酯、精氨酸鈉、乙烯基乙酸酯-馬來酸共聚物、苯乙烯-馬來酸共聚 物、聚丙烯酸及其鹽、聚甲基丙烯酸及其鹽、甲基丙烯酸羥乙酯的均聚物和共聚物、丙烯酸 羥乙酯的均聚物和共聚物、甲基丙烯酸羥丙酯的均聚物和共聚物、丙烯酸羥丙酯的均聚物 和共聚物、甲基丙烯酸羥丁酯的均聚物和共聚物、丙烯酸羥丁酯的均聚物和共聚物、聚乙二 醇、羥基丙烯聚合物、聚乙烯醇、水解度至少為60質量％且優選為至少80質量％的水解的 聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯基吡咯烷酮、丙烯醯胺的均聚物 和共聚物、甲基丙烯醯胺的均聚物和聚合物、N-羥甲基丙烯醯胺的均聚物和共聚物。基於成像層的固體含量，親水樹脂加入熱敏成像層的量優選為5到40質量％，更 優選為10到30質量％。在該範圍內的加入量提供良好的在機顯影性和塗布強度。為了通過用紅外雷射等掃描和曝光而在這樣的熱響應成像層(熱敏成像層)中形 成圖像，成像層含有(A)紅外吸收劑。基於成像層塗布液體的總固體含量，優選的加入量優 選為1到30質量％，更優選為5到25質量％。上述範圍內的含量提供敏感性和可成像性 優異的成像層。在含有疏水前體的成像層中，將上面所述的各個必需的組分溶解或分散在溶劑中 以製備塗布液體，並將塗布液體施用在支持體的親水表面上。塗布液體的固體濃度優選為 1到50質量％。(其他平版印刷版前體)本發明也可優選用於使用除紅外雷射曝光之外的方法的平版印刷版前體。下面詳 細描述使用除紅外雷射曝光之外的方法的平版印刷版前體及其成像層的實例。陽圖型成像層的優選實例可包括下面顯示的常規已知的陽圖型成像層[(a)和 (b)]。(a)過去使用的含有萘醌二疊氮化物和novolac樹脂的常規的陽圖型成像層。(b)含有受可被酸分解的基團保護的可溶於鹼的化合物和酸產生劑的組合的化學 放大型陽圖型成像層。
34
上述(a)和(b)在本領域是公知的，更合適地和下面顯示的陽圖型成像層((c)到 (f)組合使用。(c)日本專利申請未審公開No. 10-282672中描述的可以不經顯影處理製造平版 印刷版的雷射敏感的陽圖型成像層，該陽圖型成像層含有磺酸酯聚合物和紅外吸收劑。(d)EPNo. 652483和日本專利申請未審公開No. 6-502260中描述的可以不經顯影 處理製造平版印刷版的雷射敏感的陽圖型成像層，該陽圖型成像層含有羧酸酯聚合物和酸 產生劑或紅外吸收劑。(e)日本專利申請未審公開No. 11-095421中描述的雷射敏感的陽圖型成像層，該 陽圖型成像層含有可溶於鹼的化合物和可熱分解，且在未分解的情況下顯著降低可溶於鹼 的化合物的溶解度的物質。(f)含有紅外吸收劑、novolac樹脂、和溶解抑制劑，並可製造鹼性顯影洗出型陽 圖型成像層平版印刷版的鹼性顯影洗出陽圖型成像層。在根據本發明的平版印刷版的支持體上，通過將用於所需層的塗布液體(比如圖 像記錄塗布液體)的組分溶於溶劑，並塗布該塗布液體而形成成像層。由此可以製造平版 印刷版前體。根據目的，除成像層之外，可類似地在平版印刷版前體中形成保護層、樹脂中 間層、底層、背塗層等。這裡使用的溶劑的實例可包括但不限於，二氯乙烷、環己酮、甲乙酮、甲醇、乙醇、 丙醇、乙二醇單甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基乙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、 二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基乙醯胺、N，N-二甲基甲醯胺、四甲基脲、 N-甲基吡咯烷酮、二甲亞碸、環丁碸、丁內酯、甲苯、和含水溶劑比如水和醇(當使用可 溶於水的成像層時)。根據成像層的物理性質，可選擇相應的溶劑。這些溶劑單獨使用或組 合使用。上述組分(包括添加劑的總固體含量)在溶劑中的濃度優選為1到50質量％。在塗布和乾燥後獲得的支持體上的塗布量(固體含量)隨應用而變，對光敏印刷 版而言一般優選為0. 5到5. Og/m2。當塗布量較小時，表觀敏感性較大，而膜的塗布性則變差。關於塗布方法，可使用多種方法，其實例可包括棒式塗布機塗布、旋轉塗布、噴霧 塗布、簾式塗布、浸漬塗布、氣刀塗布、刮刀塗布、和輥式塗布。根據本發明的平版印刷版前體在支持體和成像層之間具有優異的附著。另外，支 持體的親水表面通過顯影快速曝光。因此，非圖像部分的印刷抗染色性改進，且即使在苛刻 的印刷條件下也能獲得大量高質量的印刷品。通過採用已知的製版方法將根據本發明的成像層應用於根據本發明的平版印刷 版前體，可以獲得平版印刷版。然後，將獲得的平版印刷版安裝在印刷機上，用於印刷大量片材。[背塗層]在由此獲得的平版印刷版前體中，必要時可在其背面(不設置成像層的表面)上 設置由有機聚合物化合物製成的覆蓋層(下面也稱為「背塗層」)，以使即使在平版印刷版 前體堆放時成像層也不損壞。關於背塗層的主要組分，優選使用選自下列組的至少一種樹 脂飽和的共聚合聚酯樹脂、苯氧基樹脂、聚乙烯醇縮醛樹脂、和玻璃化轉變點不低於20°C的偏二氯乙烯共聚樹脂。飽和的共聚聚酯樹脂由二羧酸單元和二醇單元組成。二羧酸單元的實例包括芳 香族二羧酸，比如鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、間苯二甲酸、四溴鄰苯二甲酸、和四氯鄰苯二甲 酸；和飽和的脂肪族二羧酸，比如己二酸、壬二酸、琥珀酸、草酸、辛二酸、癸二酸、丙二酸、和 1，4_環己烷二羧酸。此外，背塗層還可相應地含有用於著色的染料和顏料、用於改進與支持體的附著 的矽烷偶合劑、由重氮鹽組成的重氮基樹脂、有機膦酸、有機磷酸、陽離子聚合物、通常用作 滑動劑的蠟、高級脂肪酸、高級脂肪酸醯胺、由二甲基矽氧烷組成的矽酮化合物、變性的二 甲基矽氧烷、聚乙烯粉末。基本上，背塗層的厚度可以滿足在沒有襯片(slip sheet)時，成像層可以硬到不 被損壞，厚度優選為0. 01 y m到8 y m。當厚度小於0. 01 y m時，在堆放處理平版印刷版前體 時難以防止成像層被劃傷。另一方面，當厚度超過8 y m時，背塗層可能被印刷期間在平版 印刷版附近使用的化學品溶脹，導致厚度變化。由此，印刷壓力變化，造成印刷性變差。多種方法可用作在平版印刷版前體的背面上設置背塗層的方法。其實例包括通 過將上述用於背塗層的組分溶於合適的溶劑中而製備溶液，塗布，並乾燥的方法；或者製備 乳化分散溶液，塗布，並乾燥的方法；通過粘合劑或熱將預先模塑的膜狀層施用在平版印刷 版前體上的方法；和通過熔化擠出機形成熔化的塗層，然後塗布於平版印刷版前體上的方 法。為了保證合適的厚度，最優選的方法是通過將用於背塗層的組分溶解於合適的溶劑中， 塗布，並乾燥的方法。在平版印刷版前體的製造中，可將背面上的背塗層和前面的成像層中的任何一個 先設置於支持體上，或者兩者可以同時設置。根據需要將由此獲得的平版印刷版前體切成合適的尺寸，曝光，並顯影，以製造印 刷版。由此，獲得平版印刷版。就平版印刷版前體具有可見光曝光型製版層(光敏製版層)， 同時在平版印刷版前體上層疊了具有形成的印刷圖像的透明膜的情況而言，用通常的可見 光照射平版印刷版前體以曝光，然後顯影以製造印刷版。就平版印刷版前體具有雷射曝光 型製版層的情況而言，通過用多種雷射束照射而將印刷圖像直接寫入平版印刷版前體以曝 光平版印刷版前體，然後顯影以製造印刷版。如上所述，使用根據本發明的乾燥塗布膜的方法可以抑制產品表面上產生的異常 外觀和性能故障。如上所述，作為根據本發明的乾燥塗布膜的方法的實例，描述了平版印刷版前體 的乾燥方法，但本發明不限於上述實施方案。例如，本發明可用於製造平版印刷版前體的過 程中的其他乾燥方法。本發明不限於平版印刷版前體的製造領域，可將本發明用於多個技 術領域，例如，電極材料、功能膜、和光學膜的製造過程。實施例下面將根據實施例更詳細地描述本發明；然而，本發明不限於下列實施例。下面， 在圖1的乾燥器20中進行成像層塗布膜上的乾燥試驗。作為鋁(A1)板，使用寬度為300mm，厚度為0. 3mm的鋁支持體16 (材料JIS A1050) (JIS 日本工業標準)。在塗布單元18中，使用棒式塗布機塗布塗布液體以獲得20cc/m2的 溼厚度。塗布液體為光敏材料A/有機溶劑B。A的沸點為80°C，B的沸點為200°C，塗布液體的粘度為1. 05mPa s，其比重為0. 9，其表面張力為22mN/m。塗布單元18的溫度和溼度 為25°C和30% RH。在80m/分鐘的線速度和1000N的支持體張力下形成成像層塗布膜。將由圖3顯示的過熱水蒸汽供給器80產生的過熱水蒸汽供給過熱水蒸汽乾燥單 元29。使用的鍋爐64為Miura Co.製造的簡化直通蒸汽鍋爐ME-40。使用的分離過濾器 66為TLV Co.，Ltd.製造的分離過濾器SF-1。使用的過熱水蒸汽發生器68為Dai_Ichi High Frequency Co.，Ltd.製造的過熱水蒸汽發生器Super-Hi 701在下列水平中，將具有兩條縫，間距為60mm，縫間隙(slit clearance)為2. 0mm的 噴嘴用作噴霧過熱水蒸汽乾燥單元29的加熱水蒸汽的噴嘴34。縫和支持體16之間的距離 為30mm，過熱水蒸汽在縫出口的空氣速度為lOm/s。A1板在乾燥箱32的出口 32b的溫度為 80°C，熱空氣的露點為8°C。乾燥箱的出口 32b的溫度和溼度為25°C和40% RH。密封空氣 在入口 32a和出口 32b的空氣速度為10m/s。[水平1(對照數據)]在熱空氣乾燥單元28中通過熱空氣進行乾燥。使用溫度為150°C的熱空氣，空氣 量為10m/S，進行乾燥18秒鐘。[水平2(對照數據)]在熱空氣乾燥單元28中通過熱空氣進行乾燥。使用溫度為150°C的熱空氣，空氣 量為10m/S，進行乾燥40秒鐘。[水平 3]在水平1的條件下通過熱空氣進行乾燥。另外，在過熱水蒸汽乾燥單元29中通 過過熱水蒸汽進行乾燥。在120°C的過熱水蒸汽溫度下噴霧過熱水蒸汽1秒鐘，蒸汽量為 300g/m3。密封入口和出口。[水平 4]在水平1的條件下通過熱空氣進行乾燥。另外，在水平3的條件下通過過熱水蒸 汽進行乾燥。通過密封入口和出口並通過過熱乾燥箱的內壁將乾燥箱隔熱。[水平 5]在水平1的條件下通過熱空氣進行乾燥。另外，在水平3的條件下通過過熱水蒸汽 進行乾燥。通過密封入口和出口並通過過熱乾燥箱的內壁將乾燥箱隔熱。也將噴嘴隔熱。[水平 6]在水平1的條件下通過熱空氣進行乾燥。另外，在水平3的條件下通過過熱水蒸 汽進行乾燥。不將乾燥箱的內壁和噴嘴隔熱，且不將入口和出口密封(沒有防冷凝措施)。[測量高沸點溶劑殘餘量的方法]將塗布了塗布膜樣品的鋁板切成30mm X 10mm,放入小瓶中，並關閉。將該小瓶放入 單獨的設備中，在180°C下加熱5分鐘。然後，通過該設備內裝備的注射器抽取小瓶中的部 分氣體，通過氣相色譜法分析。基於獲得的色譜的峰面積和預先準備的校準曲線，計算塗布 膜中保留的溶劑的濃度。表1顯示了結果。這裡，表1中的「片材出口」表示乾燥器給出過 熱蒸汽的入口和出口，並評價片材上的冷凝的存在。「乾燥箱內」表示給出過熱蒸汽的乾燥 箱的內部，並評價內壁和噴嘴中的冷凝的存在。[表1]
37 如表1所示，水平1到水平2的比較顯示通過長時間進行熱空氣乾燥可以顯著減 少塗布膜中的殘餘溶劑量。另一方面，水平6顯示通過給予加熱的水蒸汽，不經長時間熱空 氣乾燥可以相似地減少塗布膜中的殘餘溶劑量。然而，水平6也顯示在乾燥箱的出口和幹 燥箱的內部觀察到冷凝，產品表面上可能產生異常外觀和性能故障。在水平3到5，不同於 水平6，乾燥箱的入口和出口被密封。在水平4和5中，進一步將乾燥箱隔熱。發現通過密 封乾燥箱的入口和出口，在出口沒有冷凝，而通過進一步將乾燥箱隔熱，在乾燥箱內也沒有 冷凝。另外的實驗在下列水平7到9進行。[水平 7]在熱空氣乾燥單元28中通過熱空氣進行乾燥。使用溫度為150°C，空氣量為10m/ s的熱空氣進行乾燥12秒鐘。然後在水平3的條件下通過過熱水蒸汽進行乾燥。通過密封 入口和出口並通過過熱乾燥箱的內壁將乾燥箱隔熱。也將噴嘴隔熱。在低溫下加熱A1板， 使得A1板在乾燥箱入口的溫度可為60°C。[水平 8]在熱空氣乾燥單元28中通過熱空氣進行乾燥。使用溫度為150°C，空氣量為10m/ s的熱空氣進行乾燥18秒鐘。然後在水平3的條件下通過過熱水蒸汽進行乾燥。通過密封 入口和出口並通過過熱乾燥箱的內壁將乾燥箱隔熱。也將噴嘴隔熱。在高溫下加熱A1板， 使得A1板在乾燥箱入口的溫度可為80°C。[水平 9]在熱空氣乾燥單元28中通過熱空氣進行乾燥。使用溫度為150°C，空氣量為10m/ s的熱空氣進行乾燥12秒鐘。然後在水平3的條件下通過過熱水蒸汽進行乾燥。通過密 封入口和出口並通過過熱乾燥箱的內壁將乾燥箱隔熱。也將噴嘴隔熱。另外，設置圖6顯 示的加熱輥46。使用的加熱輥的直徑為100mm，表面長度為400mm。在100°C的加熱輥溫度 下，加熱A1板，使得A1板在乾燥箱入口的溫度可為75°C。[表2]
38 *蒸汽乾燥箱內的溫度和溼度為100°C和25% RH如表2所示，在將輸送到乾燥箱的支持體的溫度控制在不低於乾燥箱內的露點的 溫度下的水平8和9中，乾燥箱內沒有冷凝。因此，可以防止因水滴附著在塗布膜上引起的 在產品表面上產生的異常外觀和性能故障。
權利要求
乾燥塗布膜的方法，其包括下列步驟將塗布膜乾燥至乾燥點，所述塗布膜通過將含有高沸點溶劑的塗布液體塗布於輸送的支持體之上而形成；和然後在乾燥箱內，在用蒸汽噴嘴向所述塗布膜噴霧沸點低於所述高沸點溶劑的沸點的溶劑的蒸汽的同時，乾燥所述高沸點溶劑，其中在所述乾燥箱內加熱所述支持體至預定溫度T，並輸送所述支持體。
2.根據權利要求1所述的乾燥塗布膜的方法，其中加熱所述乾燥箱的內壁。
3.根據權利要求1或2所述的乾燥塗布膜的方法，其中將所述支持體和乾燥箱加熱至 (所述預定溫度T-5CC ))或更高的溫度。
4.根據權利要求1到3任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中將所述乾燥箱內支持 體的入口和出口密封。
5.根據權利要求1到4任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中使所述蒸汽噴嘴隔熱。
6.根據權利要求1到5任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中隨後將噴霧於所述塗 布膜的過熱蒸汽排出至所述乾燥箱內設置的排氣系統。
7.根據權利要求1到6任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中在所述乾燥箱內設置 與所述支持體接觸的加熱輥以加熱所述支持體。
8.根據權利要求1到7任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中設置所述乾燥箱，以使 得所述支持體上的所述塗布膜的表面豎直或朝下地通過所述乾燥箱，所述蒸汽噴嘴設置於 從所述塗布膜下向所述塗布膜噴霧所述溶劑的蒸汽的位置。
9.根據權利要求1到8任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中在所述乾燥箱的內頂 面上，以近似相等的間隔設置平行於所述支持體的移動方向的凹槽或溝道。
10.根據權利要求1到9任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中所述溶劑的蒸汽是過 熱蒸汽，通過分離過濾器除去所述過熱蒸汽含有的液滴和異物。
11.根據權利要求1到10任意一項所述的乾燥塗布膜的方法，其中將所述過熱蒸汽和 熱空氣混合，並噴霧於所述塗布膜。
12.製造平版印刷版前體的方法，該方法使用根據權利要求1到11任意一項所述的幹 燥塗布膜的方法。
全文摘要
本發明公開了乾燥塗布膜的方法。該方法用於，在乾燥箱內，在用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於塗布液體的溶劑的沸點的溶劑的蒸汽時，進行乾燥從而除去塗布液體的溶劑的情況下，抑制產品表面出現任何異常外觀和產品性能故障。在本方法中，通過將含有高沸點溶劑的塗布液體塗布於輸送的支持體之上而形成塗布膜，將塗布膜乾燥至乾燥點，然後在乾燥箱內用蒸汽噴嘴向塗布膜噴霧沸點低於所述高沸點溶劑的沸點的溶劑的蒸汽的同時除去所述高沸點溶劑。本方法的特徵在於，在給定溫度(T)下加熱所述支持體的同時，在乾燥箱中輸送所述支持體。
文檔編號F26B21/00GK101855026SQ20088011592
公開日2010年10月6日 申請日期2008年11月10日 優先權日2007年11月14日
發明者林賢二, 橋谷學, 田口貴雄 申請人:富士膠片株式會社