表面保護膜以及貼合其的光學部件、工業製品的製作方法
2023-06-10 18:18:41 2
專利名稱：表面保護膜以及貼合其的光學部件、工業製品的製作方法
技術領域：
本發明涉及保護透鏡等的光學部件、偏光板、漫射板、導光板等的光學膜、半導體相關儀器等的精密機械等等的各種工業製品的表面的表面保護膜。更詳細地，本發明涉及能夠密合於被粘物、剝離時輕鬆地剝離的表面保護膜。本發明提供緊密密合於被粘物保護被粘物，並且在剝離表面保護膜之後的被粘物表面的汙染少的表面保護膜，以及貼合有所述表面保護膜的光學部件、工業製品。
此外，作為本發明的表面保護膜的用途，可詳細舉出:相機鏡頭、眼鏡鏡片、車輛用前大燈透鏡、光纖等的光學部件、各種顯示器(PDP、IXD、有機EL等)的圖像顯示體、透鏡陣列片、觸控面板、偏光板、漫射板、相位差板、導光板等的各種光學膜、不鏽鋼板、鋁板等的金屬板、亞克力板々 ')力板)等的塑料板、玻璃板等的建築材料以及工業材料、醫療儀器、半導體製造相關儀器等的精密儀器等等的表面保護中使用的表面保護膜。
背景技術：
在多種工業製品的製造工序中，為保護工業製品的表面免遭汙染、破損而使用表面保護膜。例如，在製造、搬運顯示器的圖像顯示體、光學玻璃、各種光學膜等的光學部件時，在該光學部件的表面貼合表面保護膜，防止在後續工序中表面的汙染和劃傷。並且，可在貼合有表面保護膜的狀態下進行各種光學膜等的光學部件的外觀檢查等的製品檢查。此夕卜，可在顯示器的表面貼合有表面保護膜的狀態下進行組裝工序等，作為工序用使用。
在現有技術中，一般的表面保護膜的構成為，在具有撓性的樹脂膜形成的基材的一面上設有微粘合力的粘合劑層。用於該表面保護膜的粘合劑層為，例如，為貼合於顯示器的表面、玻璃、各種光學膜等的具有粘附性(接著性)的層。並且，使得粘合劑層為微粘合性是為了使得貼合於顯示器的表面、玻璃、各種光學膜等的表面的保護膜在使用完之後從貼合表面上剝離除去時，能夠順利地剝離，且不發生粘合劑殘留。作為用於表面保護膜的粘合齊U，可舉出丙烯酸類粘合劑、氨基甲酸乙酯類粘合劑、橡膠類粘合劑等的各種粘合劑，以及聚乙烯醋酸乙烯酯樹脂等的粘附性樹脂等。
此外，近年隨著顯示器的大型化，在將表面保護膜貼合於大面積的顯示器畫面而使用時，也需要能輕鬆地剝離、操作容易的表面保護膜。對於該剝離時能輕鬆地剝離的表面保護膜的要求，在專利文獻I中提出了具有在丙烯酸類粘合劑中含有矽酮類化合物的粘合層的表面保護膜。但是，由於矽酮類化合物為油狀的性狀，在剝離表面保護膜的時候會汙染被粘物的表面。
此外，製造工序用的表面保護膜從被粘物剝離後，在該被粘物表面上貼合光學膜時，或者貼合裝運用表面保護膜時，如果由於汙染而使被粘物表面具有殘留物，則產生被粘物表面與光學膜或裝運用表面保護膜之間的密合力低下、剝離的缺點。
在專利文獻2中提出了在具有指定功能的膜的至少一個面上設有密合於平滑面的矽酮層的平滑面密合膜。如果將矽酮樹脂作為與被粘物的密合層使用，則在表面保護膜剝離後會汙染被粘物的表面。
此外，製造工序用的表面保護膜從被粘物剝離後，在該被粘物表面上貼合光學膜時，或者貼合裝運用表面保護膜時，如果由於汙染而使被粘物表面具有的殘留物，則產生被粘物表面與光學膜或裝運用表面保護膜之間的密合力低下、剝離的缺點。
因此，在專利文獻3中，為了減少被粘物密合層引起的被粘物的表面汙染，提出至少重新貼合一次以上密合於作為被粘物密合層的矽酮層的表面上的隔離膜。然而，在需要繁雜的隔離膜的重新貼合工序的同時，產生由於增減隔離膜的重新貼合的次數，被粘物密合層汙染性降低的程度變化的問題。
此外，在被粘物密合層中使用矽酮樹脂的現有技術的表面保護膜中，具有密合層的粘合力降低與至隔離膜的密合性也降低，在製造該表面保護膜的工序中，被粘物密合層與作為用於保護其表面的膜的覆蓋膜(在專利文獻3中為隔離膜)之間發生浮起，形成浮起的部分的被粘物密合層的樹脂變形之類的問題。並且，在被粘物密合層變形的情況下，將表面保護膜貼合於被粘物時，產生氣泡進入等現象，成為不能完美粘合的原因，存在貼合表面保護膜時外觀的惡化、顯示器的圖像失真的問題。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻I]特開2001-108982號公報
[專利文獻2]特開平10-95073號公報
[專利文獻3]特開2008-55858號公報發明內容
[發明要解決的課題]
本發明鑑於上述情況，提供一種即使被粘物密合層的粘合力降低，在製造表面保護膜的工序中，被粘物密合層與作為用於保護其表面的膜的覆蓋膜之間也不發生浮起的表面保護膜。本發明提供表面保護膜以及貼貼合有所述表面保護膜的光學部件、工業製品，所述表面保護膜為具有表面平滑的被粘物密合層，從被粘物剝離時能夠輕鬆地剝離，在製造工序中的使用中緊密密合於被粘物保護被粘物的表面保護膜，且在剝離表面保護膜之後的被粘物表面的汙染少。
[解決課題的方法]
為解決上述課題，本發明以下述作為技術思想:為了即使在對被粘物的粘合力 密合力弱的情況下，在製造表面保護膜的工序中，被粘物密合層與覆蓋膜之間也不發生浮起，並且從被粘物密合層除去矽酮遷移成分，將在由合成樹脂膜形成的基材的一面上形成粘合劑層而得到的覆蓋膜經由上述粘合劑層貼合於表面保護膜的被粘物密合層的表面。
為了解決上述課題，本發明提供一種表面保護膜，其具有在透明基材的至少一面上層積由矽酮樹脂形成的被粘物密合層得到的被粘物密合膜，為了保護上述被粘物密合層的表面，將在基材的一面上形成粘合劑層而得到的覆蓋膜經由上述粘合劑層貼合於該被粘物密合層的表面。
此外，上述被粘物密合層的厚度優選為2 250 ii m。
此外，上述覆蓋膜的粘合劑層優選由丙烯酸類粘合劑形成。
此外， 本發明提供一種光學部件，其通過上述被粘物密合層貼合有從上述表面保護膜剝離上述覆蓋膜得到的上述被粘物密合膜。
此外，本發明提供選自顯示器、光學膜、建築材料、工業材料、醫療儀器、精密儀器等的工業製品組的任一工業製品，其通過上述被粘物密合層貼合有從上述表面保護膜剝離上述覆蓋膜得到的上述被粘物密合膜。
[發明效果]
根據本發明的表面保護膜，為在被粘物密合層的表面上，貼合用於保護該被粘物密合層的、在合成樹脂膜形成的基材的一面上形成粘合劑層而得到的覆蓋膜。由此，即使是具有粘合力 被粘物密合力非常低的被粘物密合層的表面保護膜，在製造該表面保護膜的工序中，被粘物密合層與覆蓋膜之間也不發生浮起，能夠穩定地製造具有表面平滑的被粘物密合層的表面保護膜。
此外，成為在被粘物密合層上使用矽酮樹脂時的問題的由於低分子量的矽酮的遷移而產生被粘物的汙染的問題，也在剝離除去上述覆蓋膜時，通過在一面上形成粘合劑層而得到的覆蓋膜的粘合劑層，除去矽酮樹脂的表面上露出的低分子量的矽酮，能夠降低被粘物的汙染。
其結果是，通過本發明，能夠提供一種表面保護膜，其為具有表面平滑的被粘物密合層，在剝離時能輕鬆地剝離，在製造工序中的使用中緊密密合於被粘物保護被粘物的表面保護膜，且在剝離表面保護膜之後的被粘物表面的汙染少。
[圖1]顯示本發明的表面保護膜的大致結構的例子的剖面圖。
[圖2]顯示本發明的表面保護膜的使用形態的例子的剖面圖。
符號說明
1…透明基材、2…被粘物密合層、3…粘合劑層、4…基材、5…被粘物密合膜、6…覆蓋膜、7…光學部件(被粘物)、10…表面保護膜。
具體實施方式
以下基於附圖，說明根據本發明的表面保護膜的實施方案。
圖1顯示根據本發明的表面保護膜的一個例子的剖面圖。該表面保護膜10由在透明基材I的至少一面上層積由矽酮樹脂形成的表面平滑的被粘物密合層2得到的被粘物密合膜5和在基材4的一面上形成粘合劑層3得到的覆蓋膜6構成。被粘物密合膜5在透明基材I的至少一面上設有被粘物密合層2。覆蓋膜6在樹脂膜或紙等形成的基材4的一面上設有粘合劑層3。以被粘物密合層2的表面上接觸粘合劑層3的方式，貼合被粘物密合膜5和覆蓋膜6。
作為根據本發明的表面保護膜10的透明基材1，只要是有透明性的物質即可，沒有特別的限制。可優選使用具有撓性的塑料膜。由此，在例如光學部件的被粘物上貼合有表面保護膜的狀態下，可進行光學部件的外觀檢查。作為在透明基材I中使用的塑料膜，可優選使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯類的聚酯膜。除了聚酯膜以外，只要是具有需要的強度且具有光學適合性的物質，也可使用其他塑料膜。透明基材I可為非拉伸膜，也可被單軸或雙軸拉伸，此外，也可為控制拉伸倍數或伴隨拉伸結晶化而形成的軸方向的角度的塑料膜。
作為透明基材I的厚度沒有特別的限定，例如優選厚度為約12 125pm，特別更優選厚度為20 75 ii m。如果透明基材I的厚度在12 ii m以下，則透明基材的剛性弱，操作有困難。此外，如果透明基材I的厚度超過125pm，則剛性過分增大變得難以操作。此外，價格變高，在經濟上是不利的。在透明基材I上，根據需要，在被粘物密合層2的相反側的面(圖1及圖2的最上面)上，可以層積為防止表面汙染的目的的防汙層、抗靜電層、防止劃痕的硬塗層等。此外，也可在透明基材I的與被粘物密合層2接觸的面上進行電暈放電處理或增粘塗層(7 >力一 - 一卜)處理等的易粘附性的處理。
根據本發明的表面保護膜10的被粘物密合層2由透明的矽酮樹脂形成，為了抑制被粘物的表面汙染，常溫下為固體，優選使用將矽酮聚合物交聯得到的物質。矽酮聚合物的交聯形態可為Si — H基與Si —乙烯基反應的加成反應型、S1-H基與S1-OH基反應的縮合反應型、巰基與乙烯基反應的巰基-烯(工> ^ 才一>)反應型、脂環式環氧基的陽離子聚合型、過氧化物固化型等的公知的交聯反應的物質。從抑制從表面保護膜的被粘物密合層2向被粘物轉移矽酮的觀點出發，優選加成反應型、巰基-烯反應型、或陽離子聚合型。
使之交聯反應之前的矽酮聚合物的製品形態可為溶劑型、乳液型、無溶劑型等，從用於光學用途等出發，優選溶劑型或無溶劑型。
用於根據本發明的表面保護膜10的被粘物密合層2的矽酮樹脂的厚度優選為2 250iim。厚度不足2 iim則對被粘物的密合性下降。厚度在250 y m以上，則雖然能夠作為表面保護膜使用，但從材料成本的上升、矽酮樹脂的加工性下降出發不優選。從對被粘物的密合性和製造成本的觀點出發，用於被粘物密合層2的矽酮樹脂的厚度特別優選為約5 30 u m0
此外，作為被粘物密合層2的矽酮樹脂層，與構成表面保護膜的被粘物密合膜5的透明基材I同樣，必須為透明。優選被粘物密合膜5的總透光率為85%以上。
此外，優選被粘物密合層2富有柔軟性，作為儲能模量，例如，優選25°C約1.0XlO5Pa 5.0XlO7Pa0
此外，為了減少被粘物與被粘物密合層2之間產生的空氣層，使得密合力穩定，優選被粘物密合層2的表面的凹凸儘可能少且平滑。因此，優選被粘物密合層2的表面的中線平均粗糙度Ra為0.05 1.2 ii m。更 優選表面的中線平均粗糙度Ra為0.05 0.6 y m，特別優選表面的中線平均粗糙度Ra為0.05 0.2 ii m。
此外，在根據本發明的表面保護膜10中，為了將對被粘物密合層2的被粘物的粘合力 密合性設定為適度的值，調整被粘物密合層2中使用的矽酮樹脂的粘彈性、交聯密度。一般地，通過加減調整矽酮聚合物中的官能團的數目、甲基羥基聚矽氧烷等的交聯劑的添加量等來調整粘合力 密合性。根據需要，也可添加與矽酮樹脂等、矽酮聚合物相容性良好的常溫下為固體的添加劑。
此外，為改良根據本發明的表面保護膜10的透明基材I與矽酮樹脂構成的被粘物密合層2之間的密合性，根據需要，可向矽酮樹脂中添加矽烷偶聯劑等。
為了在根據本發明的表面保護膜10的透明基材I上形成被粘物密合層2，作為層積矽酮樹脂的方法，可使用已經公知的方法進行。一般可舉出逗號塗布法-—卜法)、邁耶棒塗布法、凹版塗布法、逆向輥塗布法、模縫塗布法、簾式塗布法等。塗布在透明基材I上的矽酮樹脂可通過加熱固化、紫外線固化、電子束固化等方法，使之發生固化反應，形成矽酮樹脂皮膜。
為了保護根據本發明的表面保護膜10的、由矽酮樹脂形成的被粘物密合層2的表面，以及，除去向被粘物遷移的矽酮的游離成分，在被粘物密合層2的表面貼合在基材4的一面上形成粘合劑層3得到的覆蓋膜6。覆蓋膜6為在塑料膜或紙等的基材4上以公知的方法塗布粘合劑形成粘合劑層3得到。
覆蓋膜6的粘合劑層3中使用的粘合劑的粘合力沒有特別的限制，能夠使用從微粘合至強粘合的物質。此外，在覆蓋膜6中使用的粘合劑層3的塗布厚度也沒有特別的限制，從粘合特性與成本的觀點來看，優選厚度為約I 40i!m。
此外，作為用於覆蓋膜6中的粘合劑，可舉出丙烯酸類粘合劑、氨基甲酸乙酯類粘合劑、橡膠類粘合劑等的粘合劑，以及聚乙烯醋酸乙烯酯樹脂等的粘附性樹脂等。為了除去從被粘物密合層2的表面向被粘物遷移的矽酮的游離成分，以及抑制粘合劑成分從覆蓋膜6的粘合劑層3向被粘物密合層2的遷移，在覆蓋膜6中使用的粘合劑更優選為丙烯酸類粘合劑、氨基甲酸乙酯類粘合劑、橡膠類粘合劑。
此外，在覆蓋膜6中使用的粘合劑層的粘合力，以JISZ - 0237為標準，在對不鏽鋼板剝離角度為180°、 剝離速度為300mm / min測定時，優選在約0.05 20N/25mm。覆蓋膜6的粘合劑層的粘合力在0.05N/25mm以下，則從被粘物密合層除去矽酮遷移成分變得不充分，有被粘物汙染增加的擔心。覆蓋膜6的粘合劑層的粘合力在20N/25mm以上，則從表面保護膜剝離覆蓋膜時的剝離力變高，剝離變難，從而不優選。
在覆蓋膜6中使用的基材4可以使用以下任一種:聚酯、聚醯胺、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚醯亞胺等的塑料膜，優質紙、牛皮紙、銅版紙、粘土塗布紙^ ^一卜紙)、玻璃紙等的紙基材，以及，在上述紙基材上層壓聚乙烯或聚丙烯得到的樹脂層壓紙等。由於在覆蓋膜6中使用的基材4為被剝離除去的物質，透明、半透明、不透明均可使用。
在將根據本發明的表面保護膜10用於光學用途的情況下，作為用於覆蓋膜6的基材4，比起會擔心紙粉附著在被粘物上的紙基材，優選由塑料膜形成的基材。此外，考慮到作為表面保護膜10本身的品質檢查進行的外觀檢查工序，更優選具有高的透明性等的許多優秀的特性的聚酯膜。
在從表面保護膜10剝離覆蓋膜6時的剝離帶電壓影響用途的情況下，通過在覆蓋膜6的基材4的一面或兩面上施加抗靜電劑，能夠抑制剝離覆蓋膜6時的剝離帶電壓。
根據本發明的將覆蓋膜6貼合於在透明基材I上層積被粘物密合層2得到的被粘物密合膜5的方法可使用公知的方法。例如，經由粘合劑層3，將預先在基材4上層積粘合劑層3得到的覆蓋膜6貼合至被粘物密合膜5的被粘物密合層2的面上的方法，在被粘物密合膜5的被粘物密合層2上塗布粘合劑，在粘合劑層3乾燥後貼合覆蓋膜6的基材4完成覆蓋膜6的方法均可。
在使得根據本發明的表面保護膜貼合於被粘物時，如圖2所示，將從表面保護膜10剝離覆蓋膜6得到的被粘物密合膜5，經由被粘物密合層2貼合於被粘物7。
作為被粘物7，可舉出相機鏡頭、眼鏡鏡片、車輛用前大燈透鏡、光纖等的光學部件、各種顯示器(PDP、IXD、有機EL等)的圖像顯示體、透鏡陣列片、觸控面板、偏光板、漫射板、相位差板、導光板等的各種光學膜、不鏽鋼板、鋁板等的金屬板、亞克力板等的塑料板、玻璃板等的建築材料以及工業材料、醫療儀器、半導體製造相關儀器等的精密儀器等等。根據本發明的光學部件、顯示器、光學膜、建築材料、工業材料、醫療儀器、精密儀器等的工業製品，為將由根據本發明的表面保護膜得到的被粘物密合膜貼合於被粘面得到的物質，因而在剝離時能夠輕鬆地剝離，在製造工序中的使用中緊密密合於被粘物，能夠以保護被粘面(優選為平滑面)的狀態實施保管、檢查、輸送等，且在剝離被粘物密合膜之後的被粘面的汙染少。根據本發明的表面保護膜可具有在透明基材的兩面上層積被粘物密合層得到的被粘物密合膜。這種情況下，為了保護被粘物密合層的表面的覆蓋膜成為兩片，能夠分別貼合於被粘物密合膜的兩面的被粘物密合層。[實施例]下面，通過實施例進一步說明本發明。(實施例1的表面保護膜的製備)在厚度為50 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂膜的一面上，以使得乾燥固化後的厚度為25 μ m的方式塗布陽離子聚合類型的矽酮樹脂(相對於主劑100重量份添加5重量份荒川化學制P0LY-201、催化劑CAT-211)，使用紫外線照射機進行累積光量IOOOmJ/cm2 X 2次的UV照射處理，使得矽酮樹脂固化形成被粘物密合層。然後，將具有丙烯酸類微粘合劑層的覆蓋膜經由該微粘合劑層貼合於矽酮樹脂形成的被粘物密合層的表面，得到實施例I的表面保護膜。這樣，上述的覆蓋膜為，在厚度38μπι的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂膜的一面上，以使得乾燥後的粘合劑層的厚度為25 μ m的方式塗布丙烯酸類粘合劑(丙烯酸2-乙基己酯與丙烯酸2-羥基乙酯的95/5的共聚物與異氰酸酯類固化劑(日本#1J々 > 夕 >工業制，- α +—卜L-45，相對於主劑100重量份添加2重量份)混合得到的物質)，在100°C的熱風循環式烘箱中乾燥層積得到的物質。(實施例2的表面保護膜的製備)作為矽酮樹脂替換為巰基/乙烯基反應型矽酮樹脂(將信越化學工業制X — 62 —7028A與X — 62 — 7028B以100/10的比率混合得到的物質)，以乾燥固化後的厚度為50 μ m的方式形成被粘物密合層，製成使得粘合劑層的厚度為15 μ m的覆蓋膜，除此之外，與實施例I同樣，得到實施例2的表面保護膜。(實施例3的表面保護膜的製備)作為矽酮樹脂替換為加成反應型的矽酮樹脂(將信越化學工業制X — 62 — 1873與催化劑PL — 56以100/2的比率混合得到的物質)，以在120°C的熱風循環式烘箱中乾燥3分鐘代替紫外線照射形成被粘物密合層，除此之外，與實施例1同樣，得到實施例3的表面保護膜。(實施例4的表面保護膜的製備)使得矽酮樹脂的塗布厚度為5 μ m形成被粘物密合層，除此之外，與實施例3同樣，得到實施例4的表面保護膜。(實施例5的表面保護膜的製備)作為矽酮樹脂替換為加成型的矽酮粘合劑(將信越化學工業制X — 40 — 3306與催化劑PL - 50T以100/0.2的比率混合得到的物質)形成被粘物密合層，除此之外，與實施例3同樣，得到實施例5的表面保護膜。(實施例6的表面保護膜的製備)作為矽酮樹脂替換為加成型的溶劑型矽酮樹脂(東一二U -一 >制SD7223與催化劑SRX — 212Cat以100/0.6的比率混合得到的物質)，使得矽酮樹脂的塗布厚度為2 μ m形成被粘物密合層，作為覆蓋膜，使用丙烯酸類強粘合劑(卜一 3 — *^株式會社制，才'J ^ ^ ^BPS — 5127)，使得粘合劑層的厚度為15 μ m製成覆蓋膜，除此之夕卜，與實施例3同樣，得到實施例6的表面保護膜。(實施例7的表面保護膜的製備)使得矽酮樹脂的塗布厚度為250 μ m,乾燥時間為5分鐘形成被粘物密合層，除此之外，與實施例3同樣，得到實施例7的表面保護膜。(實施例8的表面保護膜的製備)作為覆蓋膜的丙烯酸類的微粘合劑層的替代品使用橡膠類的強粘合劑(卜一 3 —』 A株式會社制，才'J ^ ^ ^BPS — 2411)，使得粘合劑層的厚度為15 μ m製成覆蓋膜，除此之外，與實施例1同樣，得到實施例8的表面保護膜。(比較例I的表面保護膜)使用厚度為38 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂膜代替實施例1的覆蓋膜，除此之外，與實施例1同樣，得到比較例I的表面保護膜。(比較例2的表面保護膜)使用厚度為38 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂膜代替實施例3的覆蓋膜，除此之外，與實施例3同樣，得到比較例2的表面保護膜。(比較例3的表面保護膜)使得矽酮樹脂的塗布厚度為I μ m形成被粘物密合層，作為覆蓋膜使用丙烯酸類強粘合劑(卜一 3 — > Λ株式會社制，才/SM > BPS — 5127)，使得粘合劑層的厚度為15 μ m製成覆蓋膜，除此之外，與實施例3同樣，得到比較例3的表面保護膜。(比較例4的表面保護膜)用丙烯酸類粘合劑(丙烯酸2-乙基己酯與丙烯酸2-羥基乙酯的95/5的共聚物與異氰酸酯類固化劑(日本U> 夕 >工業制，-口 +—卜L-45，相對於主劑100重量份添加2重量份)混合得到的物質)代替矽酮樹脂形成被粘物密合層，作為覆蓋膜使用採用矽酮類的剝離劑進行剝離處理的隔離膜，除此之外，與實施例3同樣，得到比較例4的表面保護膜。以下示出根據本發明的評價試驗的方法及試驗結果。(表面保護膜的粘合力) 將表面保護膜裁切成寬度尺寸為25mm，製成表面保護膜的試驗片，剝除貼合於其上的覆蓋膜。使用2kg的橡膠輥以不混入氣泡的方式將表面保護膜的試驗片貼合於玻璃板的表面上。然後，在23 °C X 50% RH的試驗環境下放置I小時後，以使用拉力試驗機以300mm/min的速率向180°方向剝離測得的剝離強度作為粘合力。〈潤溼性〉將表面保護膜裁切成寬度尺寸50mmX長度尺寸IOOmm的試驗片。剝除貼合於其上的覆蓋膜，以寬度尺寸50mmX長度尺寸20mm接觸的方式使得表面保護膜的被粘物密合層密合到玻璃板的表面上。其後，使手從表面保護膜的試驗片離開，測量該試驗片利用其自重在玻璃板上密合的經歷時間。使手從表面保護膜的試驗片離開，將達到該試驗片的長度方向的90mm密合的經歷時間作為潤溼性。〈被粘物表面的汙染性〉將表面保護膜裁切成寬度尺寸50mmX長度尺寸IOOmm的試驗片。剝除貼合於其上的覆蓋膜，使用2kg的橡膠輥以不混入氣泡的方式將表面保護膜的試驗片貼合於厚度為38 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂膜(三菱樹脂株式會社制TlOO — 38)的表面上。其後，在23°C X50% RH的試驗環境下放置24小時後，剝取表面保護膜的試驗片，使用接觸角計測定接觸表面保護膜的試驗片的被粘物表面的水接觸角。通過與空白樣(單純PET膜的水接觸角)比較，判定被粘物表面的汙染的程度。空白的PET膜的水接觸角為65°。被粘物表面的汙染性的指標(K)通過K=(在試驗片上的水接觸角測定值+65 -1) XlOO的計算式計算，該數值越小則意味著被粘物表面的汙染性越少。(表面保護膜的製造工序中的貼合外觀)使用小型的試驗用塗布裝置(井上金屬工業株式會社制，商品名f ^卜- 一夕一)，在透明基材上塗布矽酮樹脂，乾燥，根據需要進行紫外線照射後，貼合指定的覆蓋膜並卷繞。目視觀察經卷繞的表面保護膜的外觀，確認覆蓋膜有無浮起(覆蓋膜與被粘物密合層間有無氣泡)。對實施例1 8以及比較例I 4的表面保護膜，在表I 3中示出表面保護膜的粘合力、潤溼性、被粘物表面的汙染性、表面保護膜的製造工序中的貼合外觀等的試驗結
果O[表 I]
權利要求
1.一種表面保護膜，其具有在透明基材的至少一面上層積由矽酮樹脂形成的表面平滑的被粘物密合層得到的被粘物密合膜，為了保護上述被粘物密合層的表面，將在基材的一面上形成粘合劑層而得到的覆蓋膜經由上述粘合劑層貼合於該被粘物密合層的表面。
2.根據權利要求1所述的表面保護膜，其中上述被粘物密合層的厚度為2 250ym。
3.根據權利要求1或2所述的表面保護膜，其中上述覆蓋膜的粘合劑層由丙烯酸類粘合劑形成。
4.一種光學部件，其通過上述被粘物密合層貼合有從權利要求1或2所述的表面保護膜剝離上述覆蓋膜得到的上述被粘物密合膜。
5.一種光學部件，其通過上述被粘物密合層貼合有從權利要求3所述的表面保護膜剝離上述覆蓋膜得到的上述被粘物密合膜。
6.選自顯示器、光學膜、建築材料、工業材料、醫療儀器、精密儀器等的工業製品組的任一工業製品，其通過上述被粘物密合層貼合有從權利要求1或2所述的表面保護膜剝離上述覆蓋膜得到的上述被粘物密合膜。
7.選自顯示器、光學膜、建築材料、工業材料、醫療儀器、精密儀器等的工業製品組的任一工業製品，其通過上述被粘物密合層貼合有從權利要求3所述的表面保護膜剝離上述覆蓋膜得到的上述被粘 物密合膜。
全文摘要
本發明提供一種表面保護膜以及貼合其的光學部件、工業製品。所述表面保護膜為即使被粘物密合層的粘合力降低，在製造表面保護膜的工序中，被粘物密合層與作為用於保護其表面的膜的覆蓋膜之間也不發生浮起，具有表面平滑的被粘物密合層，從被粘物剝離時能夠輕鬆地剝離，在製造工序中的使用中緊密密合於被粘物保護被粘物的表面保護膜，且在剝離表面保護膜之後的被粘物表面的汙染少。表面保護膜10具有在透明基材1的至少一面上層積由矽酮樹脂形成的表面平滑的被粘物密合層2得到的被粘物密合膜5，為了保護被粘物密合層2的表面，將在基材4的一面上形成粘合劑層3的覆蓋膜6經由粘合劑層3貼合至被粘物密合層2的表面。
文檔編號G02B1/10GK103194152SQ201210545119
公開日2013年7月10日 申請日期2012年12月14日 優先權日2012年1月10日
發明者林益史, 千嶋憲治, 宮坂洋之 申請人:藤森工業株式會社