簾式塗布設備和簾式塗布方法
2023-06-04 09:54:56 1
專利名稱：：簾式塗布設備和簾式塗布方法
技術領域：
：0001本發明涉及一種簾式塗布設備和簾式塗布方法，並且更特別地，本發明涉及能夠避免簾式薄膜擺動、抑制液體沉積在邊緣引導件的爪上以及抑制簾式薄膜向內偏離的簾式塗布設備及其方法。
背景技術：
：0002簾式塗布方法廣泛地用於例如照相膠片等照相感光材料的生產。對於簾式塗布方法，已知以下方法。一種是圖1所示的方法，其中從噴嘴切口中噴出的塗布液體3被允許通過簾式邊緣引導件2向著連續運轉的巻狀巻狀物5以類似簾式的方式自由落下，由此形成塗布薄膜。另一種是圖2所示的方法，其中從噴嘴切口中噴出的塗布液體3被允許在滑動表面7上移動並且之後通過簾式邊緣引導件2'向著連續運轉的巻狀物5以類似簾式的方式自由落下，由此形成塗布薄膜。此外，對於多層塗布方法，已知以下方法。一種方法是其中從各自的噴嘴切口中噴出的具有不同功能的塗布液體被允許通過簾式邊緣引導件向著連續運轉的巻狀物以類似簾式的方式自由落下，由此形成塗布薄膜。另一種方法是其中從各自的噴嘴切口中噴出的具有不同功能的塗布液體被允許在滑動表面上層覆，並且層覆後的液體之後被允許通過簾式邊緣引導件向著連續運轉的巻狀物以類似簾式的方式自由落下，由此形成塗布薄膜。0003注意，在圖1和圖2中，參考標記4和6分別表示真空單元和支撐輥。0004然而，上述方法存在以下缺點。如圖1和2所示，真空單元4布置在與巻狀物5上的簾式塗布液體3的傳輸方向相對的部分處。真空單元4吸收由運轉的巻狀物5拖拽的空氣以避免發生夾氣現象(該現象為由傳輸的巻狀物5拖拽的空氣在巻狀物5上的塗布液體3的傳送部分處陷入塗布在巻狀物5上的塗布液體3中，從而變為氣泡)。因此，如圖3所示，當由傳輸的巻狀物5拖拽環境空氣時(由圖3中向下的實線箭頭表示)，真空單元4在塗布液體簾式薄膜3a的端部吸收環境空氣(由圖3中向上的實線箭頭表示)，使得空氣在圖3中由虛線箭頭指示的方向中流動。因此，塗布液體簾3a變得不穩定，使得該塗布液體簾3a擺動。之後，塗布液體離開簾式邊緣引導件2，並且塗布液體簾式薄膜3a向內偏離，結果塗布的寬度變得不穩定。此外，這種向內的偏離導致在塗布寬度方向上的端部處的塗布液體的過量沉積。因此，由於生產過程中的不均勻的塗布寬度使得產品的損耗增大。此外，當塗布液體的沉積在塗布寬度方向上的端部過量時，在生成過程中由於不完全烘乾而出現未乾燥的部分，使得在生產期間塗布液體附著到巻狀物傳輸輥。這之後使得後續的巻狀物塗布表面被汙染，導致在產品巻繞時的阻塞，或者導致巻狀物由於端部的提升而在巻繞時被切割，由此降低了生產效率。注意，在圖3中，參考標記3b、4和6分別表示塗布液體(在巻狀物上)、真空單元和支撐輥。0005在圖4A中所示的簾式塗布中，為了穩定簾式薄膜102的目的，用於引導簾式形式的塗布液體的簾式邊緣引導件101允許輔助液體103流動從而使簾式薄膜的邊緣流速變得接近簾式薄膜的中心流速。輔助液體從簾式邊緣引導件101的底邊緣吸取從而被收集。然而，在收集輔助液體的同時還收集塗布液體，並且由此，如圖4C所示，液體107的沉積累積在簾式邊緣引導件的爪104和吸取埠105上。這是因為氣流中的一部分快於其他部分，這是由收集輔助液體時爪的塗布液體接觸表面處簾式薄膜102的巻狀物傳輸方向側上和另一側上的空氣-液體分界面上的巻狀空氣吸取導致的。因此，塗布液體在具有爪的接觸部分處的流動變得緩慢，並且緩慢流動的塗布液體變千。此外，由於簾式薄膜102的擺動大，則液體107在簾式邊緣引導件101的底部爪處的沉積量隨著連續生產的時間而變大。之後，因為液體沉積的存在，由爪的邊緣支撐的簾式薄膜102過濾到保持部件，並且此時，簾式薄膜的位置從輔助液體103的位置移開，簾式薄膜接觸邊緣引導件的框架(簾式薄膜的邊緣的流速變得緩慢)，並且發生簾式薄膜102的向內偏離。由此，出現的問題是關於塗布寬度方向上的邊緣部分的沉積量變大。因此，由於塗布寬度在生產時的不均勻，使得產品損耗增大。此外，由於關於塗布寬度方向上的邊緣的沉積量大，由於生產中劣等的烘乾而生成未乾燥的部分。由此，塗布液體在生產期間粘附到巻狀物的傳輸輥，並且此後所粘附的塗布液體可能汙染塗布有薄膜的巻狀物的表面，或者可能在最終產品被巻起時引起阻塞。此外，由於邊緣部分被抬高，巻狀物可能在巻起時被切割或分離。因此，存在的問題是使得生產效率降低。0006注意，除非特別說明，否則在圖4A中，箭頭顯示了巻狀物的傳輸方向，在圖4B中，箭頭顯示了輔助液體的吸收，並且在圖4C中，箭頭顯示了空氣的吸收。0007為了避免塗布液體簾式薄膜的這種擺動和向內偏離，提出了以下方法。日本專利申請特開平(JP-A)No.11-188299公開了一種簾式塗布方法，其中簾式邊緣引導件採用多孔材料，並且輔助液體均勻地流入簾式邊緣引導件和簾式塗布液體之間的接觸表面。JP-ANo.2001-46939公開了一種簾式塗布方法，其中板狀玻璃被布置在簾式邊緣引導件和簾式塗布液體之間的接觸面處。JP-ANo.2003-71353公開了一種簾式塗布方法，其中在由簾式薄膜擋住的支撐構件的傳輸方向上的上遊側中的空間的壓力被減小。0008然而，在JP-ANo.11-188299，No.2001-46939和No,2003-71353中公開的以上簾式塗布方法中，未解決的是在塗布液體簾式薄膜的端部處拖拽環境空氣從而使得塗布液體簾式薄膜不穩定進而導致該塗布液體簾式薄膜擺動的問題。此外，塗布液體的沉積累積在邊緣引導件的爪上，塗布液體離開簾式邊緣引導件，並且塗布液體簾式薄膜向內偏離，導致不穩定的塗布寬度、不良的產品和生產效率的下降。
發明內容0009本發明鑑於本領域中固有的以上問題而產生，並且本發明的目的是提供一種簾式塗布設備和簾式塗布方法，從而能夠避免因簾式薄膜的端部周圍空氣的影響而導致的塗布液體簾式薄膜的不穩定運動，避免了邊緣引導件的爪上的塗布液體的沉積，並且避免了簾式薄膜的向內偏離。0010解決以上問題的裝置如下所述(1)一種簾式塗布設備，其包括噴射單元，其具有用於噴射塗布液體的切口；引導單元，其被構造為將從切口噴射出的塗布液體以類似簾式的方式引導到支撐構件上；以及傳輸單元，其被構造為傳輸支撐構件，其中所述引導單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的塗布液體關於切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導部分；以及擋風板，其被布置為接觸簾式邊緣引導部分。(2)根據(1)中所述的簾式塗布設備，其中引導單元包括滑動表面，並且所述噴射單元將塗布液體噴射到滑動表面上。(3)根據(2)中所述的簾式塗布設備，其中所述引導單元包括位於滑動表面關於切口的開口方向的兩個端部處的滑動表面簾式邊緣引導部分。(4)根據(1)-(3)中任一項所述的簾式塗布設備，其中所述噴射單元包括多個切口。(5)根據(1)-(4)中任一項所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板被布置在簾式邊緣引導部分關於支撐構件的傳輸方向的相對側上。(6)根據(5)所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板布置為與支撐構件的傳輸方向平行並且與支撐構件垂直。(7)根據(5)所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板布置為與支撐構件的傳輸方向及支撐構件垂直。(8)根據(1)-(7)中任一項所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板在與支撐構件平行的方向上具有10mm或更大的長度。(9)根據(1)-(8)中任一項所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板在與支撐構件垂直的方向上具有10mm或更大的長度。(10)根據(1)-(9)中任一項所述的簾式塗布設備，其中所述簾式邊緣引導部分和支撐構件之間的距離小於或等於擋風板和支撐構件之間的距離。(11)根據(10)所述的簾式塗布設備，其中所述簾式邊緣引導部分和支撐構件之間的距離比擋風板和支撐構件之間的距離小Omm-10mm。(12)根據(1)-(11)中任一項所述的簾式塗布設備，其中支撐構件側的擋風板的下端傾斜從而使更靠近簾式邊緣引導部分的下端部分更靠近支撐構件。(13)根據(12)所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板的下端的傾斜角度是O.l。至40°。(14)一種簾式塗布方法，該方法包括從切口噴射塗布液體；通過引導單元將從切口噴射出的塗布液體以類似簾式的方式引導到支撐構件上；並且傳輸支撐構件，其中引導單元包括被提供在以類似簾式的方式噴射的塗布液體關於切口的開口方向上的兩個端部處的簾式邊緣引導部分，以及布置為接觸簾式邊緣引導部分的擋風板。(15)根據(14)所述的簾式塗布方法，其中所述引導單元包括滑動表面，並且所述噴射為將塗布液體噴射到滑動表面上。(16)根據(15)所述的簾式塗布方法，其中所述引導單元包括位於滑動表面關於切口的開口方向的兩個端部處的滑動表面簾式邊緣引導部分。(17)根據(14)-(16)中的任一項所述的簾式塗布方法，其中所述噴射是自多個切口噴射塗布液體。(18)根據(14)-(17)中的任一項所述的簾式塗布方法，其中所述擋風板布置在簾式邊緣引導部分關於支撐構件的傳輸方向的相對側上。(19)根據(18)所述的簾式塗布方法，其中所述擋風板布置為與支撐構件的傳輸方向平行並且與支撐構件垂直。(20)根據(18)所述的簾式塗布方法，其中所述擋風板布置為與支撐構件的傳輸方向及支撐構件垂直。(21)根據(14)-(20)中任一項所述的簾式塗布方法，其中所述擋風板在與支撐構件平行的方向上具有10mm或更大的長度。(22)根據(14)-(21)中任一項所述的簾式塗布方法，其中所述擋風板在與支撐構件垂直的方向上具有10mm或更大的長度。(23)根據(14)-(22)中任一項所述的簾式塗布方法，其中所述簾式邊緣引導部分和支撐構件之間的距離小於或等於擋風板和支撐構件之間的距離。(24)根據(23)所述的簾式塗布方法，其中所述簾式邊緣引導部分和支撐構件之間的距離比擋風板和支撐構件之間的距離小0mm-10mm。(25)根據(14)-(24)中任一項所述的簾式塗布方法，其中支撐構件側的擋風板的下端傾斜從而使下端更靠近簾式邊緣引導部分的部分更靠近支撐構件。(26)根據(25)所述的簾式塗布方法，其中所述擋風板的下端的傾斜角度是O.l。至40°。0011根據本發明，一種簾式塗布設備和簾式塗布方法能夠避免由塗布液體簾式薄膜的端部周圍的環境空氣引起的簾式薄膜的不穩定的擺動，避免了邊緣引導件的爪上的塗布液體的沉積，並且避免了簾式薄膜的向內偏離。0012圖1是傳統的簾式塗布設備的構造示例的橫截面透視0013圖2是傳統的簾式塗布設備的另一個構造示例的橫截面透視0014圖3是傳統的簾式塗布設備的俯視圖，該俯視圖示出了塗布液體簾式薄膜端部周圍部分的構造；0015圖4A是示出了傳統的簾式塗布設備的透視0016圖4B是圖4A中的放大的部分視0017圖4C是說明用於在簾式塗布期間在爪上形成沉積的機構的圖示；0018圖5A是示出了根據本發明的第一實施例的簾式塗布設備的示意0019圖5B是示出了根據本發明的第一實施例的簾式塗布設備在操作時的示意0020圖6A是根據第一實施例的簾式塗布設備的示意性透視圖，該透視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構造；0021圖6B是根據第一實施例的簾式塗布設備的示意性俯視圖，該俯視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構造；0022圖7是在根據本發明的簾式塗布設備的擋風板的第二改型中的簾式薄膜端部周圍部分的構造的示意性俯視0023圖8是根據本發明的簾式塗布設備的擋風板的第一改型中的簾式薄膜端部周圍的部分構造的示意性的透視0024圖9是用於說明生產過程中簾式邊緣引導件的狀態和塗布液體的遷移的圖示；0025圖IOA是示出了根據本發明的第二實施例的簾式塗布設備的示意0026圖10B是示出了根據本發明的第二實施例的簾式塗布設備在操作時的示意0027圖UA是用於說明表1中的"不存在向內偏離"的狀態的圖示；以及0028圖11B是用於說明表1中的"存在向內偏離"的狀態的圖示。具體實施例方式0029本發明的簾式塗布設備包括噴射單元1，其具有用於噴射塗布液體的切口；引導單元，其用於引導從切口噴射出的塗布液體以類似簾式的方式噴射到支撐構件上；以及傳輸單元6，其用於傳輸支撐構件，並且簾式塗布設備可以按需要進一步包括其他單元。引導單元包括被提供在以類似簾式的方式噴射的塗布液體關於切口的開口方向的兩個邊緣處的簾式邊緣引導部分；以及擋風板，其被布置為接觸簾式邊緣引導部分。0030擋風板優選為(1)放置為與支撐構件的傳輸方向平行並且與所述支撐構件垂直，或者(2)放置為與支撐構件的傳輸方向垂直並且垂直於所述支撐構件。0031不特別限制與支撐構件處於平行的方向內的擋風板的長度(寬度)，並且擋風板被置於關於水平方向的支撐構件的整個長度(寬度)上。擋風板的長度(寬度)優選為10mm或更大，更優選為10mm至30mm。0032不特別限制與支撐構件處於垂直的方向內的擋風板的長度(高度)，並且擋風板可以整體地相對於與支撐構件的垂直方向而放置。擋風板的長度(高度)優選為10mm或更大，更優選為10mm至60mm。0033此後，將參考附圖對本發明的簾式塗布設備進行更詳細的說明。0034以下實施例是本發明的優選實施例，並且應用了多種技術上優選的限制。然而，除非被指明，否則本發明不限於以下各方面。(第一實施例)0035圖5A是示出了根據本發明的第一實施例的簾式塗布設備的示意圖，並且圖5B是示出了根據本發明的第一實施例的簾式塗布設備在操作時的示意圖。0036塗布液體3被保持在簾式塗布頭1中，該簾式塗布頭1是具有切口的噴射單元。塗布液體3在由簾式邊緣引導件2引導的同時，在重力方向上從簾式塗布頭1噴射(允許自由地下落)到作為支撐構件的巻狀物5上，所述簾式邊緣引導件2是被提供在塗布液體3的兩個端部處的簾式邊緣引導部分。巻狀物5以恆定速度通過傳輸單元在一個方向上傳輸，所述傳輸單元包括支撐輥6和其他未示出的構件。此時，布置在巻狀物5的傳輸方向上相對於塗布液體3的液簾的上遊側上的真空單元4減小了由簾式邊緣引導件2、塗布液體3的液簾、巻狀物5等圍繞的空間中的空氣壓力。擋風板9被布置為接觸簾式邊緣引導件2並且為塗布液體3的液簾的端部遮蔽了幹擾氣流。參考標記3a表示塗布液體(簾式薄膜)並且參考標記3b表示(巻狀物上的)塗布液體。0037簾式塗布頭1具有的切口可以具有任意形狀，只要該切口可以以類似簾式的形式噴射塗布液體。優選地，所述切口具有對於切口寬度而言長度足夠(在切口開口方向上)的矩形橫截面。切口寬度和切口長度可以根據塗布液體的粘性或噴射量、使用的巻狀物的尺寸等被任意設計。0038此外，簾式塗布頭1可以具有多個切口。在此情況下，優選為不同的塗布液體從各自的切口噴射並且以層疊狀態塗布在支撐構件上。0039在本發明中，簾式邊緣引導件2可以是任意類型，只要其可以形成簾式薄膜並且可以是已知的傳統構件。0040此外，在本發明中，塗布液體3可以是任意類型的，只要其可以形成簾式薄膜並且可以是已知的傳統液體。0041真空單元4可以是任意類型的，只要其可以吸收空氣並且減小壓力並且可以是已知的傳統設備。此外，包括支撐輥6的傳輸單元可以是任意類型，只要其可以傳輸巻狀物5並且可以是已知的傳統傳輸單元。0042巻狀物5是由紙張、薄膜或薄膜金屬構成的基材，該基材表面塗覆有塗布液體。可以使用塗覆來處理巻狀物5的表面。0043圖6A是根據第一實施例的簾式塗布設備的示意性透視圖，該透視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構造，並且圖6B是根據第一實施例的簾式塗布設備的示意性俯視圖，該俯視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構造。0044如圖6A和6B所示，擋風板9在巻狀物5的傳輸方向上關於以類似簾式的方式流動的塗布液體3a的相對側上附連到簾式邊緣引導件2的下端。這種構造為塗布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導件2關於巻狀物傳輸方向的相對側上以影響該端部部分的幹擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導件2處的向內偏離。0045在本實施例中，擋風板9被布置為垂直於巻狀物5的傳輸方向以及巻狀物5。這種構造有效地為塗布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導件2關於巻狀物傳輸方向的相對側上以影響該端部部分的幹擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導件2處的向內偏離。0046雖然未特別地限定，但例如鐵、不鏽鋼或鋁等的金屬以及例如Teflon⑧或PET等的樹脂均可以優選地用作擋風板9的材料。0047擋風板9優選為具有給定寬度、高度和厚度的板狀構件。0048此外，擋風板9優選為在與巻狀物5平行的方向上(擋風板9的寬度方向上)具有10mm或更大的長度。這種構造有效地為塗布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導件2關於巻狀物傳輸方向的相對側上以影響該部分的幹擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導件2處的向內偏離。0049此外，擋風板9優選為在與巻狀物5垂直的方向上(擋風板9的高度方向上)具有10mm或更大的長度。這種構造有效地為塗布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導件2關於巻狀物傳輸方向的相對側上以影響該部分的幹擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導件2處的向內偏離。0050此外，簾式邊緣引導件2的下端(巻狀物5側的端部)和巻狀物5之間的距離優選為小於或等於擋風板9的下端(巻狀物5側的端部)和巻狀物5之間的距離。通過這種構造，簾式邊緣引導件2的下端和巻狀物5之間的縫隙的大小可以被減小並且由此減小了環境空氣的入口，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導件2處的向內偏離。0051此外，簾式邊緣引導件2優選地被布置為距巻狀物5比距擋風板9近0mm至10mm。g卩，簾式邊緣引導件2和巻狀物5之間的距離比擋風板9和巻狀物5之間的距離小Omm至10mm。當簾式邊緣引導件2距巻狀物5比距擋風板9遠10mm或更大距離時，簾式邊緣引導件2不能為塗布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽幹擾氣流，該幹擾氣流生成在簾式邊緣引導件2關於巻狀物傳輸方向的相對側上以影響該部分，從而導致簾式薄膜3a的擺動並且由此發生了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導件2處的向內偏離。(擋風板的第一改型)0052圖8是在根據本發明的簾式塗布設備的擋風板的第一改型中的簾式薄膜端部周圍部分的構造的示意性俯視圖。0053在本改型中擋風板9'的下端(巻狀物5側的端部)傾斜成使得所述下端的一部分靠近簾式邊緣引導件2時該部分更接近巻狀物5。0054這種構造有效地避免了以下問題。也就是，如圖9所示，當塗布液體簾式薄膜3a在生產開始時移動到支撐輥8上的巻狀物位置時，如果此時簾式薄膜3a擺動，則塗布液體3接觸擋風板9'並且保持在擋風板9，上。由擋風板9'保持的塗布液體3落到該擋風板9'的下端。塗布液體3之後落到巻狀物5上從而導致不良塗布(由於塗布液體的過量沉積而導致的阻塞等)。然而在本改型中，由擋風板9'保持的塗布液體3由於擋風板9'下端的傾斜而移動到簾式邊緣引導件2側，由此避免了由擋風板9'保持的塗布液體3落在巻狀物5上。0055在此情況下，擋風板9'的傾斜角度優選為0.r至40°。當傾斜角度大於4(T時，簾式邊緣引導件2不能為塗布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽幹擾氣流，該幹擾氣流生成在簾式邊緣引導件關於巻狀物傳輸方向的相對側上以影響該部分，導致簾式薄膜3a的擺動並且由此發生了簾式薄膜3a在簾式邊緣弓I導件2處的向內偏離。(擋風板的第二改型)0056圖7是在根據本發明的簾式塗布設備的擋風板的第二改型中的簾式薄膜端部周圍部分的構造的示意性透視圖。0057在此改型中，擋風板9被布置為平行於巻狀物5的傳輸方向並且垂直於巻狀物5。這種構造為塗布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導件2關於巻狀物傳輸方向的相對側上以影響該部分的幹擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導件2處的向內偏離。(第二實施例；簾式塗布設備的改型)0058圖IOA是示出了根據本發明的第二實施例的簾式塗布設備的示意圖，並且圖10B是示出了根據本發明的第二實施例的簾式塗布設備在操作時的示意圖。0059優選地，引導單元具有滑動表面7並且更優選地，滑動表面簾式邊緣引導部分(滑動部分邊緣引導件)8被布置在滑動表面7關於切口開口方向的兩個端部處。0060圖2中示出的構造可以不被改變地應用到滑動表面7和滑動表面簾式邊緣引導部分8。除了滑動表面7和滑動表面簾式邊緣引導部分8以外的構造與第一實施例中的簾式塗布設備的構造相同，並且此處省略了這些構造的說明。0061此後，參考圖IOA和IOB，將說明根據第二實施例的簾式塗布設備的構造。0062在本實施例中，作為具有切口的噴射單元的滑動簾式塗布頭l'將塗布液體3'噴射在滑動表面7上，並且塗布液體3'層覆在滑動表面7上。當噴射的塗布液體3，由滑動部分邊緣引導件8引導時，該噴射的塗布液體3'在滑動表面7上滑動並且之後在重力方向上從滑動表面的滑動方向下遊端以類似簾式的方式自由落體，所述滑動部分邊緣引導件8是被布置在層疊的塗布液體的兩個端部(附圖中的切口縱向方向的端部)處的簾式邊緣引導部分。此時，塗布液體3'通過簾式邊緣引導件2被引導到作為支撐構件的巻狀物5上，所述簾式邊緣引導件2是被布置在塗布液體3'的液簾的兩個端部處的簾式邊緣引導部分。巻狀物5以恆定速度通過傳輸單元在一個方向上傳輸，所述傳輸單元包括支撐輥6和其他未示出的構件。真空單元4被布置在巻狀物5關於塗布液體3'的液簾的傳輸方向的上遊側上並且減小了簾式邊緣引導件2、塗布液體3，的液簾、巻狀物5等圍繞的空間中的空氣壓力。此外，擋風板9被置為接觸簾式邊緣引導件2並且為塗布液體3的液簾的端部屏蔽了幹擾氣流，該幹擾氣流在傳輸巻狀物5時或在操作真空單元4時產生。示例0063此後，將參考示例和比較示例對本發明做更詳細的說明，然而，無論如何，這些說明不應解釋為對本發明的範圍的限制。示例中使用的份意味著以質量計的份。[示例1]0064擋風板9附連到圖1所示的簾式塗布設備的簾式邊緣引導件2的下端從而在巻狀物傳輸方向上關於圖6中所示的類似簾式方式流動的塗布液體的相對側上被布置為與巻狀物5(垂直於巻狀物的傳輸方向)的傳輸方向平行巻狀並且與巻狀物5垂直。塗布液體以400m/min的塗布速度和250mm的塗布寬度被塗覆在巻狀物5(紙張)上，並且從噴嘴切口噴射出的塗布液體的流動速度為3,000g/min。0065擋風板9(PET薄膜)的尺寸被設置為30mm寬X60mm高X175戸厚，擋風板9和巻狀物5之間的距離被設置為等於簾式邊緣引導件2和巻狀物5之間的距離，真空單元4的真空壓力被設置為-3kpa，並且沿簾式邊緣引導件2的水流的體積被設置為30cc/min。0066塗布液體具有300mPas的粘性和35mN/m的靜態表面張力。塗布液體的成分如下(塗布液體成分)聚乙烯醇85份綠色素5份水915份0067之後，在以上塗布條件下鑑定存在/不存在簾式薄膜在簾式邊緣引導件2處的向內偏離和簾式邊緣引導件的爪上的沉積狀態。結果顯示在表1中。A:24小時無簾式薄膜的向內偏離B:2-3小時後發生向內偏離C:l小時後發生向內偏離A:非常少量的爪上的沉積B:少量的爪上的沉積C:大量的爪上的沉積0068使用如圖2中所示的滑動簾式塗布設備執行與示例1中相同的塗布步驟和鑑定。結果顯示在表1中。[示例3]0069如圖7所示，示例2的擋風板9附連到簾式邊緣引導件2的下端從而在巻狀物5的傳輸方向上關於類似簾式方式流動的塗布液體3的相對側上被布置為與巻狀物5的傳輸方向和巻狀物5(平行於巻狀物5的傳輸方向)垂直，並且執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定。結果顯示在表l中。[示例4]0070執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9在水平方向上的長度(寬度)被設置為10mm。結果顯示在表l中。[示例5]10071執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9在水平方向上的長度(寬度)被設置為5mm。結果顯示在表1中。[示例6]0072執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9在豎直方向上的長度(高度)被設置為10mm。結果顯示在表l中。[示例7]0073執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9在豎直方向上的長度(高度)被設置為5mm。結果顯示在表1中。[示例8]0074執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9和巻狀物5之間在高度方向上的距離比簾式邊緣引導件2和巻狀物5之間的距離大5mm。結果顯示在表1中。[示例9]0075執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9和巻狀物5之間的距離比簾式邊緣引導件2和巻狀物5之間的距離小10mm。結果顯示在表1中。[示例10]0076執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9和巻狀物5之間的距離比簾式邊緣引導件2和巻狀物5之間的距離大15mm。結果顯示在表1中。[示例11]0077執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9和巻狀物5之間的距離比簾式邊緣引導件2和巻狀物5之間的距離小2mm。結果顯示在表1中。[示例12]0078執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9的下端在寬度方向上向著簾式邊緣引導件2側向下傾斜40。，如圖8所示。結果顯示在表1中。[示例13]0079執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9的下端在寬度方向上向著簾式邊緣引導件2側向下傾斜45°，如圖8所示。結果顯示在表l中。0080執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中示例2的擋風板9的下端在寬度方向上向著簾式邊緣引導件2側向下傾斜1°，如圖8所示。結果顯示在表l中。[比較示例1]0081執行與示例1中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9從所述設備移除。結果顯示在表1中。[比較示例2]0082執行與示例2中相同的塗布步驟和鑑定，其中擋風板9從所述設備移除。結果顯示在表1中。表1tableseeoriginaldocumentpage180083表1中不存在和存在向內偏離的狀態在圖IIA和11B中進行了說明。0084以上示例1-14和比較示例1和2的結果揭示了本發明的簾式塗布設備可以避免由塗布液體簾式薄膜的端部周圍的環境空氣引起的簾式薄膜的不穩定擺動，避免了邊緣引導件的爪上的塗布液體的沉積，並且避免了簾式薄膜的向內偏離。權利要求1.一種簾式塗布設備，其包括噴射單元，其具有用於噴射塗布液體的切口；引導單元，其被構造為將從所述切口噴射出的所述塗布液體以類似簾式的方式引導到支撐構件上；以及傳輸單元，其被構造為傳輸所述支撐構件，其中所述引導單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的所述塗布液體關於所述切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導部分；以及被布置為接觸所述簾式邊緣引導部分的擋風板。2.根據權利要求1所述的簾式塗布設備，其中所述引導單元包括滑動表面，並且所述噴射單元將所述塗布液體噴射到所述滑動表面上。3.根據權利要求2所述的簾式塗布設備，其中所述引導單元包括位於所述滑動表面關於所述切口的開口方向的兩個端部處的滑動表面簾式邊緣引導部分。4.根據權利要求1所述的簾式塗布設備，其中所述噴射單元包括多個切口。5.根據權利要求1所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板被布置在所述簾式邊緣引導部分關於所述支撐構件的傳輸方向的相對側上。6.根據權利要求5所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板被布置為與所述支撐構件的傳輸方向平行並且與所述支撐構件垂直。7.根據權利要求5所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板被布置為與所述支撐構件的傳輸方向及所述支撐構件垂直。8.根據權利要求1所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板在與所述支撐構件平行的方向上具有10mm或更大的長度。9.根據權利要求1所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板在與所述支撐構件垂直的方向上具有10mm或更大的長度。10.根據權利要求1所述的簾式塗布設備，其中所述簾式邊緣引導部分和所述支撐構件之間的距離小於或等於所述擋風板和所述支撐構件之間的距離。11.根據權利要求10所述的簾式塗布設備，其中所述簾式邊緣引導部分和所述支撐構件之間的距離比所述擋風板和所述支撐構件之間的距離小0mm-10mm。12.根據權利要求1所述的簾式塗布設備，其中在所述支撐構件側的所述擋風板的下端傾斜從而使所述下端更靠近所述簾式邊緣引導部分的一部分更靠近所述支撐構件。13.根據權利要求12所述的簾式塗布設備，其中所述擋風板的所述下端的傾斜角度是0.r至40°。14.一種簾式塗布方法，該方法包括從切口噴射塗布液體；通過引導單元將從所述切口噴射的所述塗布液體以類似簾式的方式引導到支撐構件上；以及傳輸所述支撐構件；其中所述引導單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的所述塗布液體關於所述切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導部分，以及被布置為接觸所述簾式邊緣引導部分的擋風板。全文摘要提供一種簾式塗布設備，其包括噴射單元，該噴射單元具有用於噴射塗布液體的切口；引導單元，該引導單元將從切口噴射出的塗布液體以類似簾式的方式引導到支撐構件上；以及傳輸單元，該傳輸單元傳輸所述支撐構件。引導單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的塗布液體關於切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導部分，並且該引導單元還包括擋風板，該擋風板被布置為接觸所述簾式邊緣引導部分。本發明還提供簾式塗布方法。文檔編號B05C5/00GK101537402SQ200910128839公開日2009年9月23日申請日期2009年3月17日優先權日2008年3月17日發明者小堀英之,清水智仁,花井修司,高下泰秀申請人:株式會社理光