粘合型光學薄膜的剝離方法以及粘合型光學薄膜的製作方法

2023-05-29 03:40:11 1

專利名稱：粘合型光學薄膜的剝離方法以及粘合型光學薄膜的製作方法
技術領域：
本發明涉及從帶光學薄膜的玻璃基板剝離粘合型光學薄膜的粘合型光學薄膜的 剝離方法、以及在該剝離方法中使用的粘合型光學薄膜。作為前述的光學薄膜，可列舉出偏 振片、相位差板、光學補償薄膜、增光膜、視場角擴大薄膜、以及層疊有這些的部件等。
背景技術：
液晶顯示器等從圖像形成方式來看，在液晶單元的兩側配置偏振元件是必不可少 的，通常，在液晶單元的兩側粘貼有偏振片。此外，為了提高顯示器的顯示質量，在液晶面板 中，除了使用偏振片之外，還使用了各種光學元件。例如，可使用用於防止著色的相位差板、 用於改善液晶顯示器的視場角的視場角擴大薄膜、以及用於提高顯示器的對比度的增光膜 等。這些薄膜統稱為光學薄膜。在液晶單元上粘貼前述光學薄膜時，通常使用粘合劑。此外，在光學薄膜與液晶單 元、或者光學薄膜之間的粘接中，通常為了減少光損失而使用粘合劑來密合各種材料。在這 種情況下，由於具有無需乾燥工序就能使光學薄膜粘著等優點，因此粘合劑通常使用粘合 型光學薄膜，該粘合型光學薄膜是作為粘合劑層被預先設置在光學薄膜的一個面上的。以往，在將粘合型光學薄膜貼合到液晶單元的表面上的情況下會發生貼合位置偏 移，在帶入異物時液晶顯示會發生問題，因此將已貼附的粘合型光學薄膜剝離，將新的粘合 型光學薄膜再次貼附到液晶單元的表面上。但是，隨著液晶顯示器的大型化、液晶單元的薄 型化，剝離粘合型光學薄膜也逐漸變得困難，特別是當粘合劑層的粘合力較強時，剝離需要 較大的力，因而存在操作性變差、液晶單元的單元間隙發生變化而使得顯示質量降低、液晶 單元受損等問題。此外，為了節約製造成本，要求將剝離後的粘合型光學薄膜進行再利用， 以及能夠無殘膠地剝離的再加工(rework)性。作為解決前述問題的方法，提出了以下方法在液晶面板與光學薄膜之間插入已 加熱的電熱絲、切片工具(slicer)的同時使粘合劑軟化或熔融而剝離的方法(專利文獻1、 2)；以及在液晶面板上的光學薄膜上形成切口來進行分割，然後剝離該分割片的方法(專 利文獻3)。此外，還提出了將藉助粘合劑粘貼有透明薄膜的顯示材料浸漬在鹼性溶液中，然 後從該顯示材料剝離透明薄膜和粘合劑的方法(專利文獻4)。此外，還提出了如下方法將剝離用片材貼合到預剝離的光學構件上，將該剝離用 片材與光學構件一起剝離的方法(專利文獻5)；將偏振片粘合到粘合膠帶上進行剝離的方 法(專利文獻6)。此外，還提出了以下方法通過浸漬到濃硫酸中來除去玻璃基板上所帶有的偏振 片等的方法(專利文獻7)；通過使用丙酮、三氯乙烯等溶劑使粘合劑溶解並除去來剝離偏 振片的方法(專利文獻8)；通過對偏振片具有可溶性的溶劑使偏振片溶解並除去的方法 (專利文獻9)；在粘合型光學薄膜的粘合劑層與基板的剝離界面存在液體的狀態下進行剝 離的方法(專利文獻10)。
但是，在上述的方法中，需要進行在液晶面板和光學薄膜之間插入剝離夾具、或僅 將液晶面板上的光學薄膜切斷等困難的操作。此外，還存在液晶面板上產生大量的殘膠、或 因溶劑而使液晶面板受損等問題。現有技術文獻專利文獻1 日本特開平11-95210號公報專利文獻2 日本特開2002-350837號公報專利文獻3 日本特開2001-242448號公報專利文獻4 日本特開2001-328849號公報專利文獻5 日本特開2002-40259號公報專利文獻6 日本特開2002-159955號公報專利文獻7 日本特開2001-305502號公報專利文獻8 日本特開2001-337305號公報專利文獻9 日本特開2005-224715號公報專利文獻10 日本特開2005-148638號公報

發明內容
發明要解決的問題本發明的目的在於，提供可以不損壞玻璃基板、在玻璃基板上不產生殘膠、且容易 地從貼附有粘合型光學薄膜的玻璃基板上剝離粘合型光學薄膜的方法，以及在該剝離方法 中使用的粘合型光學薄膜。其目的在於，尤其是提供即使在粘合型光學薄膜長時間貼合在 玻璃基板上而導致粘接力提高、再加工操作變得極為困難的情況下，也能夠無殘膠且容易 地剝離粘合型光學薄膜的方法。用於解決問題的方案為了解決前述問題，本發明人等進行了深入的研究，結果發現，通過下述剝離方法 能夠達成上述目的，從而完成了本發明。即，本發明涉及粘合型光學薄膜的剝離方法，其為從帶光學薄膜的玻璃基板上剝 離粘合型光學薄膜的粘合型光學薄膜的剝離方法，所述帶光學薄膜的玻璃基板在玻璃基板 上貼附有粘合型光學薄膜，其特徵在於，粘合型光學薄膜的粘合劑層由水分散型粘合劑形成，將帶光學薄膜的玻璃基板暴露在溫度40°C以上且相對溼度80 %以上、或者溫度 50°C以上且相對溼度70%以上的環境下，然後從玻璃基板上剝離粘合型光學薄膜。如上述那樣，通過將帶光學薄膜的玻璃基板暴露在規定的環境下(暴露處理)，可 以充分降低粘合型光學薄膜的粘合劑層的粘接力，可以不損壞玻璃基板、無殘膠、且再加工 性良好地從玻璃基板剝離粘合型光學薄膜。根據本發明的剝離方法，在液晶面板的尺寸較 大的情況，或者在液晶單元較薄的情況下的再加工性也良好。此外，根據本發明的剝離方 法，即使在粘合型光學薄膜長時間貼合在玻璃基板上而導致粘接力變高的情況下，也能夠 無殘膠且容易地進行剝離。此外，通過由水分散型粘合劑形成前述粘合型光學薄膜的粘合劑層，從而利用上 述暴露處理使粘合劑層的吸水以及水分向粘合劑層與玻璃基板的界面的侵入不斷進行，粘合劑層的粘接力充分降低，因此，再加工性提高。此外，即使在暴露處理後回到室溫，粘接力 也不會再上升，在操作工序上是優選的。前述粘合型光學薄膜優選在光學薄膜與粘合劑層之間具有錨固層。通過設置錨固 層，能夠將粘合型光學薄膜穩定性良好地粘接到玻璃基板上，並且在剝離粘合型光學薄膜 時能夠無殘膠且容易地進行剝離。此外，本發明涉及粘合型光學薄膜，其在前述粘合型光學薄膜的剝離方法中使用， 在光學薄膜的至少一個面上具有由水分散型粘合劑形成的粘合劑層，其特徵在於，該粘合 型光學薄膜貼附於玻璃基板上並在溫度60°C且相對溼度30%的環境下暴露100小時之後 的粘接力為20N/25mm寬以上，在溫度40°C以上且相對溼度80%以上、或者溫度50°C以上且 相對溼度70%以上的環境下暴露之後的粘接力為10N/25mm寬以下。本發明的粘合型光學薄膜，即使在高溫環境下長時間貼合在玻璃基板上而導致粘 接力升高到20N/25mm寬以上的情況下，通過將其暴露在規定的環境下(暴露處理)，也能夠 充分降低粘合劑層的粘接力，並且能夠不損壞玻璃基板、無殘膠、且再加工性良好地從玻璃 基板上剝離。本發明的粘合型光學薄膜，在液晶面板的尺寸大或者液晶單元較薄的情況下， 都能夠再加工性良好地進行剝離。
具體實施例方式本發明的帶光學薄膜的玻璃基板在玻璃基板上貼付有粘合型光學薄膜，該粘合型 光學薄膜的粘合劑層由水分散型粘合劑形成。作為水分散型粘合劑，可使用橡膠系粘合劑、丙烯酸系粘合劑、有機矽系粘合劑等 各種水分散型粘合劑，但優選無色透明且與液晶單元(玻璃基板)的粘接性良好的丙烯酸 系粘合劑。水分散型丙烯酸系粘合劑含有通過在乳化劑的存在下使(甲基)丙烯酸烷基酯乳 液聚合而得到的丙烯酸系聚合物乳液。另外，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和/或甲基丙 烯酸酯，(甲基)是指同樣的含義。(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳數為1 14左右，具 體而言，可列舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲 基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、 (甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙 烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲 基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等， 它們可以單獨或組合使用。為了調整丙烯酸系聚合物的玻璃化轉變點、粘合劑層的粘合特性，可以使用其它 的聚合性單體。尤其為了提高對玻璃基板的粘接力，或者為了導入用於使所得共聚物進行 後交聯的交聯點，進而，為了提高粘合劑的內聚力，優選使用含羧基單體。作為含羧基單體，例如，可列舉出丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、 (甲基)丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸等。其中，特別優選使用丙烯酸和 甲基丙烯酸。相對於形成丙烯酸系聚合物的單體成分的總量，含羧基單體的添加量優選為 0. 1 10重量％，更優選為1 7重量％。
此外，作為其它的聚合性單體，例如，可以適當使用含磺酸基單體、含磷酸基單體、 含氰基單體、乙烯基酯單體、芳香族乙烯單體等提高內聚力和耐熱性的成分；含酸酐基單 體、含羥基單體、含醯胺基單體、含氨基單體、含環氧基單體、N-丙烯醯嗎啉、乙烯基醚單體 等具有提高粘接力或作為交聯化基點而起作用的官能團的成分。這些單體可以單獨使用或 兩種以上混合使用。作為含磺酸基的單體，例如，可列舉出苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2_(甲基)丙烯醯 胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯
氧基萘磺酸等。作為含磷酸基單體，例如，可列舉出2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯(2-hydroxyethyl acryloyl phosphate)、單〔聚(環氧丙烷)(甲基)丙烯酸酯〕磷酸酯。作為含氰基單體，例如，可列舉出丙烯腈、甲基丙烯腈等。作為乙烯基酯單體，例如，可列舉出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等。作為芳香族乙烯單體，例如，可列舉出苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、α -甲基 苯乙烯等。作為含酸酐基單體，例如，可列舉出馬來酸酐、衣康酸酐等。作為含羥基單體，例如，可列舉出(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥 丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、 (甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂基酯、甲基丙烯酸4-羥甲基環己 酯、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、乙烯醇、烯丙醇、2-羥乙基乙 烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚等。作為含醯胺基單體，例如，可列舉出丙烯醯胺、二乙基丙烯醯胺等。作為含氨基單體，例如，可列舉出(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基) 丙烯酸N，N-二甲基氨基丙酯、N-(甲基)丙烯醯嗎啉、(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯等。作為含環氧基單體，例如，可列舉出(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油 醚等。作為乙烯基醚單體，例如，可列舉出甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚等。此外，作為上述以外的聚合性單體，可列舉出含有矽原子的矽烷系單體。作為矽烷 系單體，例如，可列舉出3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙 烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基 辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、 10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧 基癸基三乙氧基矽烷等。前述矽烷系單體可以單獨使用或混合兩種以上使用，相對於100重量份丙烯酸系 聚合物，其總體的含量優選為0. 01 3重量份，更優選為0. 01 1重量份。使矽烷系單體 進行共聚可以提高耐久性，是優選的。理想的是，丙烯酸系聚合物的溶劑可溶性成分的重均分子量為50萬以上，優選為 100萬以上，進一步優選為180萬以上。在重均分子量小於50萬時，粘合劑組合物的內聚力 變小，從而具有產生殘膠的傾向。重均分子量是通過GPC (凝膠滲透色譜法)進行測定而得
丙烯酸系聚合物通過乳液聚合(乳劑聚合)來製備。此外，所得的共聚物可以是 無規共聚物、嵌段共聚物等的任一種。對聚合引發劑、乳化劑等沒有特別的限制，可以適當地選擇使用。作為聚合引發劑，例如，可列舉出2，2』 -偶氮雙異丁腈、2，2』 -偶氮雙(2_脒基丙 烷)二鹽酸鹽、2，2』 -偶氮雙[2-(5_甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2，2』 -偶 氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2，2』 -偶氮雙(N，N』 - 二亞甲基異丁基脒)、2，2』 -偶氮雙 [N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥社製造，VA-057)等偶氮系引發劑；過硫 酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽；過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-叔丁 基環己基)酯、過氧化二碳酸二仲丁酯、過氧化新癸酸叔丁酯、過氧化特戊酸叔己酯、過氧 化特戊酸叔丁酯、過氧化二月桂醯(Dilauroyl peroxide)、過氧化二正辛醯、過氧化2_乙 基己酸1，1，3，3_四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸 叔丁酯、1，1_二(過氧化叔己基)環己烷、叔丁基過氧化氫、過氧化氫等過氧化物系引發劑； 過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等組合有過氧化物和還原劑 的氧化還原系弓I發劑等，但其不受這些的限制。聚合引發劑可以單獨使用，或者也可以混合兩種以上使用，相對於100重量份單 體，其總體的含量優選為0. 002 0. 5重量份，更優選為0. 005 0. 2重量份。作為乳化劑，例如，可列舉出月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚 氧化乙烯月桂基硫酸鈉、聚氧化乙烯烷基醚硫酸鈉、聚氧化乙烯烷基苯基醚硫酸銨、聚氧化 乙烯烷基苯基醚硫酸鈉、聚氧化乙烯烷基磺基琥珀酸鈉等陰離子系乳化劑；聚氧化乙烯烷 基醚、聚氧化乙烯烷基苯基醚、聚氧化乙烯脂肪酸酯、聚氧化乙烯_聚氧化丙烯嵌段聚合物 等非離子系乳化劑等。這些乳化劑可以單獨使用，也可以組合兩種以上使用。此外，作為導入有丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能團的反應性乳化劑，有 例如 Aqualon HS-10、HS-20、HS-1025、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20 (第一工業製藥社製造)； ADEKAREASOAP SElON(旭電化社製造)等。反應性乳化劑通過聚合而被加成到聚合物鏈上， 因此耐水性變好，是優選的。從聚合穩定性、機械穩定性和粘接性等的觀點出發，相對於100重量份單體，乳化 劑的用量優選為0. 5 5重量份，更優選為1 4重量份。此外，在聚合中可以使用鏈轉移劑。通過使用鏈轉移劑，可以適當調整丙烯酸系聚 合物的分子量。作為鏈轉移劑，例如，可列舉出月桂基硫醇、縮水甘油基硫醇、1-十二烷基硫醇、巰 基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸(thioglycollic acid)、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2，3-二 巰基-1-丙醇等。這些鏈轉移劑可以單獨使用，或者也可以混合兩種以上使用，相對於100重量份 單體，其總體的含量為0. 001 0. 5重量份左右。作為聚合操作例，例如，首先將上述單體、共聚單體混合，向其中配合乳化劑和水， 然後進行乳化來製備乳液。此時的單體可以是所使用的總量的全部，或者可以是先配合一 部分，剩餘的部分在聚合途中進行滴加。接著，在該乳液中加入聚合引發劑和根據需要加入 的水，進行乳液聚合(乳劑聚合)。
另外，水可以僅在乳液的製備時進行配合，或者，還可以在其後進一步配合。此外， 水的配合量沒有特別的限制，優選將乳液聚合(乳劑聚合)後的丙烯酸系聚合物的固體成 分濃度調製成30 75重量％，更優選為35 60重量％。對乳液聚合(乳劑聚合)的方法沒有特別的限制，可從一次聚合法、全量滴加法、 組合它們的二段聚合法等中適當選擇。在一次聚合法中，例如，向反應容器內投入單體混合物、乳化劑和水，通過攪拌混 合使其乳化而製成乳液，然後再向該反應容器內加入聚合引發劑和根據需要加入的水進行 乳液聚合(乳劑聚合)。此外，在全量滴加法中，首先加入單體混合物、乳化劑和水，通過攪拌混合使其乳 化，製備滴加液，並且，向反應容器內加入聚合引發劑和水，接著，將滴加液滴加到反應容器 內，進行乳液聚合(乳劑聚合)。乳膠微粒的平均粒徑只要使機械穩定性、塗布性等良好，則沒有特別的限制，通常 為0. 07 3 μ m，優選為0. 07 1 μ m。平均粒徑低於0. 07 μ m時，存在粘合劑的粘度變得 過高的傾向，平均粒徑超出3 μ m時，存在乳膠微粒間的熔合性降低、內聚力降低的傾向。水分散型丙烯酸系粘合劑以上述丙烯酸系聚合物乳液為主劑成分，根據需要還可 以含有交聯劑。作為交聯劑，可列舉碳化二亞胺化合物、含噁唑啉基化合物、多異氰酸酯化 合物、多胺化合物、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、環氧樹脂等。交聯劑的添加量只要在不阻礙粘 合特性的範圍，則沒有特別的限制，通常，在粘合劑的固體成分中，為0.01 10重量％，優 選為0. 05 5重量％。交聯劑的添加量較多時，存在粘合劑層的彈性模量過高的傾向，有 時粘接力會降低。此外，還可以配合增粘成分、其它的各種添加劑。此外，在水分散型丙烯酸系粘合劑中，也可以添加其它的公知的添加劑，例如，可 以適當添加增粘劑、增塑劑、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、娃烷偶聯劑等。粘合型光學薄膜是通過前述粘合劑在光學薄膜的至少一個面上形成有粘合劑層 的薄膜。作為形成粘合劑層的方法，例如可列舉如下方法在經剝離處理後的隔片等上塗 布水分散型粘合劑，乾燥除去聚合溶劑等，形成粘合劑層，然後轉印到光學薄膜上的方法; 或者在光學薄膜上塗布水分散型粘合劑，乾燥除去聚合溶劑等，形成粘合劑層的方法等。作為粘合劑層的形成方法，可以使用各種方法。例如，可列舉出使用逗點塗布機 (comma coater)、模池舌Ij刀塗布機(diefountain coater)、唇口塗布機(lip coater)、狹縫 塗布機(slot-diecoater)等塗布機的方法。對粘合劑層的厚度沒有特別的限制，通常為3 500 μ m左右。優選為5 100 μ m， 更優選為5 40 μ m。粘合型光學薄膜優選在光學薄膜與粘合劑層之間具有錨固層。作為錨固層的形成材料，優選使用具有與粘合劑層的聚合物反應的官能團的聚合 物，例如，可列舉出含噁唑啉基聚合物、含氨基聚合物。通過將含有前述聚合物的溶液或水分散液直接塗布在光學薄膜的一面或兩面上 並使其乾燥，可以形成錨固層。乾燥後的錨固層的厚度，通常為1 500nm，優選為10 450nm，更優選為15 400nm。只要為所述範圍的厚度，則可以充分提高光學薄膜與粘合劑層的密合力
作為在粘合型光學薄膜中使用的光學薄膜，可列舉例如偏振片。偏振片通常使用 在起偏振器的一個面或兩面具有透明保護薄膜的偏振片。對起偏振器沒有特別的限制，可以使用各種起偏振器。作為起偏振器，例如，可列 舉出使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分 皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘、二色性染料等二色性物質，並進行單軸拉伸而成的 薄膜；聚乙烯醇的脫水處理物、聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等聚烯系取向薄膜等。這些中，優 選由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物質組成的起偏振器。對這些起偏振器的厚度沒有特別 的限制，通常為5 80 μ m左右。用碘染色聚乙烯醇系薄膜後進行單軸拉伸而成的起偏振器，例如，可通過將聚乙 烯醇浸漬在碘的水溶液中來進行染色，並拉伸成原來長度的3 7倍而製得。根據需要也 可以浸漬於硼酸、可含有硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等的水溶液中。此外，根據需要，可以在 染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬在水中進行水洗。通過對聚乙烯醇系薄膜進行水洗，除了可 以洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的汙物、防粘連劑之外，通過使聚乙烯醇系薄膜溶脹還具有防 止染色不均等不均勻的效果。拉伸可以在用碘染色後進行，也可以邊染色邊拉伸，另外也可 以在拉伸後進行碘染色。也可以在硼酸、碘化鉀等的水溶液中、水浴中進行拉伸。作為構成透明保護薄膜的材料，例如可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻 隔性、各向同性等優異的熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂的具體例，可列舉出三乙醯基纖 維素等纖維素樹脂；聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞 胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降冰片烯系樹脂)、聚芳酯 樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、以及它們的混合物。另外，在起偏振器的一側通過粘接 劑層貼合透明保護薄膜，在另一側可以使用(甲基)丙烯酸系、聚氨酯系、丙烯酸酯聚氨酯 系、環氧系、有機矽系等的熱固化性樹脂或紫外線固化型樹脂作為透明保護薄膜。在透明保 護薄膜中可以含有1種以上的任意的適當的添加劑。作為添加劑，例如，可列舉出紫外線吸 收齊 、抗氧化劑、潤滑劑、增塑劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、防靜電劑、顏料、著色 劑等。透明保護薄膜中的上述熱塑性樹脂的含量優選為50 100重量％，更優選為50 99重量％，進一步優選為60 98重量％，特別優選為70 97重量％。透明保護薄膜中的 上述熱塑性樹脂的含量在50重量％以下時，可能不能充分體現出熱塑性樹脂原本具有的 高透明性等。此外，作為透明保護薄膜，可列舉日本特開2001-343529號公報(W001/37007)中 記載的聚合物薄膜，例如，含有(A)在側鏈上具有取代和/或非取代醯亞胺基的熱塑性樹 脂、和(B)在側鏈上具有取代和/或非取代苯基以及腈基的熱塑性樹脂的樹脂組合物。作 為具體例，可列舉含有由異丁烯和N-甲基馬來醯亞胺組成的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯 共聚物的樹脂組合物的薄膜。薄膜可以使用由樹脂組合物的混合擠出品等形成的薄膜。由 於這些薄膜的相位差小，光彈性係數也小，因此可以解決由偏振片的應變而導致的不均等 問題，並且，由於透溼度小，因而加溼耐久性優異。透明保護薄膜的厚度可以適當地決定，通常從強度、使用性等操作性、薄層性等方 面出發，為1 500μπι左右。尤其優選為1 300 μ m，更優選為5 200 μ m。透明保護薄 膜為5 150 μ m時是特別優選的。另外，在起偏振器的兩側設置透明保護薄膜時，其正面和背面可以使用由相同聚合物材料形成的保護薄膜，也可以使用由不同的聚合物材料等形成的保護薄膜。作為透明保護薄膜，優選使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂和 (甲基)丙烯酸酯樹脂中的至少一種。纖維素樹脂是纖維素與脂肪酸的酯。作為這樣的纖維素酯系樹脂的具體例，可列 舉出三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、三丙醯基纖維素、二丙醯基纖維素等。這些中，特 別優選三乙醯基纖維素。三乙醯基纖維素存在大量的市售產品，在易獲得性、成本方面也 是有利的。作為三乙醯基纖維素的市售品的例子，可列舉出Fujifilm Corporation製造 的商品名為 「 UV-50 」、「 UV-80 」、「 SH-80 」、「 TD-80U 」、「 TD-TAC 」、「 UZ-TAC 」 的商品，或 Koni ca Corporation製造的「KC系列」等。通常，這些三乙醯基纖維素的面內相位差(Re)大致為 零，厚度方向相位差(Rth)為60nm以下。另外，厚度方向相位差較小的纖維素樹脂薄膜，例如可以通過對上述纖維素樹脂 進行處理而獲得。可列舉例如下述方法將塗布了環戊酮、甲乙酮等溶劑的聚對苯二甲酸 乙二醇酯、聚丙烯、不鏽鋼等的基材薄膜貼合到普通的纖維素系薄膜上，加熱乾燥(例如在 80 150°C下進行3 10分鐘左右)，然後剝離基材薄膜的方法；將降冰片烯系樹脂、(甲 基)丙烯酸系樹脂等溶解在環戊酮，甲乙酮等溶劑中，將所得溶液塗布在普通的纖維素樹 脂薄膜上，加熱乾燥(例如在80 150°C下進行3 10分鐘左右)，然後剝離塗布薄膜的 方法等。此外，作為厚度方向相位差較小的纖維素樹脂薄膜，可以使用控制了脂肪取代度 的脂肪酸纖維素系樹脂薄膜。通常所使用的三乙醯基纖維素的乙酸取代度為2. 8左右，優 選的是，將乙酸取代度控制在1. 8 2. 7，由此可以減小Rth。在上述脂肪酸取代纖維素系 樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯胺、檸檬酸乙醯基三乙酯等增塑劑，從而可以將 Rth控制得較小。相對於100重量份脂肪酸纖維素系樹脂，增塑劑的添加量優選為40重量 份以下，更優選為1 20重量份，進一步優選為1 15重量份。作為環狀聚烯烴樹脂的具體例，優選為降冰片烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂是以環 狀烯烴為聚合單元而聚合的樹脂的總稱，例如，可列舉出日本特開平1-240517號公報、日 本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等中記載的樹脂。作為具體例，可 列舉出環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等 α _烯烴的共聚物(代表性的為無規共聚物)，以及用不飽和羧酸或其衍生物將它們改性後 的接枝聚合物、及它們的氫化物等。作為環狀烯烴的具體例，可列舉降冰片烯系單體。環狀聚烯烴樹脂存在各種市售產品。作為具體例，可列舉出Zeon Corporation制 造的商品名為「ZE0NEX」、「ZE0N0R」的產品，JSR株式會社製造的商品名「ART0N」的產品， TICONA公司製造的商品名「T0PAS」的產品，三井化學株式會社製造的商品名「APEL」的產
P
ΡΠ O(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg(玻璃化轉變溫度)優選為115°C以上，更優選為120°C 以上，進一步優選為125°C以上，特別優選為130°C以上。通過使其Tg為115°C以上，可以使 偏振片的耐久性變得優異。對上述(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg的上限值沒有特別的限制， 從成形性等觀點出發，優選為170°C以下。由(甲基)丙烯酸系樹脂，可以獲得面內相位差 (Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為零的薄膜。作為(甲基)丙烯酸系樹脂，在不損害本發明的效果的範圍內，可以採用任意適當的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如，可列舉出聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基 丙烯酸甲酯_(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯_(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯 酸甲酯_丙烯酸酯_(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯_苯乙烯共聚物(MS樹脂 等)、具有脂環族烴基的聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯_甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基 丙烯酸甲酯_(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。優選可列舉出聚(甲基)丙烯酸甲酯 等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更優選可列舉出以甲基丙烯酸甲酯為主要成分(50 100重量％，優選70 100重量％ )的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。作為(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，例如，可列舉出三菱麗陽株式會社製造的 Acrypet VH, Acrypet VRL20A,日本特開2004-70296號公報中記載的分子內具有環結構的 (甲基)丙烯酸系樹脂，通過分子內交聯、分子內環化反應得到的高Tg(甲基)丙烯酸酯樹 月旨系。作為(甲基)丙烯酸系樹脂，還可以使用具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹 脂。這是因為，其具有高耐熱性、高透明性、通過雙軸拉伸得到的高機械強度。作為具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉出日本特開2000-230016 號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日本特開 2002-254544號公報、日本特開2005-146084號公報等中記載的具有內酯環結構的(甲基) 丙烯酸系樹脂。具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂，優選具有下述通式(化學式1)所示的 準環(quasi-ring)結構。[化學式1] 式中，R1、R2和R3各自獨立地表示氫原子或碳原子數1 20的有機殘基。另外， 有機殘基可含有氧原子。在具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂的結構中，通式(化學式1)所表示 的內酯環結構的含有比例優選為5 90重量％，更優選為10 70重量％，進一步優選為 10 60重量％，特別優選為10 50重量％。當具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂 的結構中通式(化學式1)所表示的內酯環結構的含有比例少於5重量％時，耐熱性、耐溶 劑性、表面硬度有可能變得不充分。當具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂的結構中 通式(化學式1)所表示的內酯環結構的含有比例多於90重量％時，成形加工性可能會變 得不足。具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂的質量平均分子量(有時也稱作重均分 子量)，優選為1000 2000000，更優選為5000 1000000，進一步優選為10000 500000， 特別優選為50000 500000。當質量平均分子量為上述範圍以外時，從成型加工性的觀點 出發是不優選的。具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg優選為115°C以上，更優選為120°C以上，進一步優選為125°C以上，特別優選為130°C以上。通過使其Tg為115°C以上，例如， 在其作為透明保護薄膜被組合到偏振片中時，能夠成為耐久性優異的偏振片。對上述具有 內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg的上限值沒有特別的限制，但從成形性等觀點出 發，優選為170°C以下。具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂通過注射成型得到的成形品，其採用基 於ASTM-D-1003的方法測定的總透光率越高越優選，優選為85%以上，更優選為88%以上， 進一步優選為90%以上。總透光率是透明性的基準，當總透光率低於85%時，透明性可能 降低。前述透明保護薄膜通常使用正面相位差低於40nm、且厚度方向相位差低於80nm 的薄膜。正面相位差Re用Re = (nX-ny)Xd來表示。厚度方向相位差Rth用Rth = (nx-nz) Xd來表示。此外，Nz係數用Nz = (nx-nz)/(nx-ny)來表示。[其中，將薄膜的慢 軸方向、快軸方向和厚度方向的折射率分別設定為nX、ny、nz，d(nm)為薄膜的厚度。慢軸方 向為薄膜面內折射率最大的方向。]。另外，透明保護薄膜優選儘可能不帶色。優選使用厚 度方向的相位差值為-90nm +75nm的保護薄膜。通過使用所述厚度方向的相位差值(Rth) 為-90nm +75nm的保護薄膜，能夠大致消除因透明保護薄膜而引起的偏振片的著色(光 學性著色)。厚度方向相位差值(Rth)進一步優選為-80nm +60nm，特別優選為-70nm +45nm。另一方面，作為前述透明保護薄膜，可以使用具有正面相位差為40nm以上和/或 厚度方向相位差為80nm以上的相位差的相位差板。正面相位差通常被控制在40 200nm 的範圍，厚度方向相位差通常被控制在80 300nm的範圍。在使用相位差板作為透明保護 薄膜時，由於該相位差板也具有透明保護薄膜的功能，因此，能夠實現薄型化。作為相位差板，可列舉出對高分子材料進行單軸或雙軸拉伸處理而得到的雙折射 性薄膜、液晶聚合物的取向薄膜、以薄膜支撐液晶聚合物的取向層而成的材料等。對相位差 板的厚度也沒有特別的限制，通常為20 150i!m左右。作為高分子材料，例如，可列舉出聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚甲基乙烯基醚、 聚羥乙基丙烯酸酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、 聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚碸、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基碸 (polyallyl sulfone)、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂 (降冰片烯系樹脂)、或它們的各種二元系、三元系共聚物、接枝共聚物、混合物等。這些高 分子材料可通過拉伸等而成為取向物(拉伸薄膜)。作為液晶聚合物，例如，可列舉出在聚合物的主鏈、側鏈上導入有賦予液晶取向性 的共軛性直線狀原子團(mesogen，介晶)的各種主鏈型、側鏈型的液晶聚合物。作為主鏈型 的液晶聚合物的具體例，可列舉出具有在賦予彎曲性的間隔部上鍵合了介晶基團的結構的 聚合物，例如向列取向性的聚酯系液晶性聚合物、圓盤狀聚合物、膽留相聚合物等。作為側 鏈型的液晶聚合物的具體例，可列舉出如下的聚合物，即，以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基 丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架，側鏈具有藉助由共軛性原子團構成的間隔部而賦予向 列取向性的由對位取代環狀化合物單元構成的介晶部的液晶聚合物等。這些液晶聚合物通 過例如以下的方法進行處理，即，在形成於玻璃板上的聚醯亞胺、聚乙烯醇等薄膜的表面進 行了摩擦處理的取向處理面上、斜向蒸鍍有氧化矽等的取向處理面上，展開液晶性聚合物的溶液並進行熱處理。相位差板可以是例如通過各種波長的板、液晶層的雙折射而具有與補償著色、視 角等使用目的相適應的相位差的相位差板，也可以是層疊2種以上相位差板來控制了相位 差等光學特性的相位差板等。相位差板可根據各種用途選擇使用滿足nx = ny > nz.nx > ny > nz.nx > ny = nz、nx > nz > ny、nz = nx > ny、nz > nx > ny、nz > nx = ny 的關係的材料。其中，ny =nz不僅包括ny與nz完全相同的情況，也包括ny與nz實質上相同的情況。例如，滿足nx > ny > nz的相位差板優選使用正面相位差滿足40 lOOnm、厚度 方向相位差滿足100 320nm，Nz係數滿足1. 8 4. 5的相位差板。例如，滿足nx > ny = nz的相位差板(Positive APlate，正A板)，優選使用正面相位差滿足100 200nm的相位 差板。例如，滿足nz = nx > ny的相位差板(Negative A Plate,負A板)優選使用正面 相位差滿足100 200nm的相位差板。例如，滿足nx > nz > ny的相位差板優選使用正面 相位差滿足150 300nm、Nz係數滿足大於0且為0. 7以下的材料。此外，如上述那樣，例 如，可以使用滿足nx = ny > nz、nz > nx > ny、或nz > nx = ny的相位差板。透明保護薄膜可以根據所適用的液晶顯示裝置而適當選擇。例如，在適用於 VA (垂直排列(Vertical Alignment)，包括MVA、PVA)時，理想的是，偏振片的至少一個面 (單元側)的透明保護薄膜具有相位差。作為具體的相位差，理想的是Re = 0 240nm、 Rth = 0 500nm的範圍。若以三維折射率來描述，則理想的是nx > ny = nz、nx > ny > 皿、1^>皿>耶、1 = 1^>112(正六板，雙軸，負(板)的情況。在VA型中，優選使用正 A板與負C板的組合，或1片雙軸薄膜。在液晶單元的上下使用偏振片時，可以是液晶單元 的上下同時具有相位差，也可以是上下任一透明保護薄膜具有相位差。例如，在適用於IPS(平面轉換(In-Plane Switching)，包括FFS)時，偏振片的一 個面的透明保護薄膜具有相位差的情況和不具有相位差的情況均可使用。例如，在不具有 相位差時，理想的是，液晶單元的上下(單元側)都不具有相位差的情況。在具有相位差時， 理想的是，液晶單元的上下都具有相位差的情況、或上下任意一個具有相位差的情況(例 如，上側有滿足nx > nz > ny的關係的雙軸薄膜，下側無相位差的情況；或者，上側有正A 板，下側有正C板的情況)。在具有相位差時，理想的是Re = -500 500nm、Rth = -500 500nm的範圍。若以三維折射率來描述，則理想的是nx > ny = nz、nx > nz > ny、nz > nx =ny、nz > nx > ny (正 A 板，雙軸，正 C 板)。另外，還可以通過將具有前述相位差的薄膜貼合在不具有相位差的透明保護薄膜 上而賦予上述功能。為了提高前述透明保護薄膜與起偏振器的粘接性，可以在塗布粘接劑之前，對前 述透明保護薄膜進行表面改性處理。作為具體的處理，可列舉出電暈處理、等離子體處理、 框架處理(frame processing)、臭氧處理、底漆處理、輝光處理、皂化處理、採用偶聯劑的處 理等。此外，還可以適當地形成防靜電層。在前述透明保護薄膜的未粘接起偏振器的表面上，可以實施硬塗層、防反射處理、 以防粘連、漫射、以及防眩為目的的處理。硬塗層處理是為了防止偏振片表面的劃痕等而實施的，例如可以通過如下方式等 來形成在透明保護薄膜的表面附加由丙烯酸系、有機矽系等適當的紫外線固化型樹脂形成的硬度和光滑特性等優異的固化覆膜的方式。防反射處理是為了防止外部光在偏振片表 面發生反射而實施的，可以通過形成現有的防反射膜等來完成。此外，防粘連處理是為了防 止與鄰接層(例如，背光側的漫射板)的密合而實施的。此外，防眩處理是為了防止由於外部光在偏振片的表面發生反射而妨礙偏振片透 射光的可視性等而實施的，例如可以通過採用噴砂方式、壓紋加工方式的表面粗糙化方式、 配合透明微粒的方式等適當的方式，在透明保護薄膜的表面賦予微細凹凸結構而形成。作 為在前述表面微細凹凸結構的形成中含有的微粒，例如可以使用平均粒徑為0. 5 20i!m 的包括二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等的具有導電性 的無機系微粒、由交聯或未交聯的聚合物等組成的有機系微粒等透明微粒。當形成表面微 細凹凸結構時，相對於100重量份形成表面微細凹凸結構的透明樹脂，微粒的用量通常為 2 70重量份左右，優選為5 50重量份。防眩層也可以兼作用於使偏振片透射光漫射而 擴大視角等的漫射層(視角擴大功能等)。另外，前述防反射層、防粘連層、漫射層、防眩層等可以設置在透明保護薄膜本身 之上，還可以作為與透明保護薄膜分開設置的其它光學層設置。前述起偏振器與透明保護薄膜的粘接處理中可以使用粘接劑。作為粘接劑，可列 舉異氰酸酯系粘接劑、聚乙烯醇系粘接劑、明膠系粘接劑、乙烯基系膠乳系、水系聚酯等。前 述粘接劑通常使用由水溶液形成的粘接劑，通常含有0. 5 60重量％的固體成分而成。除 上述以外，作為起偏振器與透明保護薄膜的粘接劑，可列舉紫外固化型粘接劑、電子射線固 化型粘接劑等。電子射線固化型偏振片用粘接劑對上述各種透明保護薄膜表現出適合的粘 接性。此外，在本發明中使用的粘接劑中，可以含有金屬化合物填料。此外，作為光學薄膜，可列舉出例如反射板、半透射板、前述相位差板(包括1/2、 1/4等的波長板)、視覺補償薄膜、增光膜等用於形成液晶顯示裝置等的光學層。它們除了 可以單獨作為光學薄膜來使用以外，還可以在實際使用時，在前述偏振片上層疊使用1層 或2層以上。尤其優選的是，在偏振片上進一步層疊反射板或半透射反射板而成的反射型偏振 片或半透射型偏振片；在偏振片上進一步層疊相位差板而成的橢圓偏振片或圓偏振片；在 偏振片上進一步層疊視覺補償薄膜而成的寬視場角偏振片；或者在偏振片上進一步層疊增 光膜而成的偏振片。反射型偏振片在偏振片上設置有反射層，可用於形成反射來自可視側(顯示側) 的入射光而進行顯示的類型的液晶顯示裝置等，由於可以省略內置的背光燈等光源，具有 易於實現液晶顯示裝置的薄型化等優點。反射型偏振片的形成，可根據需要按照如下的方 式等適當的方式來進行通過透明保護層等在偏振片的一個面附設由金屬等形成的反射層 的方式。作為反射型偏振片的具體例，可列舉出，根據需要在消光處理後的透明保護薄膜 的一個面上附設由鋁等反射性金屬形成的箔、蒸鍍膜而形成反射層的反射型偏振片等。另 外可以列舉出，使前述透明保護薄膜含有微粒而形成表面微細凹凸結構，並在其上具有微 細凹凸結構的反射層的反射型偏振片等。前述的微細凹凸結構的反射層具有通過漫反射使 入射光漫射而防止定向性、外觀閃耀，可抑制明暗不均的優點等。另外，含有微粒的保護薄 膜還具有當入射光及其反射光透射該薄膜時可通過使光線漫射而進一步抑制明暗不均的優點等。反映出透明保護薄膜的表面微細凹凸結構的微細凹凸結構的反射層的形成，例如 可通過真空蒸鍍方式、離子鍍方式、濺射方式、鍍敷方式等適當的方式在透明保護層的表面 直接附設金屬的方法等來進行。也可以將反射層設置在以該透明薄膜為標準的適當薄膜上作為反射片等使用，以 代替將反射板直接施加在前述偏振片的透明保護薄膜上的方式。另外，由於反射層通常由 金屬形成，因此，從防止由氧化導致的反射率的降低、進而從長期保持初始反射率、以及避 免另外附設保護層的觀點等出發，優選為用透明保護薄膜、偏振片等覆蓋該反射面的狀態 的使用方式。另外，通過形成例如在上述反射層上反射光並且也透射光的半透半反鏡(half mirror)等半透射型的反射層，可以獲得半透射型偏振片。半透射型偏振片通常被設置在液 晶單元的背面側，能夠形成以下類型的液晶顯示裝置等在較亮的環境中使用液晶顯示裝 置等的情況下，使來自觀看側(顯示側)的入射光反射而顯示圖像，在較暗的環境中，使用 內置於半透射型偏振片的背側的背光燈等內置光源來顯示圖像。即，半透射型偏振片可用 於形成下述類型的液晶顯示裝置在亮環境中可以節約背光燈等光源的使用能量，在較暗 的環境中能夠使用內置光源這種類型。下面對在偏振片上進一步層疊相位差板而成的橢圓偏振片或圓偏振片進行說明。 在將直線偏振光變換成橢圓偏振光或圓偏振光、或者將橢圓偏振光或圓偏振光變換為直線 偏振光，或者改變直線偏振光的偏振方向的情況下，可以使用相位差板等。特別地，作為將 直線偏振光變換成圓偏振光、或者將圓偏振光變換成直線偏振光的相位差板，可以使用所 謂的1/4波長板(也稱作X /4板)。1/2波長板(也稱作X /2板)通常被用在改變直線 偏振光的偏振方向的情況。橢圓偏振片被有效地用於以下情形，即，通過補償(防止)超扭曲向列(STN)型液 晶顯示裝置因液晶層雙折射而發生的著色(藍或黃)，而無前述著色地進行黑白顯示的情 形等。此外，控制三維折射率的偏振片，還可以補償(防止)從傾斜方向觀看液晶顯示裝置 的畫面時所產生的著色，因此是優選的。圓偏振片被有效地用於例如在對圖像為彩色顯示 的反射型液晶顯示裝置的圖像的色調進行調整的情形等，而且還具有防反射的功能。此外，上述的橢圓偏振片、反射型橢圓偏振片是將偏振片或反射型偏振片與相位 差板適當組合併層疊而成的。也可通過在液晶顯示裝置的製造過程中依次分別層疊(反射 型)偏振片及相位差板以便形成(反射型)偏振片與相位差板的組合，由此形成所述橢圓 偏振片等，而如前述那樣，預先形成橢圓偏振片等的光學薄膜的情況具有品質穩定性、層疊 操作性等優異、液晶顯示裝置等的製造效率提高的優點。視角補償薄膜是一種用於擴大視場角的薄膜，其使得即使從不與畫面垂直而稍微 傾斜的方向觀看液晶顯示裝置的畫面時圖像看起來也比較鮮明。作為此種視覺補償相位差 板，例如由在相位差板、液晶聚合物等的取向薄膜上、在透明基材上支撐了液晶聚合物等的 取向層而成的材料等構成。通常的相位差板可使用沿其面方向被單軸拉伸而成的具有雙摺 射的聚合物薄膜，與此相對，被用作視覺補償薄膜的相位差板可使用沿其面方向被雙軸拉 伸而成的具有雙折射的聚合物薄膜；或者沿其面方向被單軸拉伸並沿其厚度方向也被拉伸 了的控制了厚度方向的折射率的、具有雙折射的聚合物；或者諸如傾斜取向薄膜之類的雙 向拉伸薄膜等。作為傾斜取向薄膜，例如可列舉出在聚合物薄膜上粘接熱收縮薄膜並在由對其加熱而產生的收縮力的作用下，對聚合物薄膜進行拉伸處理或/和收縮處理後的材 料；使液晶聚合物進行傾斜取向而成的材料等。相位差板的原材料聚合物可使用與前述相 位差板中說明的聚合物相同的聚合物，可使用基於由液晶單元帶來的相位差的、以防止因 可視角的變化所產生的著色等、以及擴大可視性良好的視場角等為目的的適當的聚合物。此外，從實現可視性良好的寬視場角的方面等出發，可優選使用在三乙醯基纖維 素薄膜上支撐有由液晶聚合物的取向層、尤其是由圓盤狀液晶聚合物的傾斜取向層構成的 光學各向異性層而成的光學補償相位差板。貼合了偏振片和增光膜的偏振片通常被設置於液晶單元的背面側來使用。增光膜 是顯示如下特性的薄膜由於液晶顯示裝置等的背光燈或者來自背面側的反射等，當自然 光入射時，反射規定偏光軸的直線偏振光或規定方向的圓偏振光，而使其它的光透射。將增 光膜與偏振片層疊後的偏振片使來自背光燈等的光源的光入射並獲得規定偏振狀態的透 射光，並且，前述規定偏振狀態以外的光被反射而不能透射。通過設置於其後側的反射層等 使在該增光膜面上反射的光進一步反轉，再次入射到增光膜上，讓其一部分或全部作為規 定偏振狀態的光而透射，從而增加透射增光膜的光量，並且向起偏振器供給難以吸收的偏 振光，增大能夠用於顯示液晶顯示圖像等的光量，從而可以提高亮度。即，在不使用增光膜 而用背光燈等從液晶單元的背面側透射起偏振器使光入射的情況下，具有與起偏振器的偏 光軸不一致的偏振方向的光，基本上被起偏振器吸收，不透射起偏振器。即，雖然因使用的 起偏振器的特性不同而不同，但大約50%的光被起偏振器所吸收，因此，能夠用於顯示液晶 圖像等的光量減少，圖像變暗。增光膜重複以下過程，即，使具有能被起偏振器吸收的偏振 方向的光不入射到起偏振器上，而是使之在增光膜上反射後，立即藉助設置在其後側的反 射層等使之反轉，再入射到增光膜上的過程，從而，使得在這二者之間反射、反轉的光的偏 振方向變成了能夠通過起偏振器的偏振方向，僅將這種偏振光透射增光膜，供給到起偏振 器，因此，在液晶顯示裝置的圖像的顯示中可以有效地使用背光燈等的光，從而可以使畫面 變得明亮。在增光膜與上述反射層等之間可以設置漫射板。被增光膜反射的偏振狀態的光射 向上述反射層等，所設置的漫射板在均勻地漫射所通過的光的同時，消除了偏振狀態，成為 非偏振狀態。即，自然光狀態的光射向反射層等，藉助反射層等反射，再次通過漫射板，而後 再入射到增光膜上，重複以上過程。這樣，通過在增光膜與上述反射層等之間設置將偏振光 返回到原來的自然光狀態的漫射板，維持了顯示畫面的亮度，並且減少了顯示畫面的亮度 的不均，從而可以提供均勻且明亮的畫面。可以認為，通過設置所述漫射板，可適度增加初 次入射光的反射重複次數，與漫射板的漫射功能相結合，可以提供均勻而明亮的顯示畫面。作為前述的增光膜，例如可以使用以下適宜的薄膜電介體的多層薄膜、折射率各 向異性不同的薄膜的多層層疊體之類的顯示出使特定偏光軸的直線偏振光透射而使其它 光發生反射的特性的薄膜；膽留型液晶聚合物的取向薄膜、在薄膜基材上支撐有其取向液 晶層的薄膜之類的顯示出使左旋或右旋圓偏振光中的任一者反射而使其它光發生透射的 特性的薄膜等。因此，在前述的使規定偏光軸的直線偏振光透射這一類型的增光膜中，通過使該 透射光與偏光軸一致地原樣入射到偏振片上，可以抑制由偏振片造成的吸收損失且使該透 射光有效地透射。另一方面，在諸如膽留型液晶層之類的使圓偏振光透射的類型的增光膜中，雖然也可以使光直接入射到起偏振器上，但是，從抑制吸收損失方面考慮，優選藉助相 位差板使該圓偏振光變換成直線偏振光後入射到偏振片上。另外，通過使用1/4波長板作 為該相位差板，可以將圓偏振光變換成直線偏振光。在可見光區域等寬波長中發揮作為1/4波長板的功能的相位差板，例如可以通過 將對波長550nm的淺色光發揮作為1/4波長板的功能的相位差板、與顯示出其它相位差特 性的相位差層相疊加，例如與發揮作為1/2波長板的功能的相位差層相疊加的方式等來獲 得。因此，配置於偏振片與增光膜之間的相位差板可以由1層或2層以上的相位差層構成。另外，就膽留型液晶層而言，也可以通過組合不同反射波長的層來形成疊加了 2 層或3層以上的配置結構，獲得在可見光區域等寬波長範圍內反射圓偏振光的材料，以此 為基礎，可以獲得寬波長範圍的透射圓偏振光。此外，如同上述的偏振光分離型偏振片，偏振片可以由偏振片與2層或3層以上的 光學層層疊而成的結構構成。因此，也可以是組合了上述反射型偏振片、半透射型偏振片與 相位差板的、反射型橢圓偏振片或半透射型橢圓偏振片等。在偏振片上層疊了前述光學層的光學薄膜，也可以採用在液晶顯示裝置等的製造 過程中依次分別層疊的方式來形成，但預先層疊而成的光學薄膜，其品質穩定性、組裝操作 等優異且具有改善液晶顯示裝置等的製造工序的優點。層疊可以採用粘合層等適當的粘接 構件。在粘接前述偏振片與其它光學層時，它們的光學軸可以根據目標相位差特性等設置 適當的配置角度。本發明的帶光學薄膜的玻璃基板在其玻璃基板(液晶單元)上貼附有粘合型光學 薄膜。粘合型光學薄膜的粘合劑層由含有乳化劑的水分散型粘合劑形成，將其貼合在玻璃 基板時，粘貼後即刻發揮出高的粘接性，並且在高溫高溼環境下也能發揮出優異的耐久性。本發明的粘合型光學薄膜的剝離方法，其特徵在於，將前述帶光學薄膜的玻璃基 板暴露在溫度40°C以上且相對溼度80%以上(條件1)、或溫度50°C以上且相對溼度70% 以上(條件2)的環境下，然後從玻璃基板剝離粘合型光學薄膜。將帶光學薄膜的玻璃基板暴露在條件1或條件2的環境下時，在粘合劑層和玻璃 基板的界面處的粘接力降低，從而可以容易地剝離粘合型光學薄膜。此外，即使將粘合型光 學薄膜在高溫環境下長時間貼合在玻璃基板上，其粘接力也在20N/25mm寬以上，通過將其 暴露在條件1或條件2的環境下可以將粘接力降低至10N/25mm寬以下。因此，即使對於大 型尺寸的玻璃基板，也可再加工性良好且容易地進行剝離。暴露處理的優選的條件為溫度 80°C以上且相對溼度80%以上。此外，暴露處理的溫度優選為100°C以下。暴露處理的溫 度高於100°C時，可能會損壞作為被粘體的液晶顯示器等。暴露處理的時間優選為1小時以上，更優選為2小時以上。在低於1小時的情況 下，由於粘合劑層的吸水沒有充分地進行，粘合劑層與玻璃基板的界面處的粘接力沒有充 分地降低，因此，剝離時會損壞玻璃基板或產生大量的殘膠，使得再加工性降低。另一方面， 暴露處理的時間通常為48小時以下。即使高於48小時，其效果也幾乎不發生變化，因此， 從製造效率的觀點出發，是不優選的。實施例以下，通過實施例對本發明進行具體的說明，但本發明不受這些實施例的限制。另 外，各例中的「份」和「 ％ 」均為重量基準。
製造例1(單體預乳液的製備)向容器中加入88份丙烯酸丁酯、5份甲基丙烯酸N-環己酯、5份丙烯酸、2份單〔 聚(環氧丙烷)甲基丙烯酸酯〕磷酸酯(環氧丙烷的平均聚合度約為5. 0)及0. 03份3-甲 基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學(株)、KBM-503)並混合，製成單體混合物。接 著，向500g單體混合物中加入20g反應性乳化劑(第一工業製藥(株).Aqualon HS-1025) 及446g離子交換水，使用均質器(特殊機化(株))在5000rpm下攪拌5分鐘，進行乳化， 製成單體預乳液。(水分散型丙烯酸系粘合劑的製備)向具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷凝器的反應容器中加入96g單體預乳 液、275g離子交換水及40g反應性乳化劑Aqualon HS-1025，用氮氣置換反應容器。然後， 添加0.05g過硫酸銨，在65°C下進行1小時聚合反應。接著，將反應容器內的溫度升溫至 75°C，添加0. 35g過硫酸銨。然後，用3小時向反應容器內滴加869g單體預乳液，滴加後進 行3小時聚合反應。然後，在氮氣置換的同時在75°C下進行3小時聚合反應，製成固體成分 為40%的乳液溶液。其後，將所得的乳液溶液冷卻至室溫，添加10%氨水調節pH值至8，制 成水分散型丙烯酸系粘合劑。(粘合劑層的形成)將前述水分散型丙烯酸系粘合劑塗布到脫模薄膜(三菱化學聚酯(株)，DIAF0IL MRF38、PET薄膜)的一個面上，使乾燥後的粘合劑層的厚度為23 y m，在120°C下乾燥2分 鍾，形成粘合劑層。(偏振片的製作)將厚度80 y m的聚乙烯醇薄膜在40°C的碘溶液中拉伸5倍。然後，從碘溶液中撈 起聚乙烯醇薄膜，在50°C下乾燥4分鐘，得到起偏振器。使用聚乙烯醇系粘接劑將三乙醯基 纖維素薄膜貼合到該起偏振器的兩面上，製作成偏振片。(粘合型偏振片A的製作)用水/異丙醇(重量比1/1)混合溶液將含噁唑啉基的丙烯酸系聚合物((株)日 本觸媒，EP0CR0S WS-700)稀釋至固體成分為0. 25%，製成錨塗劑。使用線棒(wire bar)#5 將錨塗劑塗布到前述偏振片的一個面上，在40°C下乾燥2分鐘，形成錨固層。接著，將前述 粘合劑層轉印到錨固層上，製作成粘合型偏振片A。(粘接力的測定)按照下述方法對粘合型偏振片A的初始粘接力、60°C/100小時後的粘接力進行了 測定。其結果，初始粘接力為7. 8(N/25mm)，60°C /100小時後的粘接力為36. 0 (N/25mm)。〈初始粘接力〉將粘合型偏振片A裁剪成25mm寬，將裁剪所得的樣品用2kg輥進行1次往返壓接 而使其貼附到玻璃基板(Corninglncorporated，C0RNING#1737)上，接著，在50°C、5個大氣 壓的高壓釜中放置15分鐘，然後冷卻至25°C。隨後，使用拉伸試驗機，在剝離角度180°、 剝離速度300mm/min的條件下測定從玻璃基板剝離樣品時的粘接力(N/25mm)。<60°C/100小時後的粘接力〉將粘合型偏振片A裁剪成25mm寬，將裁剪所得的樣品用2kg輥進行1次往返壓接而使其貼附到玻璃基板(Corninglncorporated，C0RNING#1737)上，接著，在50°C、5個大氣 壓的高壓釜中放置15分鐘，然後在60°C、相對溼度30%的環境下放置100小時，之後冷卻 至25°C。隨後，使用拉伸試驗機測定在剝離角度180°、剝離速度300mm/min的條件下從玻 璃基板剝離樣品時的粘接力(N/25mm)。製造例2(丙烯酸系聚合物溶液的製備)向具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷凝器的反應容器中加入100份丙烯酸丁 酯、5份丙烯酸、0. 1份過氧化苯甲醯及乙酸乙酯，製成單體濃度為80%的單體溶液。邊攪拌 邊導入氮氣1小時，進行氮氣置換，然後將反應容器內的液溫保持在60°C左右，進行6小時 聚合反應，製成丙烯酸系聚合物溶液。丙烯酸系聚合物的重均分子量為160萬。(丙烯酸系粘合劑的製備)相對於100份(固體成分)前述丙烯酸系聚合物溶液，加入0. 8份多官能異氰酸 酯化合物(日本聚氨酯工業株式會社，coronateL)，製成丙烯酸系粘合劑。(粘合劑層的形成)將前述丙烯酸系粘合劑塗布在脫模薄膜(三菱化學聚酯(株)，DIAF0IL MRF38， PET薄膜)的一個面上，使乾燥後的粘合劑層的厚度為21 y m，在150°C下乾燥3分鐘，形成 粘合劑層。(粘合型偏振片B的製作)將前述粘合劑層轉印到偏振片上，製作成粘合型偏振片B。(粘接力的測定)按照與上述同樣的方法對粘合型偏振片B的初始粘接力、60°C /100小時後的粘 接力進行了測定。其結果為初始粘接力為14.8(N/25mm)，6(TC /100小時後的粘接力為 31. 0(N/25mm)。製造例3(粘合劑層的形成)向製造例1的水分散型丙烯酸系粘合劑中加入作為交聯劑的碳化二亞胺化合物 (日清紡織(株)，CARBODILITE E-04)，得到粘合劑組合物。另外，交聯劑的添加量為水分 散型丙烯酸系粘合劑的固體成分中的0.4重量％。隨後，將其塗布在脫模薄膜(三菱化學 聚酯(株)，DIAF0IL MRF38，PET薄膜)的一個面上，使乾燥後的粘合劑層的厚度為23 y m， 在120°C下乾燥2分鐘，形成粘合劑層。(粘合型偏振片C的製作)除了使用前述粘合劑層以外，採用與製造例1同樣的方法製作粘合型偏振片C。(粘接力的測定)按照與上述同樣的方法對粘合型偏振片C的初始粘接力、60°C /100小時後的粘 接力進行了測定。其結果為初始粘接力為2. 3(N/25mm)，60°C /100小時後的粘接力為 30 (N/25mm)以上。製造例4(粘合劑層的形成)向製造例1的水分散型丙烯酸系粘合劑中加入作為交聯劑的碳化二亞胺化合物(日清紡織(株)，CARBODILITE E-04)，得到粘合劑組合物。另外，交聯劑的添加量為水分 散型丙烯酸系粘合劑的固體成分中的1.0重量％。隨後，將其塗布在脫模薄膜(三菱化學 聚酯(株)，DIAF0IL MRF38，PET薄膜)的一個面上，使乾燥後的粘合劑層的厚度為23 y m， 在120°C下乾燥2分鐘，形成粘合劑層。(粘合型偏振片D的製作)除了使用前述粘合劑層以外，採用與製造例1同樣的方法製作成粘合型偏振片D。(粘接力的測定)按照與上述同樣的方法對粘合型偏振片D的初始粘接力、60°C /100小時後的粘 接力進行了測定。其結果為初始粘接力為2. l(N/25mm)，6(TC /100小時後的粘接力為 30 (N/25mm)以上。製造例5(粘合劑層的形成)向製造例1的水分散型丙烯酸系粘合劑中，加入作為交聯劑的碳化二亞胺化合物 (日清紡織(株)，CARBODILITE E-04)，得到粘合劑組合物。另外，交聯劑的添加量為水分 散型丙烯酸系粘合劑的固體成分中的1.0重量％。隨後，將其塗布在脫模薄膜(三菱化學 聚酯(株)，DIAF0IL MRF38，PET薄膜)的一個面上，使乾燥後的粘合劑層的厚度為30 y m， 在120°C下乾燥2分鐘，形成粘合劑層。(粘合型偏振片E的製作)除了使用前述粘合劑層以外，採用與製造例1同樣的方法製作成粘合型偏振片E。(粘接力的測定)按照與上述同樣的方法對粘合型偏振片E的初始粘接力、60°C /100小時後的粘 接力進行了測定。其結果為初始粘接力為2.6(N/25mm)，6(TC /100小時後的粘接力為 30 (N/25mm)以上。實施例1 12、比較例1 3將粘合型偏振片A裁剪成25mm寬，將裁剪所得的樣品通過用2kg輥進行1次往返 壓接而使其貼附到玻璃基板(Corninglncorporated，Corning#1737)上，接著，在50°C、5個 大氣壓的高壓釜中放置15分鐘，然後在60°C、相對溼度30%的氣氛下放置100小時，之後 冷卻至25°C。然後，在表1記載的各條件下進行暴露處理，冷卻至25°C。隨後，使用拉伸試 驗機分別測定在剝離角度180°、剝離速度300mm/min的條件下從玻璃基板剝離樣品時的 粘接力(N/25mm)。比較例4禾口 5除了使用粘合型偏振片B以外，採用與前述同樣的方法分別測定了粘接力 (N/25mm)。實施例13、14除了使用粘合型偏振片C以外，採用與前述同樣的方法分別測定了粘接力 (N/25mm)。實施例15、16除了使用粘合型偏振片D以外，採用與前述同樣的方法分別測定了粘接力 (N/25mm)。
實施例17、18除了使用粘合型偏振片E以外，採用與前述同樣的方法分別測定了粘接力 (N/25mm)。[表1]
權利要求
一種粘合型光學薄膜的剝離方法，其為從帶光學薄膜的玻璃基板上剝離粘合型光學薄膜的粘合型光學薄膜的剝離方法，所述帶光學薄膜的玻璃基板在玻璃基板上貼附有粘合型光學薄膜，其特徵在於，粘合型光學薄膜的粘合劑層由水分散型粘合劑形成，將帶光學薄膜的玻璃基板暴露在溫度40℃以上且相對溼度80％以上、或者溫度50℃以上且相對溼度70％以上的環境下，然後從玻璃基板上剝離粘合型光學薄膜。
2.根據權利要求1所述的粘合型光學薄膜的剝離方法，其中，粘合型光學薄膜在光學 薄膜和粘合劑層之間具有錨固層。
3.一種粘合型光學薄膜，其在權利要求1或2所述的粘合型光學薄膜的剝離方法中使 用，在光學薄膜的至少一個面上具有由水分散型粘合劑形成的粘合劑層，其特徵在於，該粘 合型光學薄膜貼附於玻璃基板上並在溫度60°C且相對溼度30%的環境下暴露100小時之 後的粘接力為20N/25mm寬以上，在溫度40°C以上且相對溼度80%以上、或者溫度50°C以上 且相對溼度70%以上的環境下暴露之後的粘接力為10N/25mm寬以下。全文摘要
本發明的目的在於，提供不損壞玻璃基板、在玻璃基板上不產生殘膠、且容易地從貼附有粘合型光學薄膜的玻璃基板上剝離粘合型光學薄膜的方法，以及在該剝離方法中使用的粘合型光學薄膜。該粘合型光學薄膜的剝離方法是從帶光學薄膜的玻璃基板上剝離粘合型光學薄膜的粘合型光學薄膜的剝離方法，所述帶光學薄膜的玻璃基板在玻璃基板上貼附有粘合型光學薄膜，其特徵在於，粘合型光學薄膜的粘合劑層由水分散型粘合劑形成，將帶光學薄膜的玻璃基板暴露在溫度40℃以上且相對溼度80％以上、或者溫度50℃以上且相對溼度70％以上的環境下，然後從玻璃基板上剝離粘合型光學薄膜。
文檔編號G02B5/30GK101896840SQ20098010134
公開日2010年11月24日 申請日期2009年1月20日 優先權日2008年1月25日
發明者乾國昭, 岡田研一, 卷幡陽介, 村山凡子, 高橋俊貴 申請人:日東電工株式會社