多能量x射線輻射的生成的製作方法
2023-06-09 10:50:36
多能量x射線輻射的生成的製作方法
【專利摘要】本發明涉及多能量X射線輻射的生成。為了提供具有增加的切換頻率的多能量X射線輻射，X射線管的旋轉陽極（10）被提供有陽極體（12）、圓形焦軌（14）和旋轉軸（16）。所述焦軌被提供在所述陽極體上並且包括至少一個第一焦軌部分（18）和至少一個第二焦軌部分（20）。過渡部分（22）被提供於所述至少一個第一焦軌部分與所述至少一個第二焦軌部分之間。所述至少一個第一焦軌部分向所述X射線管的X射線輻射投影方向（24）傾斜。所述至少一個第二焦軌部分在橫向於所述徑向方向的方向（26）被劃分，並且包括初級子部分（28）和次級子部分（30），所述初級子部分（28）向所述X射線輻射投影方向傾斜，所述次級子部分（30）比所述初級子部分更少地面向所述X射線輻射投影方向。所述過渡部分被提供為使得在所述過渡部分的表面生成的X射線輻射的方向不同於所述X射線輻射投影方向。
【專利說明】多能量X射線輻射的生成
【技術領域】
[0001]本發明涉及多能量X射線輻射的生成。本發明尤其涉及旋轉陽極、用於生成多能量X射線輻射的X射線管、用於X射線成像的系統、用於生成多能量X射線輻射的方法、以及電腦程式單元和計算機可讀介質。
【背景技術】
[0002]多能量X射線輻射被用於，例如，醫學成像中的雙能量圖像採集中。例如，通過施加第一管電壓提供第一 X射線輻射特性，以及通過施加第二管電壓提供X射線輻射的第二特性。進一步地，可以將可移動濾波器放在所述X射線管前方，用於對所述X射線束進行濾波或者不對所述X射線束進行濾波，以生成雙能量X射線輻射。為了改進解析度以及因此改進圖像質量，使用較快的切換。然而，較快的切換對於可移動濾波器而言意味著增加的機械負載。WO 2008/072175 Al描述一種了 X射線源，其生成具有連續變化的能譜的X輻射，其中提供了旋轉濾光碟。
【發明內容】
[0003]因此，存在著對於提供具有改進的切換頻率的多譜X射線輻射的需要。
[0004]本發明的目標通過獨立權利要求的主題得以解決，其中，從屬權利要求中併入了另外的實施例。
[0005]應認識到，下面描述的本發明的各方面也適用於所述旋轉陽極、用於生成多能量X射線輻射的X射線管、用於X射線成像的系統，用於生成多能量X射線輻射的方法，以及電腦程式單元和計算機可讀介質。
[0006]根據本發明的第一方面，提供一種用於X射線管的旋轉陽極，包括陽極體、圓形焦軌和旋轉軸。所述焦軌被提供於所述陽極體上，並且包括至少一個第一焦軌部分和至少一個第二焦軌部分。進一步地，過渡部分被提供於所述至少一個第一焦軌部分與第二焦軌部分之間。所述至少一個第一焦軌部分向所述X射線管的X射線輻射投影方向傾斜。所述至少一個第二焦軌部分在橫向於所述徑向方向的方向被劃分，並且包括初級子部分和次級子部分，所述初級子部分向所述X射線輻射投影方向傾斜，所述次級子部分比所述初級子部分更少地面向所述X射線輻射投影方向。所述過渡部分被提供為使得在所述過渡部分的表面生成的X射線輻射的方向不同於所述X射線輻射投影方向。
[0007]術語「X射線輻射投影方向」指生成的X射線輻射中指向探測器的部分。術語「X射線輻射投影方向」可以指X射線束的假想中心線，即指所述X射線束的主方向。所述X射線輻射投影方向的所述主方向指向所述探測器的中心。
[0008]根據本發明的示範性實施例，所述X射線輻射投影方向垂直於所述旋轉軸。所述至少一個第一焦軌部分傾斜為使得其不面向(face away from)所述旋轉軸。所述初級子部分傾斜為使得其不面向所述旋轉軸。所述次級子部分傾斜為使得其面向所述旋轉軸。所述過渡部分面向所述旋轉軸或平行於所述旋轉軸，並且被布置為使得所述表面在所述X射線輻射投影方向被屏蔽。
[0009]術語所述X射線束「垂直於所述旋轉軸」指所述束的假想中心線，並且也包括不是90度而是更小或更大角度的方向，例如大致30度至150度的角度範圍。
[0010]根據另外的示範性實施例，所述過渡部分被提供有鄰近所述第一焦軌部分和所述第二焦軌部分的側邊緣，其中，所述側邊緣在遠離所述旋轉軸的方向漸縮。
[0011]根據本發明另外的示範性實施例，具有至少一個X射線濾波器段的X射線濾波器被提供於所述至少一個第二焦軌部分的所述初級子部分外側，所述濾波器段被附接到所述陽極。
[0012]根據另外的示範性實施例，所述濾波器在其周向延伸上具有變化的X射線濾波器特性。
[0013]根據本發明的第二個方面，提供一種用於生成多能量X射線輻射的X射線管，包括陰極、陽極和殼體。可以從所述陰極向所述陽極發射電子束。所述陰極和所述陽極被布置在所述殼體內部。在所述殼體中提供X射線窗口。所述陽極是根據上述方法和示範性實施例之一提供的。
[0014]根據本發明的第三方面，提供一種用於X射線成像的系統，包括X射線源、X射線探測器，和控制單元。所述X射線源包括根據本發明的上述方面的X射線管。
[0015]根據本發明的第四方面，提供一種用於生成多能量X射線輻射的方法，包括以下步驟:
[0016]a)將電子束提供到旋轉陽極的第一焦軌部分；該第一焦軌部分向所述X射線管的X射線輻射投影方向傾斜；
[0017]b)生成具有第一 X射線特性的第一 X射線束；
[0018]c)將電子束提供到所述第一焦軌部分與第二焦軌部分之間的過渡部分，該過渡部分被提供為使得在所述過渡部分的表面生成的X射線輻射的方向不同於所述X射線輻射投影方向；
[0019]d)將所述電子束提供到所述旋轉陽極的所述第二焦軌部分；該第二焦軌部分在橫向於所述徑向方向的方向被劃分，並且包括初級子部分和次級子部分，所述初級子部分向所述X射線輻射投影方向傾斜，所述次級子部分比所述初級子部分更少地面向所述X射線輻射投影方向；並且
[0020]e)生成具有第二 X射線特性的第二 X射線束。
[0021]根據本發明的示範性實施例，所述第二 X射線束被提供在所述初級子部分外側的X射線濾波器所濾波，該濾波器段附接到所述陽極。
[0022]根據另外的示範性實施例，利用比撞擊在所述第一焦軌部分上的電子束更高的管電壓，生成撞擊在所述第二焦軌部分上的所述電子束。
[0023]根據本發明的一方面，所述焦軌被提供有不同的幾何形狀，使得所述電子束的不同部分生成X射線輻射的不同子部分。通過將所述次級子部分提供為使得它們較少地面向所述X射線輻射投影方向，在這些次級子部分生成的所述X射線輻射向著不同於所述X射線輻射投影方向的方向輻射。換言之，所生成的X射線的至少部分不被提供為用於例如X射線成像目的。
[0024]根據另一方面，所述過渡部分提供兩種能量之間改進的過渡，即縮短的過渡。通過將焦斑的「內部」放在邊緣之後，實質上縮短了所述焦斑，這也意指部分射束丟棄(partialbeam dump)，其中X射線部分地未被使用，只要所述陽極上的濾波器以非常近的距離使其通過，該狀態也可以被稱做濾波器「啟用」。通過將所述「內部」置於所述射束丟棄部，在徑向方向縮短了所述焦斑，並且縮短了過渡期，其中僅探測器元件的子集會被經濾波的X射線束照射，並且所述探測器元件的其他子集會被經較少濾波的X射線束照射。除了縮短所述過渡期以外，在過渡期間所使用的X射線束被完全消除(blanked out):在所述過渡期間，整個電子束被丟棄(dumped),並且不被用於在所述X射線福射投影方向生成X射線福射。接下來，所述電子束擊中在鄰近的濾波器元件的所述邊緣之間的所述第一焦軌部分，在該狀態中，來自所述第一焦軌部分的所有輻射均被使用，即濾波器「關閉」。
[0025]根據另外的方面，也提供第三或更多的焦軌部分，其被提供有不同的X射線輻射生成特性。根據再另外的方面，供應不同的電壓。所述電壓可以在一種類型的焦軌部分之間和/或在不同類型的焦軌部分之間相異。
[0026]參考後文描述的實施例，本發明的這些以及其他方面將變得顯而易見並將得以闡明。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0027]下面將參考以下附圖描述本發明的示範性實施例。
[0028]圖1以平面視圖示意性示出了根據本發明的旋轉陽極的第一實施例。
[0029]圖2A至圖2C在沿不同的線所取的截面圖中示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的示範性實施例。
[0030]圖3A和圖3B在橫截面中示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的示範性實施例。
[0031]圖4A和圖4B示出了圖3的所述陽極的平面視圖。
[0032]圖5A和圖5B以透視圖示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的示範性實施例。
[0033]圖6示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的範例的平面視圖。
[0034]圖7示出了圖6的旋轉陽極的透視圖。
[0035]圖8示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的示範性實施例的焦斑軌的拉直視圖。
[0036]圖9示出了根據本發明的焦斑軌的另外的範例的截面。
[0037]圖10示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的示範性實施例。
[0038]圖11示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的範例。
[0039]圖12示出了本發明的另外的範例的時序方面。
[0040]圖13示出了根據本發明的另外的示範性實施例的光譜和光子通量。
[0041]圖14以平面視圖示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的範例。
[0042]圖15以截面視圖和平面視圖示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的示範性實施例。
[0043]圖16和圖17示出了圖15的範例的另外的方面。
[0044]圖18示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的範例。
[0045]圖19示出了根據本發明的旋轉陽極的另外的示範性實施例。
[0046]圖20示出了根據本發明的X射線管的示範性實施例。
[0047]圖21示出了根據本發明的用於X射線成像的系統的示範性實施例。[0048]圖22示出了根據本發明的用於生成多能量X射線輻射的方法的示範性實施例的基本方法步驟。
[0049]圖23和圖24示出了根據本發明的方法的另外的範例。
【具體實施方式】
[0050]圖1示出了用於X射線管的旋轉陽極，包括陽極體12、圓形焦軌14以及僅用十字標記指示的旋轉軸16。
[0051]所述焦軌提供在所述陽極體上，並且包括至少一個第一焦軌部分18和至少一個第二焦軌部分20。進一步地，在至少一個第一焦軌部分18與第二焦軌部分20之間提供過渡部分22。
[0052]圖2A示出了通過第一焦軌部分18的截面；圖2B示出了通過第二焦軌部分20的截面；並且圖2C示出了通過過渡部分22中的一個的截面。
[0053]第一焦軌部分18向X射線輻射投影方向傾斜，在圖2中用虛線箭頭24指示。
[0054]第二焦軌部分20在橫向於所述徑向方向的方向(如在圖1中用線26指示的)被劃分，並且包括初級子部分28，其向X射線輻射投影方向24傾斜；和次級子部分30，其比初級子部分28更少地面向X射線輻射投影方向24。如在圖2B中所示，次級子部分30相比X射線輻射投影方向24，更多地面向相反方向。要指出，也可以在不同的布置中提供所述次級子部分，只要得到的X射線輻射不被投影在X射線輻射投影方向24。
[0055]所述過渡部分被提供為使得在所述過渡部分的表面生成的X射線輻射的方向不同於所述X射線輻射投影方向。
[0056]參考圖2C，要指出，用虛線箭頭32指示的撞擊在過渡部分22上的電子束會生成具有與X射線輻射投影方向24相比不同方向的X射線輻射。
[0057]可以將過渡部分22提供為射束丟棄部34，如在圖2C中所示。
[0058]也可以將過渡部分22提供為不面向X射線輻射投影方向24的斜面，從而生成的X射線輻射不會被輻射在投影方向24。
[0059]要指出，X射線輻射投影方向24指一範圍的方向，例如指扇形或錐形X射線束。
[0060]所述過渡部分被提供為使得在所述過渡部分的表面生成的X射線輻射不對被用於投影的X射線輻射有貢獻。
[0061]例如，從所述過渡部分的所述表面到X射線窗口(在圖1或圖2中未進一步示出)或X射線口的視線被所述陽極的X射線不透明材料、或X射線衰減材料、或X射線吸收材料阻擋。
[0062]所述X射線輻射投影方向可以包括一片所用的X射線輻射，或一片有效X射線輻射。
[0063]當然，X射線輻射是在各種方向的焦斑處生成的。然而，術語「X射線」或「X射線輻射束」在該語境中是指輻射通過殼體中的X射線窗口或X射線管的罩的X射線，例如，向探測器輻射的X射線。
[0064]還要指出，代替旋轉陽極，可以提供例如在前後方向軸轉或滑動移動的移動陽極。
[0065]代替可移動陽極，可以提供X射線束的偏轉，使得不同的焦軌部分被電子束依次地，或連續地擊中。[0066]本發明的一方面是提供不同形狀的焦軌，使得由於所述不同形狀，X射線束的不同部分得以生成並因此向徑向方向24輻射。
[0067]根據另外的示範性實施例(未進一步詳細示出)，所述X射線輻射投影方向垂直於旋轉軸16。至少一個第一焦軌部分18傾斜為使得其不面向所述旋轉軸。初級子部分28傾斜為使得其不面向旋轉軸16，其中，次級子部分30傾斜為面向所述旋轉軸。過渡部分22面向旋轉軸16或平行於所述旋轉軸，並且被布置為使得所述表面屏蔽開X射線輻射投影方向24。
[0068]所述過渡部分可以被提供為陽極表面的至少部分凹陷，該凹陷包括至少在所述X射線輻射投影方向的側壁。這在圖2C中得以指示，其中將過渡部分22提供為在右側上具有側壁部分38的凹陷36，屏蔽X射線輻射並且因而防止它們在X射線輻射投影方向24中的投影。
[0069]還要指出，代替如圖1中所示的僅一個焦軌部分18和僅一個第二焦軌部分20，還可以以交替方式提供多個第一焦軌部分18和第二焦軌部分20，其中過渡部分22提供在第一焦軌部分18與鄰近的第二焦軌部分20之間。
[0070]所述至少一個第一焦軌部分可以被提供為生成第一有用X射線束，其被用於創建X射線圖像。所述至少一個第二焦軌部分被提供為生成第二有用X射線束。所述第二有用X射線束的強度較小，這是因為被用於創建X射線圖像的焦斑的有用部分的減小的尺寸以及所述焦斑的所述有用部分位於其上的所述焦軌減小的徑向尺寸，同時所述X射線的未使用部分出現自所述焦斑中位於至少一個第二焦軌部分20的所述次級子部分上的未使用部分，該未使用部分不面向所述旋轉軸。
[0071]第二焦軌部分20可以在基本上垂直於所述徑向方向的方向被劃分，如在圖1中所示的。第二焦軌部分20也可以以與垂直於所述徑向方向的方向成角的方式，在一方向中被劃分。
[0072]過渡部分22可以被提供有鄰近第一焦軌部分18和第二焦軌部分20的側邊緣40，其中所述側邊緣在遠離旋轉軸16的方向漸縮。
[0073]要指出，也結合圖1示出了漸縮的側邊緣40，然而，過渡部分22也可以被提供有不同形狀的側邊緣40。
[0074]所述漸縮的側部分可以相對於所述徑向方向傾斜。可以相對於所述徑向方向或旋轉軸，對稱地提供所述漸縮的側部分。例如，所述過渡部分具有基本上為三角形的形狀(參見例如圖6)。
[0075]如圖3中所示，X射線濾波器42可以在至少一個第二焦軌部分20的初級子部分28外側提供有至少一個X射線濾波器段44，該濾波器段44附接到陽極體12。如圖3A中所示，旋轉開所述濾波器，即所述濾波器不在所述束中，並且所述焦斑的全部產生使用的X射線。從而，所述焦斑具有細長形狀。可以將所述電子束提供在濾波器段之間的高臺上。如圖3B中所示，所述濾波器在所述射束中，並且所述焦斑中僅部分產生使用的X射線，從而縮短所述光學焦斑。用雙箭頭43指示所述光學焦斑長度。
[0076]如圖3A中所示，第一焦軌部分18被用於生成第一 X射線束46，其未經濾波地離開所述陽極。第二焦軌部分20的初級子部分28被用於生成第二 X射線束48，然後被X射線濾波器段44濾波。因而，第二 X射線束48作為經濾波的第二 X射線束48』離開所述陽極。[0077]要指出，圖3中未進一步示出用於生成所述X射線輻射所需的電子束。
[0078]還要指出，第二焦軌部分20的次級子部分30不對X射線束48有貢獻。
[0079]為了更好理解，圖3A也用虛線50示出鄰近的第二焦軌部分20的形狀。以類似的方式，圖3B以其外部形狀52示出鄰近的第一焦軌部分18。
[0080]所述濾波器可以包括具有不同X射線濾波器特性的若干濾波器段44。所述濾波器可以包括具有相等濾波器特性的若干相等X射線濾波器段(未進一步示出)。
[0081]例如，在多個第二焦軌部分的情況中，可以提供相應數目的濾波器段44。
[0082]圖4A示出了具有一個濾波器段44的陽極10的俯視圖，作為範例。進一步地，用附圖標記54指示源自撞擊第一焦軌部分18的電子束的有效焦斑。進一步地，也指示作為未經濾波的X射線束的得到的X射線束46。
[0083]第一箭頭56指示陽極10的旋轉方向，並且第二箭頭58指示因所述陽極的旋轉造成的濾波器段44的預期移動。
[0084]在旋轉時，濾波器段44被帶入在所述焦斑位置前方的位置，該位置為初級子部分28，其被使用附圖標記60指示為有效焦斑。進一步地，第一圖樣指示未經濾波的X射線束48，並且第二圖樣指示經過濾波器段44之後的經濾波的X射線束48』。
[0085]各自的最小化圖62示於圖4A和圖4B各自的俯視圖下方，指示得到的被用於X射線圖像投影的X射線束的X射線輻射特性。
[0086]圖5A和圖5B以透視圖示出了旋轉陽極10。圓形箭頭64指示所述陽極的旋轉，並且另外的箭頭66指示濾波器段44的移動，在圖5中作為範例將濾波器段44示為兩個濾波器段。進一步地，粗實線68指示撞擊(用附圖標記70指示的)各自的焦斑的電子束。
[0087]進一步地，框72指示X射線口或X射線窗口。
[0088]如可見，濾波器段44安裝在旋轉陽極10上。
[0089]圖5A中示出的另外一方面為，在陽極10的外周面上提供同步標記74。
[0090]要指出，所述同步標記並非圖5A中所示其他特徵的主要部分，並且所述同步標記也可以被用於上文所述和下文所述的其他示範性實施例。
[0091]在陽極盤10的旋轉時，圖5A的左濾波器段44被帶入焦斑70前方的位置，使得在焦斑70生成的向X射線口 72發出的X射線輻射現在在離開X射線口 72之前穿過濾波器段44，用於投影目的。
[0092]根據另外的範例，未進一步示出，所述電子束擊中第二焦軌部分20時被提供到所述焦斑的所述電子束可以被提供有140kV的管電壓。根據另外的範例，被應用到第一焦軌部分18的各自的電子束可以被提供有更低的管電壓，例如80kV或小於80kV，例如40kV或甚至20kV。
[0093]圖6示出了根據本發明的陽極的另外的範例的俯視圖。例如出於安裝到旋轉杆的目的，將陽極10示為例如在所述陽極的中心具有開口 74。進一步地，所述陽極被提供有上文提及的圓形焦軌，包括兩個第一焦軌部分18和兩個第二焦軌部分20。也如所指示的，第二焦軌部分20每個均包括上文提及的初級子部分28和次級子部分30。
[0094]進一步地，在第一焦軌部分18與第二焦軌部分20之間，提供過渡部分22，其由於兩個第一焦軌部分18和兩個第二焦軌部分20，而被提供為四個過渡部分22。如可見的，過渡部分22每個均被提供為三角形形狀76。[0095]陽極10還包括兩個濾波器段44，其每個均在各自的第二焦軌部分20的整個長度上延伸。
[0096]圖7示出了圖6的陽極的透視圖。
[0097]用第一圖樣77指示所述焦軌中對被用於投影目的的X射線輻射有貢獻的那些表面部分，並且用第二圖樣78示出所述焦軌中不對所述X射線輻射有貢獻的那些部分。
[0098]因此，次級子部分30，以及過渡部分22充當射束丟棄部。進一步地，各自的視圖也圖示被提供為濾波器環形段的濾波器段44。
[0099]圖8以平面視圖示出了根據本發明的陽極盤的一段，其中出於簡要原因，將所述平面視圖示為拉直圖，如用解釋圖標80示意性指示地。
[0100]在從左向右觀看時，圖8示出第一個第二焦軌部分20，繼之以第一過渡部分22、第一焦軌部分18、第二過渡部分22，及另一第二焦軌部分20，即第二個第二焦軌部分20。進一步地，箭頭82指示陽極半徑的方向，即所述旋轉陽極的中心在圖8之上，由此在圖8的下面部分形成所述陽極的外邊緣84。
[0101]第一虛線86指示電子束在所述陽極上的相對行進路徑，由此形成圓形焦軌14。用線88指示上文提及的所述第二焦軌部分到初級子部分28和次級子部分30的劃分。
[0102]以用第一圖樣填充的第一框90指示得到的有效焦斑。用於第一虛線框92指示所述焦斑中未使用的部 分，這是由於該部分提供在次級子部分30上。
[0103]用第一扇形94指示得到的X射線束。進一步地，第一濾波器段44被示為與第二焦軌部分20中的第一個相關，並且另外的濾波器段44被示為與第二焦軌部分20中的第二個相關。然而，在圖8中未進一步指示對X射線束94的濾波。
[0104]在所述陽極的旋轉時，所述焦斑位於第一過渡部分22之上，得到未使用的焦斑，如用第二虛線框96所指示的。當然，在該焦斑位置沒有生成X射線束。
[0105]在進一步的旋轉移動時，所述焦斑位置被定位於第一焦軌部分20上，得到比在第二焦軌部分20上的位置中有效的焦斑更大的有效焦斑。用第二框98指示第一焦軌部分18上的所述有效焦斑。這導致用第二扇形100指示的第二 X射線束。要指出，得自第二焦軌部分20的第一 X射線束94和得自第一焦軌部分18的第二 X射線束100具有不同的X射線特性。
[0106]進一步地，第一雙箭頭102指示所述焦斑的長度，並且第二雙箭頭104指示所述焦斑的寬度。以下等式適用:
[0107]
【權利要求】
1.一種用於X射線管的旋轉陽極(10)，包括: -陽極體(12); -圓形焦軌(14);以及 -旋轉軸(16)； 其中，所述焦軌被提供在所述陽極體上，並且包括至少一個第一焦軌部分(18)和至少一個第二焦軌部分(20)； 其中，過渡部分(22)被提供於所述至少一個第一焦軌部分與所述至少一個第二焦軌部分之間； 其中，所述至少一個第一焦軌部分向所述X射線管的X射線輻射投影方向(24)傾斜；其中，所述至少一個第二焦軌部分在橫向於所述徑向方向的方向(26)被劃分,並且包括初級子部分(28)和次級子部分(30)，所述初級子部分向所述X射線輻射投影方向傾斜，所述次級子部分(30)比所述初級子部分更少地面向所述X射線輻射投影方向；並且 其中，所述過渡部分被提供為使得在所述過渡部分的表面生成的X射線輻射的方向不同於所述X射線輻射投影方向。
2.根據權利要求1所述的陽極，其中，所述X射線輻射投影方向垂直於所述旋轉軸； 其中，所述至少一個第一焦軌部分被傾斜為使得其不面向所述旋轉軸； 其中，所述初級子部分被傾斜為使得其不面向所述旋轉軸；並且其中，所述次級子部分被傾斜為使得其面向所述旋轉軸；並且 其中，所述過渡部分面向所述旋轉軸或平行於所述旋轉軸，並且被布置為使得所述表面在所述X射線輻射投影方向被屏蔽。`
3.根據權利要求1或2所述的陽極，其中，所述過渡部分被提供有鄰近所述第一焦軌部分和所述第二焦軌部分的側邊緣(40);其中，所述側邊緣在遠離所述旋轉軸的方向漸縮。
4.根據權利要求1、2或3所述的陽極，其中，具有至少一個X射線濾波器段(44)的X射線濾波器(42)被提供於所述至少一個第二焦軌部分的所述初級子部分外側，所述濾波器段附接到所述陽極。
5.根據前述權利要求中任一項所述的陽極，其中，另外的焦軌(206)被提供，其被定位為使得能夠生成連續未經濾波的X射線。
6.根據前述權利要求中任一項所述的陽極，其中，所述陽極體被提供為分段陽極(214)，所述分段陽極包括處於所述段之間的若干徑向狹縫(216);其中，所述狹縫至少在所述濾波器的區域中相對於所述徑向方向成角(218);並且其中，所述濾波器包括相對於所述徑向方向成角的狹縫(220);所述成角的狹縫與所述陽極體中的所述狹縫對齊。
7.根據前述權利要求中任一項所述的陽極，其中，所述濾波器在其周向延伸上具有變化的濾波器X射線特性。
8.一種用於生成多能量X射線輻射的X射線管(300)，包括: -陰極(310)； -陽極(312);以及 -殼體(314)； 其中，電子束能夠從所述陰極向所述陽極發射； 其中，所述陰極和所述陽極被布置於所述殼體的內部；其中，X射線窗口(316)被提供於所述殼體中；並且 其中，所述陽極是根據權利要求1至7中的一項而提供的。
9.根據權利要求8所述的X射線管，其中，偏轉工具(322)被提供，以將所述電子束偏轉到所述陽極上的不同位置。
10.一種用於X射線成像的系統(400),包括: -X射線源(410)； -X射線探測器(412);以及 -控制單元(414)； 其中，所述X射線源包括根據權利要求8或9中的一項所述的X射線管(300)。
11.一種用於生成多能量X射線輻射的方法(500)，包括以下步驟: a)向旋轉陽極的第一焦軌部分(512)提供(510)電子束；所述第一焦軌部分向X射線管的X射線輻射投影方向傾斜； b)生成(514)具有第一X射線特性的第一 X射線束(516)； c)將所述電子束提供(518)到所述第一焦軌部分與第二焦軌部分之間的過渡部分，所述過渡部分被提供為使得在所述過渡部分的表面處生成的X射線輻射的方向不同於所述X射線輻射投影方向； d)將所述電子束提供(522)到所述旋轉陽極的所述第二焦軌部分(524);所述第二焦軌部分在橫向於所述徑向方向的 方向被劃分，並且包括初級子部分和次級子部分，所述初級子部分向所述X射線輻射投影方向傾斜，所述次級子部分比所述初級子部分更少地面向所述X射線輻射投影方向；並且 e)生成(526)具有第二X射線特性的第二 X射線束(528)。
12.根據權利要求11所述的方法，其中，所述第二X射線束被提供在所述初級子部分的外側的X射線濾波器所濾波(530)，所述濾波器附接到所述陽極。
13.根據權利要求11或12所述的方法，其中，利用比撞擊在所述第一焦軌部分上的電子束更高的管電壓(527 )來生成(526 』)撞擊在所述第二焦軌部分上的電子束。
14.一種用於控制根據權利要求1至10中的任一項所述的裝置的電腦程式單元，所述電腦程式單元在由處理單元運行時，適於執行根據權利要求11至13中的一項所述的方法的步驟。
15.一種存儲有如權利要求1 4所述的程序單元的計算機可讀介質。
【文檔編號】H01J35/10GK103765548SQ201280041778
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2012年6月4日 優先權日:2011年6月30日
【發明者】R·K·O·貝林 申請人:皇家飛利浦有限公司