具有複雜形狀的磨粒及其形成方法

2023-06-30 00:10:06 4

具有複雜形狀的磨粒及其形成方法
【專利摘要】本發明公開了一種磨粒，所述磨粒可包括本體。所述本體可限定長度(l)、高度(h)和寬度(w)。在一個特定方面，所述長度大於或等於所述高度，且所述高度大於或等於所述寬度。此外，在一個特定方面，所述本體可包括為至少約2∶1的由長度∶高度的比例限定的主縱橫比。所述本體也可包括至少約50％的直立取向機率。
【專利說明】具有複雜形狀的磨粒及其形成方法

【技術領域】
[0001]本公開通常涉及用於形成結構化研磨製品的方法和系統。更特別地，本公開涉及成形研磨晶粒。

【背景技術】
[0002]研磨製品(如塗布磨料和粘結磨料)用於多種工業中，以諸如通過精研、碾磨或拋光而機械加工工件。使用研磨製品機械加工包括廣泛的工業範圍，從光學工業、汽車油漆修復工業至金屬製造工業。在這些例子中的每一個中，製造設施使用磨料以去除本體材料或影響產品的表面特性。
[0003]表面特性包括光亮、紋理和均勻度。例如，金屬部件的製造使用研磨製品以精密加工和拋光表面，並常常需要均勻平滑的表面。類似地，光學製造者需要產生無缺陷表面的研磨製品，以防止光衍射和散射。
[0004]製造者也需要對於某些應用具有高切削速率的研磨製品。然而，去除速率和表面品質之間通常存在權衡。更細的晶粒研磨製品通常產生更平滑的表面，但具有更低的切削速率。更低的切削速率導致更慢的生產和增加的成本。
[0005]特別地在塗布研磨製品的情況中，研磨製品的製造者已引入表面結構以改進切削速率，同時保持表面品質。具有表面結構或凸起的磨料層的圖案的塗布研磨製品通常稱為設計或結構化磨料，並通常顯示出改進的使用壽命。
[0006]然而，用於形成結構化研磨製品的典型技術是不可靠的，並遭受性能局限性。一種用於形成結構化研磨製品的典型方法包括用粘性粘結劑塗布背襯、用功能粉末塗布粘性粘結劑，並壓印或軋製圖案至粘性粘結劑中。功能粉末防止粘結劑粘著至圖案化工具。隨後固化粘結劑。
[0007]具有功能粉末的粘性粘結劑的不完美塗布導致粘著於圖案化工具上的粘結劑。粘結劑粘著產生較差的結構，從而導致較差的產品性能和廢品。
[0008]適用於典型的結構化磨料形成技術的粘結劑的選擇受限於方法。典型的粘結劑包含增加粘結劑的粘度的高載量的常規填料。這種常規填料影響粘結劑的機械特性。例如，高載量的常規填料可不利影響粘結劑的拉伸強度、拉伸模量和斷裂伸長特性。粘結劑的較差的機械特性導致研磨晶粒的損失，從而導致表面上的刮擦和濁度，並降低研磨製品壽命。
[0009]晶粒的損失也劣化了研磨製品的性能，從而導致經常替換。經常的研磨製品替換對於製造者而言是高成本的。這樣，改進的研磨製品和用於製造研磨製品的方法是所需的。


【發明內容】

[0010]公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶粒可包括本體。所述本體可限定長度(I)、高度(h)和寬度(W)。在一個特定方面，所述長度大於或等於所述高度，且所述高度大於或等於所述寬度。此外，在一個特定方面，所述本體可包括至少約1:1的由長度:高度的比例限定的主縱橫比。所述本體也可包括至少約50%的直立取向機率。
[0011]在另一方面，公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶粒可包括具有長度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體。所述長度、寬度和高度可分別對應於縱軸、橫軸和垂直軸，且所述縱軸、橫軸和垂直軸可限定三個垂直平面。在此方面，所述本體可包括相對於所述三個垂直平面中的任意者的不對稱幾何形狀。
[0012]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶粒可包括本體，所述本體具有在由縱軸、橫軸和垂直軸限定的三個垂直平面中包括3重對稱性的複雜三維幾何形狀。此外，本體可包括沿著縱軸、橫軸或垂直軸中的一者延伸通過本體的整個內部的開口。
[0013]在另一方面，公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶粒可包括具有由長度(I)、寬度(W)和高度(h)限定的複雜三維幾何形狀的本體。所述本體也可包括質心和幾何中點。所述質心可沿著限定所述高度的本體的垂直軸從所述幾何中點偏移至少約0.05(h)的距離(Dh)。
[0014]在另一方面，公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶粒可包括限定長度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體。所述本體可包括底表面和上表面。此外，所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
[0015]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶粒可包括本體，所述本體具有總體平坦的底部和從所述總體平坦的底部延伸的圓頂形頂部。
[0016]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶粒可包括本體，所述本體包括長度(I)、寬度(《)和高度(h)。所述長度、寬度和高度可分別對應於縱軸、橫軸和垂直軸。此外，所述本體可包括沿著限定本體的長度的縱軸的扭轉，使得底表面相對於上表面旋轉，以設立扭轉角。
[0017]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶粒可包括本體,所述本體具有第一端面和第二端面、在所述第一端面與第二端面之間延伸的至少三個相鄰的側面，以及在每一對相鄰側面之間設立的邊緣結構。
[0018]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶粒可包括本體，所述本體具有中心部分和沿著所述中心部分的整個長度從所述中心部分向外延伸的至少三個徑向臂。
[0019]在另一方面，一種研磨晶粒包括具有長度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體具有底表面端和上表面，且其中所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
[0020]對於另一方面，一種研磨晶粒包括本體,所述本體具有中心部分和沿著所述中心部分的整個長度從所述中心部分向外延伸的至少三個徑向臂，其中每個徑向臂包括箭頭形遠端。
[0021]根據另一方面，一種成形磨粒包括具有長度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端部、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側表面，其中所述底表面具有與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
[0022]在一個方面，一種成形磨粒包括具有長度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體具有三叉星，所述三叉星包括限定第一臂的第一臂、限定第二臂的第二臂和限定第二臂的第三臂，其中所述第一臂、第二臂和第三臂限定小於約180度的總角度，且其中所述本體具有不大於約10的翅曲因子(curling factor)。
[0023]對於另一方面，一種成形磨粒包括具有長度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體限定四叉星，所述四叉星具有從中心部分延伸的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，且其中所述本體具有不大於約10的翹曲因子。
[0024]根據另一方面，一種成形磨粒包括具有長度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體由底表面、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側表面，其中所述底表面包括十字形二維形狀，且所述上表面包括圓四邊形二維形狀。
[0025]對於另一方面，一種成形磨粒包括具有第一層和第二層的本體，所述第一層具有第一長度，所述第二層上覆所述第一層，其中所述第二層具有在所述第一層的長度的約50 %至約90 %之間的範圍內的長度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0026]通過參照附圖，本公開可更好地得以理解，且本公開的許多特徵和優點對於本領域技術人員而言是顯而易見的。
[0027]圖1為一個示例性過程的示意圖；
[0028]圖2為結構化研磨製品的立體圖；
[0029]圖3為成形研磨晶粒的第一實施例的立體圖；
[0030]圖4為成形研磨晶粒的第一實施例的第二端部的平面圖；
[0031]圖5為成形研磨晶粒的第二實施例的立體圖；
[0032]圖6為成形研磨晶粒的第二實施例的第二端面的平面圖；
[0033]圖7為成形研磨晶粒的第三實施例的立體圖；
[0034]圖8為成形研磨晶粒的第一實施例的第二端面的平面圖；
[0035]圖9為成形研磨晶粒的第四實施例的立體圖；
[0036]圖10為成形研磨晶粒的第四實施例的第二端面的平面圖；
[0037]圖11為成形研磨晶粒的第五實施例的立體圖；
[0038]圖12為成形研磨晶粒的第五實施例的底部的平面圖；
[0039]圖13為成形研磨晶粒的第六實施例的立體圖；
[0040]圖14為成形研磨晶粒的第四實施例的第二端面的平面圖；
[0041]圖15為成形研磨晶粒的第七實施例的頂部的平面圖；
[0042]圖16為成形研磨晶粒的第七實施例的底部的平面圖；
[0043]圖17為成形研磨晶粒的第八實施例的頂部的平面圖；
[0044]圖18為成形研磨晶粒的第八實施例的底部的平面圖；
[0045]圖19為成形研磨晶粒的第九實施例的立體圖；
[0046]圖20為成形研磨晶粒的第九實施例的第二端面的平面圖；
[0047]圖21為成形研磨晶粒的第十實施例的立體圖；
[0048]圖22為成形研磨晶粒的第十實施例的第一端面的平面圖；
[0049]圖23為成形研磨晶粒的第十實施例的第二端表面的平面圖；
[0050]圖24為成形研磨晶粒的第i^一實施例的立體圖；
[0051]圖25為成形研磨晶粒的第i^一實施例的第二端面的平面圖；
[0052]圖26為成形研磨晶粒的第十二實施例的立體圖；
[0053]圖27為成形研磨晶粒的第十二實施例的第二端表面的平面圖；
[0054]圖28為成形研磨晶粒的第十三實施例的立體圖；
[0055]圖29為成形研磨晶粒的第十三實施例的第二端表面的平面圖；
[0056]圖30為成形研磨晶粒的第十四實施例的立體圖；
[0057]圖31為成形研磨晶粒的第十四實施例的第二端面的平面圖；
[0058]圖32為成形研磨晶粒的第十五實施例的立體圖；
[0059]圖33為成形研磨晶粒的第十五實施例的第二端面的平面圖；
[0060]圖34為成形研磨晶粒的第十六實施例的立體圖；
[0061]圖35為成形研磨晶粒的第十六實施例的第二端面的平面圖；
[0062]圖36為成形研磨晶粒的第十七實施例的立體圖；
[0063]圖37為成形研磨晶粒的第十七實施例的第二端面的平面圖；
[0064]圖38為成形研磨晶粒的第十八實施例的立體圖；
[0065]圖39為成形研磨晶粒的第十八實施例的第二端面的平面圖；
[0066]圖40為成形研磨晶粒的第十九實施例的立體圖；
[0067]圖41為成形研磨晶粒的第十九實施例的第二端面的平面圖；
[0068]圖42為成形研磨晶粒的第二十實施例的立體圖；
[0069]圖43為成形研磨晶粒的第二十實施例的第二端面的平面圖；
[0070]圖44為成形研磨晶粒的第二i^一實施例的立體圖；
[0071]圖45為成形研磨晶粒的第二i^一實施例的第一端面的平面圖；
[0072]圖46為成形研磨晶粒的第二i^一實施例的第二端面的平面圖；
[0073]圖47為成形研磨晶粒的第二十二實施例的立體圖；
[0074]圖48為成形研磨晶粒的第二十二實施例的第一端面的平面圖；
[0075]圖49為成形研磨晶粒的第二十二實施例的第二端表面的平面圖；
[0076]圖50為成形研磨晶粒的第二十三實施例的立體圖；
[0077]圖51為成形研磨晶粒的第二十三實施例的第一端面的平面圖；
[0078]圖52為成形研磨晶粒的第二十三實施例的第二端面的平面圖；
[0079]圖53為成形研磨晶粒的第二十四實施例的立體圖；
[0080]圖54為成形研磨晶粒的第二十四實施例的第一端表面的平面圖；
[0081]圖55為成形研磨晶粒的第二十四實施例的第二端表面的平面圖；
[0082]圖56為成形研磨晶粒的第二十五實施例的立體圖；
[0083]圖57為成形研磨晶粒的第二十五實施例的第一端面的平面圖；
[0084]圖58為成形研磨晶粒的第二十五實施例的第二端面的平面圖；
[0085]圖59為成形研磨晶粒的第二十六實施例的立體圖；
[0086]圖60為成形研磨晶粒的第二十六實施例的第一端面的平面圖；和
[0087]圖61為成形研磨晶粒的第二十六實施例的第二端面的平面圖。
[0088]圖62A和B包括根據一個實施例的用於形成成形磨粒的系統的圖示。
[0089]圖63包括根據一個實施例的用於形成成形磨粒的系統的圖示。
[0090]圖64A包括根據一個實施例的用於形成成形磨粒的系統的一部分的圖示。
[0091]圖65A包括根據一個實施例的成形磨粒的圖像。
[0092]圖65B包括圖65A的成形磨粒的側視圖的圖示。
[0093]圖65C包括根據一個實施例的成形磨粒的圖像。
[0094]圖66A包括根據一個實施例的成形磨粒的圖像。
[0095]圖66B包括圖66A的成形磨粒的側視圖的圖示。
[0096]不同圖中的相同附圖標記的使用表示類似或相同的項目。

【具體實施方式】
[0097]如下也涉及形成成形磨粒的方法和這種成形磨粒的特徵。成形磨粒可用於各種研磨製品中，包括例如粘結研磨製品、塗布研磨製品等。或者，本文的實施例的成形磨粒可用於自由研磨技術，包括例如碾磨和/或拋光漿料。
[0098]首先參照圖1，顯示了一個示例性過程，並將其通常指定為100。如所示，背襯102可從輥104提供。背襯102可用從塗布裝置108分配的粘結劑配方106塗布。示例性的塗布裝置包括降模塗布機(drop die coater)、刮刀塗布機、淋幕式塗布機、真空模塗布機或模塗布機。塗布方法可包括接觸方法或非接觸方法。這種方法包括雙輥塗布、三輥逆轉塗布、羅拉刮刀塗布、狹縫式模頭擠出塗布、凹版印刷塗布、擠出塗布或噴塗應用。
[0099]在一個特定實施例中，粘結劑配方106可以以包含粘結劑配方和研磨晶粒的漿料提供。在一個可選擇的實施例中，粘結劑配方106可與研磨晶粒分開分配。然後，可在用粘結劑配方106塗布背襯102之後，在粘結劑配方106的部分固化之後，在粘結劑配方106的圖案化之後，或在完全固化粘結劑配方108之後提供研磨晶粒。研磨晶粒可例如通過諸如靜電塗布、滴塗或機械發射的技術施用。在一個特定方面，研磨晶粒可為本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種的任意組合。
[0100]粘結劑配方106可在能源110下經過之後固化。能源110的選擇可部分取決於粘結劑配方106的化學。例如，能源110可為熱能或光化輻射能量(如電子束、紫外光或可見光)的源。所用的能量的量可取決於前體聚合物組分中的反應性基團的化學性質，以及粘結劑配方106的厚度和密度。對於熱能，約70°C至約150°C的烘箱溫度和約5分鐘至約60分鐘的持續時間可通常為足夠的。電子束輻射或電離輻射可以以約0.1MRad至約10MRad的能量水平，特別是約IMRad至約1MRad的能量水平使用。紫外輻射包括波長在約200納米至約400納米的範圍內，特別是在約250納米至400納米的範圍內的輻射。可見光輻射包括波長在約400納米至約800納米的範圍內，特別是在約400納米至約550納米的範圍內的輻射。固化參數(如暴露)通常取決於配方，並可經由燈功率和帶速度進行調節。
[0101]在一個示例性實施例中，能源110可將光化輻射提供至塗布背襯，從而部分固化粘結劑配方106。在另一實施例中，粘結劑配方106為可熱固化的，且能源110可提供用於熱處理的熱量。在另一實施例中，粘結劑配方106可包含可光化輻射固化和可熱固化的組分。這樣，粘結劑配方可通過熱固化和光化輻射固化中的一者部分固化，並通過熱固化和光化輻射固化中的另一者固化至完全固化。例如，粘結劑配方的環氧樹脂組分可使用紫外電磁輻射部分固化，粘結劑配方的丙烯酸類組分可通過熱固化進一步固化。
[0102]一旦粘結劑配方106固化，則形成結構化研磨製品112。或者，可將復膠施用於圖案化研磨結構上。在一個特定實施例中，可將結構化研磨製品112軋製成輥114。在其他實施例中，可在軋制經部分固化的研磨製品112之後進行完全固化。
[0103]在一個或多個可選擇的實施例中，可將復膠施用至粘結劑配方106和研磨晶粒上。例如，可在部分固化粘結劑配方106之前，在部分固化粘結劑配方106之後，或在進一步固化粘結劑配方106之後施用復膠。可例如通過輥塗或噴塗施用復膠。取決於復膠的組成，當施用復膠時，復膠可結合粘結劑配方106 —起固化，或分開固化。可將包括研磨助劑的超復膠施用至復膠上，並與粘結劑配方106 —起固化，與復膠一起固化，或分開固化。
[0104]參照圖2，顯示了結構化研磨製品，其通常指定為200。如所示，結構化研磨製品200可包括背襯202和沉積於所述背襯202上的多個成形研磨晶粒204。在一個特定方面，結構化研磨製品200可使用結合圖1描述的過程製造。
[0105]在一個特定方面，成形研磨晶粒204可為本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種。此外，成形研磨晶粒可包括本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種或任意組合。此夕卜，本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種可包括直立取向機率。直立取向可被認為是對應於每個成形研磨晶粒的有利的研磨/切割位置的取向，且機率為晶粒處於直立取向的簡單數學機率。
[0106]在一個特定方面，直立取向為至少百分之五十(50% )。在另一方面,直立取向為至少百分之五十五(55%)。在另一方面，直立取向為至少百分之六十(60%)。在另一方面，直立取向為至少百分之六十五(65% )。在另一方面，直立取向為至少百分之七十(70% )。在另一方面，直立取向為至少百分之七十五(75%)。在另一方面，直立取向為至少百分之八十(80%)。在另一方面，直立取向為至少百分之八十五(85%)。在另一方面，直立取向為至少百分之九十(90%)。在另一方面，直立取向為至少百分之九十五(95%)。在另一方面，直立取向為百分之一百(100%)。
[0107]本文描述的成形研磨晶粒中的每一個的本體可包括多晶材料。多晶材料可包括研磨晶粒。研磨晶粒可包括氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、金剛石，和它們的組合。此外，研磨晶粒可包括氧化物，所述氧化物選自如下氧化物的組:氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化釔、氧化鉻、氧化銀、氧化娃，和它們的組合。
[0108]在另一方面，研磨晶粒可包括氧化鋁。在另一方面，研磨晶粒基本上由氧化鋁組成。此外，研磨晶粒可具有不大於約500微米的平均晶粒尺寸。或者，平均晶粒尺寸不大於約250微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大於約100微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大於約50微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大於約30微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大於約20微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大於約10微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大於約I微米。
[0109]在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.01微米。在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.05微米。在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.08微米。在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.1微米。
[0110]在另一方面，本文描述的成形研磨晶粒中的每一個的本體可為包含至少約2個不同類型的研磨晶粒的複合材料。
[0111]圖3和圖4示出了成形研磨晶粒300的第一實施例。如圖3所示，成形研磨晶粒300可包括本體301，所述本體301為具有第一端面302和第二端面304的總體稜柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒300可包括在第一端面302與第二端面304之間延伸的第一側面310。第二側面312可與第一側面310相鄰，在第一端面302與第二端面304之間延伸。如所示，成形研磨晶粒300也可包括第三側面314，所述第三側面314與第二側面312和第一側面310相鄰，在第一端面302與第二端面304之間延伸。
[0112]如圖3和圖4所示，成形研磨晶粒300也可包括在第一側面310與第二側面312之間的第一邊緣320。成形研磨晶粒300也可包括在第二側面312與第三側面314之間的第二邊緣322。此外，成形研磨晶粒300可包括在第三側面314與第一側面312之間的第三邊緣324。
[0113]如所示，成形研磨晶粒300的每個端面302、304的形狀可為總體三角形。每個側面310、312、314的形狀可為總體矩形。此外，在平行於端面302、304的平面中的成形研磨晶粒300的橫截面可為總體三角形。可以了解，成形研磨晶粒300可包括超過三個側面310、312、314和三個邊緣320、322、324。可進一步了解，取決於側面310、312、314的數量，端面302、304和通過平行於端面302、304的平面的成形研磨晶粒300的橫截面可具有任意多邊形的形狀，例如四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形、九邊形、十邊形等。此外，多邊形可為凸狀的、非凸狀的、凹狀的，或非凹狀的。
[0114]圖5和圖6示出了成形研磨晶粒500的第二實施例。如圖5所示，成形研磨晶粒500可包括本體501，所述本體501為具有第一端面504和第二端面304的總體稜柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒500可包括在第一端面502與第二端面504之間延伸的第一側面510。第二側面512可與第一側面510相鄰，在第一端面502與第二端面504之間延伸。如所示，成形研磨晶粒500也可包括第三側面514，所述第三側面514與第二側面512和第一側面510相鄰，在第一端面502與第二端面504之間延伸。
[0115]如圖5和圖6所示，成形研磨晶粒500也可包括在第一側面510與第二側面512之間的第一邊緣面520。成形研磨晶粒500也可包括在第二側面512與第三側面514之間的第二邊緣面522。此外，成形研磨晶粒500可包括在第三側面514與第一側面512之間的第三邊緣524。
[0116]如所示，成形研磨晶粒500的每個端面502、504的形狀可為總體三角形。每個側面510、512、514的形狀可為總體矩形。此外，在平行於端面502、504的平面中的成形研磨晶粒500的橫截面可為總體三角形。
[0117]圖7和圖8示出了成形研磨晶粒700的第三實施例。如圖7所示，成形研磨晶粒700可包括本體701，所述本體701為具有第一端面702和第二端面704的總體稜柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒700可包括在第一端面702與第二端面704之間延伸的第一側面710。第二側面712可與第一側面710相鄰，在第一端面702與第二端面704之間延伸。如所示，成形研磨晶粒700也可包括第三側面714，所述第三側面714與第二側面712和第一側面710相鄰，在第一端面702與第二端面704之間延伸。
[0118]如圖7和圖8所示，成形研磨晶粒700也可包括在第一側面710與第二側面712之間的第一凹狀邊緣通道720。成形研磨晶粒700也可包括在第二側面712與第三側面714之間的第二凹狀邊緣通道722。此外，成形研磨晶粒700可包括在第三側面714與第一側面712之間的第三凹狀邊緣通道724。
[0119]如所示，成形研磨晶粒700的每個端面702、704的形狀可為總體三角形。每個側面710、712、714的形狀可為總體矩形。此外，在平行於端面702、704的平面中的成形研磨晶粒700的橫截面可為總體三角形。
[0120]圖9和圖10示出了成形研磨晶粒900的第四實施例。如圖9所示，成形研磨晶粒900可包括本體901，所述本體901為具有第一端面902和第二端面904的總體稜柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒900可包括在第一端面902與第二端面904之間延伸的第一側面910。第二側面912可與第一側面910相鄰，在第一端面902與第二端面904之間延伸。如所示，成形研磨晶粒900也可包括第三側面914，所述第三側面914與第二側面912和第一側面910相鄰，在第一端面902與第二端面904之間延伸。
[0121]如圖9和圖10所示，成形研磨晶粒900也可包括在第一側面910與第二側面912之間的第一 V形邊緣通道面920。成形研磨晶粒900也可包括在第二側面912與第三側面914之間的第二 V形邊緣通道面922。此外，成形研磨晶粒900可包括在第三側面914與第一側面912之間的第三V形邊緣通道面924。
[0122]如所示，成形研磨晶粒900的每個端面902、904的形狀可為總體三角形。每個側面910、912、914的形狀可為總體矩形。此外，在平行於端面902、904的平面中的成形研磨晶粒900的橫截面可為總體三角形。
[0123]在圖3至圖10中所示的示例性實施例中，可了解邊緣320、322、324 ;邊緣面520、522,524 ;凹狀邊緣通道720、722、724 ;和V形邊緣通道920、922、924可被認為是邊緣結構。此外，邊緣結構確保當將成形研磨晶粒300、500、700、900沉積於或設置於背襯上時，側面將設置於背襯上，邊緣結構將從背襯面向上或面向外。此外，邊緣結構提供銳邊，所述銳邊提供顯著增加的研磨性能。
[0124]另外，可了解在圖3至圖10中所示的示例性實施例中的每一個中，接觸背襯的成形研磨晶粒300、500、700、900的面(即基底)具有比指向外或指向上的成形研磨晶粒300、500、700、900的部分(例如邊緣結構)的面積顯著更大的面積。
[0125]特別地，基底可佔粒子的總表面積的至少約百分之三十(30% )。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的至少約百分之四十(40%)。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的至少約百分之五十(50%)。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的至少約百分之六十(60%)。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的不大於百分之九十九(99%)。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的不大於百分之九十五(95%)。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的不大於百分之九十(90%)。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的不大於百分之八十(80%)。在另一方面，基底可佔粒子的總表面積的不大於百分之七十五(75% )。
[0126]參照圖11和圖12，顯示了成形研磨晶粒的第五實施例，其通常指定為1100。如所示，成形研磨晶粒1100可包括本體1101,所述本體1101為具有總體三角形底面1102的總體角錐體形狀。此外，成形研磨晶粒1100可形成為在其中具有孔1104(即開口)。
[0127]在一個特定方面，孔1104可限定穿過孔1104的中心的中心軸1106。此外，成形研磨晶粒1100也可限定穿過成形研磨晶粒1100的中心的中心軸線1108。可了解,孔1104可在成形研磨晶粒1100中形成，使得孔1104的中心軸線1106在成形研磨晶粒1100的中心軸線1108之上間隔距離1110。這樣，成形研磨晶粒1100的質心可移動至成形研磨晶粒1100的幾何中點以下。將質心移動至成形研磨晶粒的幾何中點以下可確保成形研磨晶粒1100在下降或者沉積於背襯上時落在相同的面(例如底面1102)上，使得成形研磨晶粒具有直立取向。
[0128]在一個特定實施例中，質心沿著限定高度的本體1102的垂直軸偏離幾何中點等於0.05高度(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.1(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.15(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.18(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.2(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.22(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.25(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.27(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.3(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.32(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.35(h)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.38(h)的距離。
[0129]在另一方面，質心偏離不大於0.5(h)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.49(h)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.48(h)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.45(h)的距離。在另一方面,質心偏離不大於0.43(h)的距離。在另一方面,質心偏離不大於0.40(h)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.39(h)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.38(h)的距離。
[0130]此外，質心可偏離，從而當成形研磨晶粒1100為如圖11所示的直立取向時，相比於本體1101的頂部，質心更接近本體1101的基底，例如底面1102。
[0131]在另一實施例中，質心可沿著限定寬度的本體1102的橫軸偏離幾何中點等於0.05寬度(W)的距離1110。在另一方面，質心可偏離至少約0.1(W)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.15 (w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.18 (w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.2(w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.22(w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.25 (w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.27 (w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.3 (w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.32(w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.35 (w)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.38 (w)的距離。
[0132]在另一方面，質心偏離不大於0.5(w)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.49 (w)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.48 (w)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.45(w)的距離。在另一方面,質心偏離不大於0.43(w)的距離。在另一方面,質心偏離不大於0.40 (w)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.39 (w)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.38 (w)的距離。
[0133]在另一實施例中，質心可沿著限定長度的本體1102的縱軸偏離幾何中點等於0.05長度(I)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.1(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.15(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.18(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.2 (I)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.22(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.25(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.27(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.3(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.32(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.35(1)的距離。在另一方面，質心可偏離至少約0.38 (I)的距離。
[0134]在另一方面，質心偏離不大於0.5(1)的距離。在另一方面，質心偏離不大於
0.49(1)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.48(1)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.45(1)的距離。在另一方面,質心偏離不大於0.43(1)的距離。在另一方面,質心偏離不大於0.40(1)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.39(1)的距離。在另一方面，質心偏離不大於0.38 (I)的距離。
[0135]圖13和圖14示出了成形研磨晶粒的第六實施例，其通常指定為1300。如所示，成形研磨晶粒1300可包括本體1301，所述本體1301可包括沿著縱軸1304延伸的中心部分1302。第一徑向臂1306可沿著中心部分1302的長度從中心部分1302向外延伸。第二徑向臂1308可沿著中心部分1302的長度從中心部分1302向外延伸。第三徑向臂1310可沿著中心部分1302的長度從中心部分1302向外延伸。此外，第四徑向臂1312可沿著中心部分1302的長度從中心部分1302向外延伸。徑向臂1306、1308、1310、1312可圍繞成形研磨晶粒1300的中心部分1302相等間隔。
[0136]如圖13所示，第一徑向臂1306可包括總體箭形的遠端1320。第二徑向臂1308可包括總體箭形的遠端1322。第三徑向臂1310可包括總體箭形的遠端1324。此外，第四徑向臂1312可包括總體箭形的遠端1326。
[0137]圖13也表明，成形研磨晶粒1300可形成為具有在第一徑向臂1306與第二徑向臂1308之間的第一空隙1330。第二空隙1332可在第二徑向臂1308與第三徑向臂1310之間形成。第三空隙1334也可在第三徑向臂1310與第四徑向臂1312之間形成。另外，第四空隙1336可在第四徑向臂1312與第一徑向臂1306之間形成。
[0138]如圖13所示，成形研磨晶粒1300可包括長度1340、高度1342和寬度1344。在一個特定方面，長度1340大於高度1342，且高度1342大於寬度1344。在一個特定方面，成形研磨晶粒1300可限定主縱橫比，所述主縱橫比為長度1340與高度1342的比例(長度:高度)。此外，成形研磨晶粒1300可限定次縱橫比，所述次縱橫比為高度1342與寬度1344的比例(高度:寬度)。最後，成形研磨晶粒1300可限定第三縱橫比，所述第三縱橫比為長度1340與寬度1342的比例(長度:寬度)。
[0139]在一個特定方面，主縱橫比為至少1:1。在另一方面，主縱橫比為至少2: I。在另一方面，主縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少3: I。在另一方面，主縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少4: I。在另一方面，主縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少6: I。在另一方面，主縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少7: I。在另一方面，主縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少8: I。在另一方面，主縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少9: I。在另一方面，主縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少10: I。
[0140]在一個特定方面，次縱橫比為至少1:1。在另一方面，次縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，次縱橫比為2: I。在另一方面，次縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少3: I。在另一方面，次縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少
4: I。在另一方面，次縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少6: I。在另一方面，次縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少7: I。在另一方面，次縱橫比為至少
7.5: 10在另一方面，次縱橫比為至少8: I。在另一方面，次縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少9: I。在另一方面，次縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少10: I。
[0141]在一個特定方面，第三縱橫比為至少1:1。在另一方面，第三縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少2: I。在另一方面，第三縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少6: I。在另一方面，第三縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少10: I。
[0142]在一個特定方面，成形研磨晶粒1300相對於主縱橫比的形狀為總體矩形，例如平坦或彎曲的。此外，成形研磨晶粒1300相對於次縱橫比的形狀可為任意多邊形形狀，例如三角形、方形、矩形、五邊形等。成形研磨晶粒1300相對於次縱橫比的形狀也可為具有任意字母數字字符(例如1、2、3等，A、B、C等)的形狀。此外，成形研磨晶粒1300相對於次縱橫比的形狀可為選自希臘字母、現代拉丁字母、古拉丁字母、俄語字母、任何其他字母或它們的任意組合的字符。此外，成形研磨晶粒1300相對於次縱橫比的形狀可為日本漢字字符。
[0143]在成形研磨晶粒1300的另一方面中，寬度1344大於高度1342，且高度1342大於長度1340。在所述方面，成形研磨晶粒1300可限定主縱橫比，所述主縱橫比為寬度1344與高度1342的比例(寬度:高度)。此外，成形研磨晶粒1300可限定次縱橫比，所述次縱橫比為高度1342與長度1340的比例(高度:長度)。最後，成形研磨晶粒1300可限定第三縱橫比，所述第三縱橫比為寬度1342與長度1340的比例(寬度:長度)。
[0144]在一個特定方面，主縱橫比為至少2: I。在另一方面，主縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少3: I。在另一方面，主縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少4: I。在另一方面，主縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少6: I。在另一方面，主縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少7: I。在另一方面，主縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少8: I。在另一方面，主縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少9: I。在另一方面，主縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少10: I。
[0145]在一個特定方面，次縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，次縱橫比為2: I。在另一方面，次縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少3: I。在另一方面，次縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少4: I。在另一方面，次縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少6: I。在另一方面，次縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少7: I。在另一方面，次縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少8: I。在另一方面，次縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少9: I。在另一方面，次縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少10: I。
[0146]在一個特定方面，第三縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，第三縱橫比為2: I。在另一方面，第三縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少6: I。在另一方面，第三縱橫比為至少
6.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少10: I。
[0147]在一個特定方面，成形研磨晶粒1300相對於次縱橫比的形狀為總體矩形，例如平坦或彎曲的。此外，成形研磨晶粒1300相對於主縱橫比的形狀可為任意多邊形形狀，例如三角形、方形、矩形、五邊形等。成形研磨晶粒1300相對於主縱橫比的形狀也可為具有任意字母數字字符(例如1、2、3等，A、B、C等)的形狀。此外，成形研磨晶粒1300相對於主縱橫比的形狀可為選自希臘字母、現代拉丁字母、古拉丁字母、俄語字母、任何其他字母或它們的任意組合的字符。此外，成形研磨晶粒1300相對於主縱橫比的形狀可為日本漢字字符。
[0148]參照圖15和圖16，顯示了成形研磨晶粒的第七實施例，其通常指定為1500。如所示，成形研磨晶粒1500可包括本體1501,所述本體1501包括平坦底部1502和總體圓頂形的頂部1504。圓頂形頂部1504可形成為具有第一邊緣1506、第二邊緣1508、第三邊緣1510、第四邊緣1512和第五邊緣1514。可了解，成形研磨晶粒1500可包括多於或少於五個邊緣 1506、1508、1510、1512、1514。此外，邊緣 1506、1508、1510、1512、1514可圍繞圓頂形頂部1504的中心徑向相等間隔。
[0149]在一個特定方面，圓頂形頂部1504的邊緣1506、1508、1510、1512、1514可通過將包含成形研磨晶粒1500的材料注射通過總體星形的噴嘴而形成。可了解，成形研磨晶粒1500的形狀可有利於成形研磨晶粒1500在下降或者沉積於背襯上時的取向。具體地，圓頂形頂部1504允許成形研磨晶粒1500滾動至平坦底部1502上，從而確保邊緣從背襯面向外或面向上。
[0150]圖17和圖18示出了指定為1700的成形研磨晶粒的第八實施例。如所示，成形研磨晶粒1700可包括本體1701，所述本體1701包括平坦底部1702和總體圓頂形的頂部1704。圓頂形頂部1704可形成為具有峰1706。在一個特定方面，圓頂形頂部1704的峰1706可通過將包含成形研磨晶粒1700的材料注射通過總體圓形總體小的噴嘴而形成。可了解，成形研磨晶粒1700的形狀可有利於成形研磨晶粒1700在下降或者沉積於背襯上時的取向。具體地，圓頂形頂部1704和峰1706允許成形研磨晶粒1700滾動至平坦底部1702上，從而確保峰1706和圓頂形頂部1704從背襯面向外或面向上。
[0151]參照圖19和圖20，顯示了成形研磨晶粒的第九實施例，其通常指定為1900。如所示，成形研磨晶粒1900可包括本體1901，所述本體1901為具有六個外面1902和十二個1904邊緣的總體盒狀。此外,成形研磨晶粒1900可形成為具有平行於縱軸1908的通過成形研磨晶粒1900的總體X形的孔1906(即開口)，所述縱軸1908穿過成形研磨晶粒的中心1910。此外，X形孔1906的中心1912可與縱軸1908間隔距離1914。這樣，成形研磨晶粒1900的質心1916可移動至成形研磨晶粒1900的幾何中點1910之下。將質心移動至成形研磨晶粒的幾何中點以下可確保成形研磨晶粒1900在下降或者沉積於背襯時落在相同的面上。
[0152]可了解，X形孔1906可沿著通過成形研磨晶粒1900的幾何中點1910的縱軸1908形成。此外，可了解，X形孔1906可旋轉四十五度(45° )，在這種情況中，孔1906顯示為總體+形。可了解，在成形研磨晶粒1900中形成的孔1906可具有任意形狀:多邊形或其他。
[0153]圖21至圖23顯示了成形研磨晶粒的第十實施例，其通常指定為2100。如所示，成形研磨晶粒2100可包括本體2101，所述本體2101可具有第一端面2102和第二端面2104。在一個特定方面,取決於取向，第一端面2102可為底表面,第二端面2104可為上表面。此外，成形研磨晶粒2100可包括在第一端面2102與第二端面2104之間延伸的第一側面2106。第二側面2108可在第一端面2102與第二端面2104之間延伸。此外，第三側面2110可在第一端面2102與第二端面2104之間延伸。第四側面2112也可在第一端面2102與第二端面2104之間延伸。
[0154]如所示，第一端面2102和第二端面2104彼此平行。然而，在一個特定方面，第一端面2102相對於第二端面2104旋轉，以建立扭轉角2114。在一個特定方面，扭轉角2114為至少約I度。在另一方面，扭轉角2114為至少約2度。在另一方面，扭轉角2114為至少約5度。在另一方面，扭轉角2114為至少約8度。在另一方面，扭轉角2114為至少約10度。在另一方面，扭轉角2114為至少約12度。在另一方面，扭轉角2114為至少約15度。在另一方面，扭轉角2114為至少約18度。在另一方面，扭轉角2114為至少約20度。在另一方面，扭轉角2114為至少約25度。在另一方面，扭轉角2114為至少約30度。在另一方面，扭轉角2114為至少約40度。在另一方面，扭轉角2114為至少約50度。在另一方面，扭轉角2114為至少約60度。在另一方面，扭轉角2114為至少約70度。在另一方面，扭轉角2114為至少約80度。在另一方面，扭轉角2114為至少約90度。
[0155]可了解，成形研磨晶粒的扭轉角2100可為水平扭轉角，即沿著限定長度的本體2101的縱軸。在另一方面，成形研磨晶粒的扭轉角2100可為垂直扭轉角，即沿著限定本體2101的高度的垂直軸。
[0156]參照圖24和圖25，顯示了成形研磨晶粒的第i^一實施例，其通常指定為2400。如所示，成形研磨晶粒2400可包括本體2401,所述本體2401可包括沿著縱軸2404延伸的中心部分2402。第一徑向臂2406可沿著中心部分2402的長度從中心部分2402向外延伸。第二徑向臂2408可沿著中心部分2402的長度從中心部分2402向外延伸。第三徑向臂2410可沿著中心部分2402的長度從中心部分2402向外延伸。此外，第四徑向臂2412可沿著中心部分2402的長度從中心部分2402向外延伸。徑向臂2406、2408、2410、2412可圍繞成形研磨晶粒2400的中心部分2402相等間隔。
[0157]如圖24所示，第一徑向臂2406可包括總體盒狀的遠端2420。第二徑向臂2408可包括總體盒狀的遠端2422。第三徑向臂2410可包括總體盒狀的遠端2424。此外，第四徑向臂2412可包括總體盒狀的遠端2426。
[0158]圖24和圖25進一步顯示了成形研磨晶粒2400可形成為具有沿著縱軸2404的通過成形研磨晶粒2400的孔2428。如所示，孔2428的形狀可為總體三角形。可了解，在其他方面，在成形研磨晶粒2400中形成的孔2428可具有任意形狀:多邊形或其他。
[0159]圖26和圖27示出了成形研磨晶粒的第十二實施例，其通常指定為2600。如所示，成形研磨晶粒2600可包括本體2601，所述本體2601可包括沿著縱軸2604延伸的中心部分2602。第一徑向臂2606可沿著中心部分2602的長度從中心部分2602向外延伸。第二徑向臂2608可沿著中心部分2602的長度從中心部分2602向外延伸。第三徑向臂2610可沿著中心部分2602的長度從中心部分2602向外延伸。此外，第四徑向臂2612可沿著中心部分2602的長度從中心部分2602向外延伸。徑向臂2606、2608、2610、2612可圍繞成形研磨晶粒2600的中心部分2602相等間隔。
[0160]如圖26和圖27所示，第一徑向臂2606可包括形成為具有V形通道2622的總體盒狀的遠端2620。第二徑向臂2608可包括形成為具有V形通道2626的總體盒狀的遠端2624。第三徑向臂2610也可包括形成為具有V形通道2630的總體盒狀的遠端2628。此夕卜，第四徑向臂2612可包括也形成為具有V形通道2634的總體盒狀的遠端2632。
[0161]圖28和圖29示出了成形研磨晶粒的第十三實施例，其通常指定為2800。如所示，成形研磨晶粒2800可包括本體2801，所述本體2801可包括沿著縱軸2804延伸的中心部分2802。第一徑向臂2806可沿著中心部分2802的長度從中心部分2802向外延伸。第二徑向臂2808可沿著中心部分2802的長度從中心部分2802向外延伸。第三徑向臂2810可沿著中心部分2802的長度從中心部分2802向外延伸。此外，第四徑向臂2812可沿著中心部分2802的長度從中心部分2802向外延伸。徑向臂2806、2808、2810、2812可圍繞成形研磨晶粒2800的中心部分2802相等間隔。
[0162]如圖28和圖29所示，第一徑向臂2806可包括形成為具有凹狀通道2822的總體盒狀的遠端2820。第二徑向臂2808可包括形成為具有凹狀通道2826的總體盒狀的遠端2824。第三徑向臂2810也可包括形成為具有凹狀通道2830的總體盒狀的遠端2828。此夕卜，第四徑向臂2812可包括也形成為具有凹狀通道2834的總體盒狀的遠端2832。
[0163]圖30和圖31示出了成形研磨晶粒的第十四實施例，其通常指定為3000。如所示，成形研磨晶粒3000可包括本體3001，所述本體3001具有沿著縱軸3004延伸的中心部分3002。第一徑向臂3006可沿著中心部分3002的長度從中心部分3002向外延伸。第二徑向臂3008可沿著中心部分3002的長度從中心部分3002向外延伸。第三徑向臂3010可沿著中心部分3002的長度從中心部分3002向外延伸。此外，第四徑向臂3012可沿著中心部分3002的長度從中心部分3002向外延伸。徑向臂3006、3008、3010、3012可圍繞成形研磨晶粒3000的中心部分3002相等間隔。
[0164]如圖30所示，第一徑向臂3006可包括總體T形的遠端3020。第二徑向臂3008可包括總體T形的遠端3022。第三徑向臂3010可包括總體T形的遠端3024。此外，第四徑向臂3012可包括總體T形的遠端3026。
[0165]圖30也表明，成形研磨晶粒3000可形成為具有在第一徑向臂3006與第二徑向臂3008之間的第一空隙3030。第二空隙3032可在第二徑向臂3008與第三徑向臂3010之間形成。第三空隙3034也可在第三徑向臂3010與第四徑向臂3012之間形成。另外，第四空隙3036可在第四徑向臂3012與第一徑向臂3006之間形成。
[0166]圖32和圖33示出了成形研磨晶粒的第十五實施例，其通常指定為3200。如所示，成形研磨晶粒3200可包括本體3201，所述本體3201可包括沿著縱軸3204延伸的中心部分3202。第一徑向臂3206可沿著中心部分3202的長度從中心部分3202向外延伸。第二徑向臂3208可沿著中心部分3202的長度從中心部分3202向外延伸。第三徑向臂3210可沿著中心部分3202的長度從中心部分3202向外延伸。此外，第四徑向臂3212可沿著中心部分3202的長度從中心部分3202向外延伸。徑向臂3206、3208、3210、3212可圍繞成形研磨晶粒3200的中心部分3202相等間隔。
[0167]如圖32所示，第一徑向臂3206可包括總體圓T形的遠端3220。第二徑向臂3208可包括總體圓T形的遠端3222。第三徑向臂3210可包括總體圓T形的遠端3224。此外，第四徑向臂3212可包括總體圓T形的遠端3226。
[0168]圖32也表明，成形研磨晶粒3200可形成為具有在第一徑向臂3206與第二徑向臂3208之間的第一空隙3230。第二空隙3232可在第二徑向臂3208與第三徑向臂3210之間形成。第三空隙3234也可在第三徑向臂3210與第四徑向臂3212之間形成。另外，第四空隙3236可在第四徑向臂3212與第一徑向臂3206之間形成。
[0169]圖34和圖35示出了成形研磨晶粒的第十六實施例，其通常指定為3400。如所示，成形研磨晶粒3400可包括本體3401，所述本體3401具有沿著縱軸3404延伸的中心部分3402。中心部分3402可形成為具有沿著成形研磨晶粒3400的中心部分3402的整個長度沿著縱軸3404的孔3406。
[0170]總體三角形的第一徑向臂3410可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。總體三角形的第二徑向臂3412可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。總體三角形的第三徑向臂3414可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。總體三角形的第四徑向臂3416可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。此外，總體三角形的第五徑向臂3418可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。
[0171]如圖34和圖35進一步顯示，總體三角形的第六徑向臂3420可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。總體三角形的第七徑向臂3422可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。總體三角形的第八徑向臂3424可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。總體三角形的第九徑向臂3426可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。此外，總體三角形的第十徑向臂3428可沿著中心部分3402的長度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。
[0172]在一個特定方面，徑向臂3410、3412、3414、3416、3418、3420、3422、3424、3426、3428可圍繞成形研磨晶粒的中心部分3402相等間隔以形成總體星形的第一端面3430、總體星形的第二端面3432和平行於端面3430、3432獲取的總體星形的橫截面。
[0173]參照圖36和圖37，顯示了成形研磨晶粒的第十七實施例，其通常指定為3600。如所示，成形研磨晶粒3600可包括本體3601，所述本體3601具有第一端面3602和第二端面3604。在一個特定方面,取決於取向，第一端面3602可為底表面,第二端面3604可為上表面。此外，成形研磨晶粒3600可形成為沿著縱軸3608具有孔3606。如所示，孔3606可為總體盒狀。
[0174]圖36和圖37顯示成形研磨晶粒3600可包括在第一端面3602與第二端面3604之間延伸的總體K形的第一側面3610。成形研磨晶粒3600也可包括與總體K形的第一側面3610相對的在第一端面3602與第二端面3604之間延伸的總體K形的第二側面3612。
[0175]如所示，成形研磨晶粒3600可包括在第一 K形側面3610與第二 K形側面3612之間和在第一端面3602與第二端面3604之間延伸的總體平坦的第三側面3614。成形研磨晶粒3600也可包括與總體平坦的第三側面3614相對的在第一 K形側面3610與第二 K形側面3612之間延伸的總體平坦的第四側面3616。
[0176]圖38和圖39顯示了成形研磨晶粒的第十八實施例，其通常指定為3800。如所示，成形研磨晶粒3800可包括本體3801，所述本體3801具有第一端面3802和第二端面3804。在一個特定方面，取決於取向，第一端面3802可為底表面,第二端面3804可為上表面。成形研磨晶粒3800可包括在第一端面3802與第二端面3804之間延伸的總體K形的第一側面3806。此外，成形研磨晶粒3800可包括與總體K形第一側面3806相對、並在第一端面3802與第二端面3804之間延伸的總體平坦的第二側面3808。
[0177]如所示，成形研磨晶粒3800也可包括第三側面3810，所述第三側面3810在第一端面3802與第二端面3804之間和第一側面3806與第二側面3808之間延伸。此外，成形研磨晶粒3800可包括與第三側面3810相對的在第一端面3802與第二端面3804之間延伸的第四側面3812。
[0178]圖40和圖41顯示了成形研磨晶粒4000的第十九實施例。如圖40和圖41所示，成形研磨晶粒4000可包括本體4001，所述本體4001為具有第一端面4002和第二端面4004的總體稜柱狀。在一個特定方面，取決於取向，第一端面4002可為底表面,第二端面4004可為上表面。此外，成形研磨晶粒4000可包括在第一端面4002與第二端面4004之間延伸的第一側面4010。第二側面4012可與第一側面4010相鄰，在第一端面4002與第二端面4004之間延伸。如所示，成形研磨晶粒4000也可包括第三側面4014，所述第三側面4014與第二側面4012相鄰，在第一端面4002與第二端面4004之間延伸。此外，成形研磨晶粒4000可包括第四側面4016，所述第四側面4016與第三側面4014和第一側面4010相鄰，在第一端面4002與第二端面4004之間延伸。
[0179]如圖40和圖41所示，成形研磨晶粒4000也可包括在第一側面4010與第二側面4012之間的第一邊緣4020。成形研磨晶粒4000也可包括在第二側面4012與第三側面4014之間的第二邊緣4022。成形研磨晶粒4000可包括在第三側面4014與第四側面4016之間的第三邊緣4024。此外，成形研磨晶粒4000可包括在第四側面4016與第一側面4010之間的第四邊緣4026。
[0180]如所示，成形研磨晶粒4000的每個端面4002、4004可為總體菱形。每個側面4010、4012、4014、4016的形狀可為總體矩形。此外，在平行於端面4002、4004的平面中的成形研磨晶粒4000的橫截面為總體菱形。如所示，成形研磨晶粒4000也可包括沿著中心縱軸4032形成的孔4030。孔4030可經過成形研磨晶粒4000的中心。或者，孔4030可在任何方向上從成形研磨晶粒4000的中心偏移。
[0181]圖42和圖43示出了成形研磨晶粒的第二十實施例，其通常指定為4200。如所示，成形研磨晶粒4200可包括本體4201，所述本體4201包括總體圓形的第一端面4202和總體圓形的第二端面4204。在一個特定方面,取決於取向，第一端面4202可為底表面,第二端面4204可為上表面。在一個特定方面，第二端面4204的直徑可大於第一端面4202的直徑。
[0182]如所示，成形研磨晶粒4200可包括在第一端面4202與第二端面4204之間的連續側面4206。因此，成形研磨晶粒4200為總體截頭錐形。圖42和圖43進一步表明，成形研磨晶粒4200可包括沿著中心縱軸4210形成的總體圓柱形孔4208。
[0183]現在參照圖44至圖46，顯示了成形研磨晶粒的第二十一實施例，其通常指定為4400。成形研磨晶粒4400可包括本體4401，所述本體4401可包括總體三角形的第一端面4402和總體圓形的第二端面4404。在一個特定方面,取決於取向，第一端面4402可為上表面，第二端面4404可為底表面。
[0184]此外，成形研磨晶粒4400可包括在第一端面4402與第二端面4404之間延伸的第一側面4410。第二側面4412可與第一側面4410相鄰，在第一端面4402與第二端面4404之間延伸。如所示，成形研磨晶粒4400也可包括第三側面4414，所述第三側面4414與第二側面4412和第一側面4410相鄰，在第一端面4402與第二端面4404之間延伸。
[0185]如圖44和圖45所示，成形研磨晶粒4400也可包括在第一側面4410與第二側面4412之間的第一邊緣4420。成形研磨晶粒4400也可包括在第二側面4412與第三側面4414之間的第二邊緣4422。此外，成形研磨晶粒4400可包括在第三側面4414與第一側面4412之間的第三邊緣4424。
[0186]現在參照圖47至圖49，顯示了成形研磨晶粒的第二十二實施例，其通常指定為4700。成形研磨晶粒4700可包括本體4701，所述本體4701具有總體方形的第一端面4702和總體圓形的第二端面4704。在一個特定方面,取決於取向，第一端面4702可為上表面,第二端面4704可為底表面。
[0187]此外，成形研磨晶粒4700可包括在第一端面4702與第二端面4704之間延伸的第一側面4710。第二側面4712可與第一側面4710相鄰，在第一端面4702與第二端面4704之間延伸。如所示，成形研磨晶粒4700也可包括第三側面4714，所述第三側面4714與第二側面4712相鄰，在第一端面4702與第二端面4704之間延伸。成形研磨晶粒4700也可包括與第三側面4714和第一側面4710相鄰的第四側面4716。
[0188]如圖47和圖48所示，成形研磨晶粒4700也可包括在第一側面4710與第二側面4712之間的第一邊緣4720。成形研磨晶粒4700也可包括在第二側面4712與第三側面4714之間的第二邊緣4722。此外，成形研磨晶粒4700可包括在第三側面4714與第四側面4716之間的第三邊緣4724。而且，成形研磨晶粒4700可包括在第四側面4716與第一側面4710之間的第四邊緣4726。
[0189]圖50至圖52顯示了成形研磨晶粒的第二十三實施例，其通常指定為5000。成形研磨晶粒5000可包括本體5001，所述本體5001具有總體加號(+)形的第一端面5002和總體圓形的第二端面5004。在一個特定方面，取決於取向，第一端面5002可為上表面，第二端面5004可為底表面。
[0190]此外，成形研磨晶粒5000可包括在第一端面5002與第二端面5004之間延伸的第一側面5010。第二側面5012可與第一側面5010相鄰，在第一端面5002與第二端面5004之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5000也可包括第三側面5014，所述第三側面5014與第二側面5012相鄰，在第一端面5002與第二端面5004之間延伸。成形研磨晶粒5000也可包括與第三側面5014和第一側面5010相鄰的第四側面5016。
[0191]如圖50和圖51所示，成形研磨晶粒5000也可包括在第一側面5010與第二側面5012之間的第一空隙5020。成形研磨晶粒5000也可包括在第二側面5012與第三側面5014之間的第二空隙5022。此外，成形研磨晶粒5000可包括在第三側面5014與第四側面5016之間的第三空隙5024。而且，成形研磨晶粒5000可包括在第四側面5016與第一側面5010之間的第四空隙5026。
[0192]圖53至圖55顯示了成形研磨晶粒的第二十四實施例，其通常指定為5300。成形研磨晶粒5300可包括本體5301，所述本體5301具有總體加號(+)形的第一端面5302和總體圓加號(+)形的第二端面5304。在一個特定方面,取決於取向，第一端面5302可為上表面，第二端面5304可為底表面。
[0193]如所示，成形研磨晶粒5300可包括在第一端面5302與第二端面5304之間延伸的第一側面5310。第二側面5312可與第一側面5310相鄰,在第一端面5302與第二端面5304之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5300也可包括第三側面5314，所述第三側面5314與第二側面5312相鄰，在第一端面5302與第二端面5304之間延伸。成形研磨晶粒5300也可包括與第三側面5314和第一側面5310相鄰的第四側面5316。
[0194]如圖53至圖55所示，成形研磨晶粒5300也可包括在第一側面5310與第二側面5312之間的第一空隙5320。成形研磨晶粒5300也可包括在第二側面5312與第三側面5314之間的第二空隙5322。此外，成形研磨晶粒5300可包括在第三側面5314與第四側面5316之間的第三空隙5324。而且，成形研磨晶粒5300可包括在第四側面5316與第一側面5310之間的第四空隙5326。
[0195]現在參照圖56至圖58，顯示了成形研磨晶粒的第二十五實施例，其通常指定為5600。成形研磨晶粒5600可包括本體5601，所述本體5601具有總體圓形的第一端面5602和總體三角形的第二端面5604。第二端面5604比第一端面5602相對更大。在一個特定方面，取決於取向，第一端面5602可為上表面,第二端面5604可為底表面。
[0196]如所示，成形研磨晶粒5600可包括在第一端面5602與第二端面5604之間延伸的第一側面5610。第二側面5612可與第一側面5610相鄰，在第一端面5602與第二端面5604之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5600也可包括第三側面5614，所述第三側面5614與第二側面5612和第一側面5610相鄰,在第一端面5602與第二端面5604之間延伸。
[0197]如圖56至圖58所示，成形研磨晶粒5600也可包括在第一側面5610與第二側面5612之間的第一邊緣5620。成形研磨晶粒5600也可包括在第二側面5612與第三側面5614之間的第二邊緣5622。此外，成形研磨晶粒5600可包括在第三側面5614與第一側面5612之間的第三邊緣5624。
[0198]參照圖59至圖61，顯示了成形研磨晶粒的第二十六實施例，其通常指定為5900。成形研磨晶粒5900可包括本體5901，所述本體5901具有總體圓形的第一端面5902和總體方形的第二端面5904。在一個特定方面,第二端面5904比第一端面5902相對更大。在一個特定方面，取決於取向，第一端面5902可為上表面，第二端面5904可為底表面。
[0199]此外，成形研磨晶粒5900可包括在第一端面5902與第二端面5904之間延伸的第一側面5910。第二側面5912可與第一側面5910相鄰，在第一端面5902與第二端面5904之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5900也可包括第三側面5914，所述第三側面5914與第二側面5912相鄰，在第一端面5902與第二端面5904之間延伸。成形研磨晶粒5900也可包括與第三側面5914和第一側面5910相鄰的第四側面5916。
[0200]如圖59至圖61所示，成形研磨晶粒5900也可包括在第一側面5910與第二側面5912之間的第一邊緣5920。成形研磨晶粒5900也可包括在第二側面5912與第三側面5914之間的第二邊緣5922。此外，成形研磨晶粒5900可包括在第三側面5914與第四側面5916之間的第三邊緣5924。而且，成形研磨晶粒5900可包括在第四側面5916與第一側面5910之間的第四邊緣5926。
[0201]本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種構造為當沉積於背襯上時以直立取向設置。此外，本文描述的實施例中的一種或多種可提供與特定的長度:高度比、高度:寬度t匕、長度:寬度比、寬度:高度比、高度:長度比、寬度:長度比或它們的組合相關的相對較高的縱橫比。高的縱橫比能夠製造具有開放塗層的塗布研磨結構，即可增加相鄰成形研磨晶粒之間的距離。此外，開放塗層提供用於碎片間隙的更大空間，並可通過產生更好的切割或碾磨而降低功率消耗。
[0202]此外，在粘結磨料和薄輪應用中，具有銳邊的具有高縱橫比的成形研磨晶粒允許製造具有更大孔隙率的磨輪。更大的孔隙率提供用於切屑和碎片間隙的更大空間，並可使更多的冷卻劑能夠流動通過磨輪以提供更大的效率。
[0203]圖62A和B包括根據一個實施例的用於形成成形磨粒的系統的圖示。形成成形磨粒的過程可通過形成包含陶瓷材料和液體的混合物6201而開始。特別地，混合物6201可為由陶瓷粉末材料和液體形成的凝膠，其中所述凝膠可特徵在於為即使在未處理(即未燒制)狀態下也具有保持給定形狀的能力的形狀穩定材料。根據一個實施例，凝膠可包含粉末材料，所述粉末材料為分立粒子的整體網絡。
[0204]混合物6201可形成為具有特定含量的固體材料(如陶瓷粉末材料)。例如，在一個實施例中，混合物6201可具有以混合物6201的總重量計至少約25wt %，如至少約35wt %，至少約38wt%，或甚至至少約42wt%的固體含量。而且，在至少一個非限制性的實施例中，混合物6201的固體含量可不大於約75wt%,如不大於約70wt%,不大於約65wt%,或甚至不大於約55wt%。應了解，混合物6201中的固體材料的含量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內。
[0205]根據一個實施例，陶瓷粉末材料可包括氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物以及它們的組合。在特定情況中，陶瓷材料可包括氧化鋁。更具體地，陶瓷材料可包括勃姆石材料，所述勃姆石材料可為α氧化鋁的前體。術語「勃姆石」通常在本文用於表示氧化鋁水合物，包括礦物勃姆石(通常為Α1203.Η20,並具有大約15%的水含量)，以及擬薄水鋁石(具有高於15%的水含量，如20-38重量％)。應注意，勃姆石(包括擬薄水鋁石)具有特定且可辨認的晶體結構，並因此具有獨特的X射線衍射圖案，且同樣可區別於其他鋁土材料，所述其他鋁土材料包括其他水合氧化鋁，如ATH (氫氧化鋁)(用於製造勃姆石顆粒材料的本文所用的常見前體材料)。
[0206]此外，混合物6201可形成為具有特定含量的液體材料。一些合適的液體可包括有機材料，如水。根據一個實施例，混合物6201可形成為具有小於混合物6201的固體含量的液體含量。在更特定的情況中，混合物6201可具有以混合物6201的總重量計至少約25wt%的液體含量。在其他情況中，混合物6201內的液體量可更大，如至少約35wt%，至少約45wt%,至少約50wt%,或甚至至少約58wt%。而且,在至少一個非限制性的實施例中，混合物的液體含量可不大於約75wt%,如不大於約70wt%,不大於約65wt%,不大於約60wt%，或甚至不大於約55wt%。應了解，混合物6201中的液體含量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內。
[0207]此外，為了有利於加工和形成根據本文的實施例的成形磨粒，混合物6201可具有特定的儲能模量。例如，混合物6201可具有至少約IxlO4Pa,如至少約4xl04Pa，或甚至至少約5xl04Pa的儲能模量。然而，在至少一個非限制性的實施例中，混合物6201可具有不大於約IxlO7Pa,如不大於約IxlO6Pa的儲能模量。應了解，混合物6201的儲能模量可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。可使用具有Peltier板溫度控制系統的ARES或AR-G2旋轉流變儀，經由平行板系統測量儲能模量。對於測試，混合物6201可在兩個板之間的間隙內擠出，所述兩個板設定為彼此分離大約8_。在將混合物擠出至間隙中之後，將限定間隙的兩個板之間的距離降低至2mm，直至混合物6201完全填充板之間的間隙。在擦去過量的混合物之後，間隙減小0.1mm,開始測試。測試為使用25-mm平行板且每十進位記錄10個點，在6.28rad/s (IHz)下使用0.1%至100%之間的應變範圍的儀器設置進行的振動應變掃描測試。在測試完成之後I小時內，再次減小間隙0.1mm並重複測試。測試可重複至少6次。第一測試可不同於第二和第三測試。僅應該記錄每個試樣的來自第二和第三測試的結果。
[0208]此外，為了有利於加工和形成根據本文的實施例的成形磨粒，混合物6201可具有特定的粘度。例如，混合物6201可具有至少約4xl03Pa s,至少約5xl03Pa s,至少約6xl03Pas,至少約8xl03Pa s,至少約1xlO3Pa s,至少約20xl03Pa s,至少約30xl03Pa s,至少約40xl03Pa s,至少約50xl03Pa s,至少約60xl03Pa s,或甚至至少約65xl03Pa s的粘度。在至少一個非限制性實施例中，混合物6201可具有不大於約IxlO6Pa s,不大於約5xl05Pa s,不大於約3xl05Pa s，或甚至不大於約2xl05Pa s的粘度。應了解，混合物6201的粘度可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。可通過儲能模量值除以6.28s-l而計算粘度。
[0209]此外，混合物6201可形成為具有特定含量的有機材料，以有利於加工和形成根據本文的實施例的成形磨粒，所述有機材料包括例如可不同於液體的有機添加劑。一些合適的有機添加劑可包括穩定劑、粘結劑，如果糖、蔗糖、乳糖、葡萄糖、UV可固化樹脂等。
[0210]特別地，本文的實施例可使用不同於在常規流延成型操作中所用的漿料的混合物6201。例如，相比於混合物6201內的其他組分，混合物6201內的有機材料的含量，特別是上述有機添加劑中的任意者的含量可為較小量。在至少一個實施例中，混合物6201可形成為具有以混合物6201的總重量計不大於約30wt%的有機材料。在其他情況中，有機材料的量可更少，如不大於約15wt%,不大於約1wt或甚至不大於約5wt%。而且,在至少一個非限制性實施例中，混合物6201內的有機材料的量以混合物6201的總重量計可為至少約
0.lwt%，如至少約0.5wt%。應了解，混合物6201中的有機材料的量可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。
[0211]此外，混合物6201可形成為具有特定含量的不同於液體的酸或鹼，以有利於加工和形成根據本文的實施例的成形磨粒。一些合適的酸或鹼可包括硝酸、硫酸、檸檬酸、氯酸、酒石酸、磷酸、硝酸銨、檸檬酸銨。根據一個特定實施例，通過使用檸檬酸添加劑，混合物6201可具有小於約5，更特別地在約2至約4之間的範圍內的pH。
[0212]參見圖62，系統6200可包括衝模6203。如所示，混合物6201可在衝模6203的內部內提供，並配置為被擠出通過設置於衝模6203的一端的模口 6205。如進一步所示，成型可包括在混合物6201上施加力6280(其可轉化為壓力)，以有利於將混合物6201移動通過模口 6205。根據一個實施例，在擠出過程中可使用特定的壓力。例如，壓力可為至少約1kPa,如至少約500kPa。而且，在至少一個非限制性的實施例中，在擠出過程中所用的壓力可不大於約4MPa。應了解,用於擠出混合物6201的壓力可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。
[0213]在某些系統中，衝模6203可包括具有特定形狀的模口 6205。應了解，模口 6205可成形為在擠出過程中賦予混合物6201特定的形狀。根據一個實施例，模口 6205可具有矩形形狀。此外，擠出通過模口 6205的混合物6201可具有與模口 6205基本上相同的橫截面形狀。如進一步所示，混合物6201可以以片材6211的形式擠出至衝模6203下方的帶6209上。在具體情況中，混合物6201可以以片材6211的形式直接擠出至帶6209上，這可有利於連續加工。
[0214]根據一個特定實施例，帶可成型為具有覆蓋基材的膜，其中所述膜可為構造為促進成形磨粒的加工和形成的材料的分立的分別的層。過程可包括將混合物6201直接提供於帶的膜上，以形成片材6211。在某些情況中，膜可包括聚合物材料，如聚酯。在至少一個特定實施例中，膜可基本上由聚酯組成。
[0215]在一些實施例中，帶6209可在將混合物6201移動通過模口 6205的同時平移。如系統6200中所示，混合物6201可在方向6291上擠出。帶6209的平移方向6210可相對於混合物的擠出方向6291成角度。儘管平移方向6210與擠出方向6291之間的角度顯示為在系統6200中基本上正交，但也預期其他角度，包括例如銳角或鈍角。帶6209可以以特定速率平移，以有利於加工。例如，帶6209可以以至少約3cm/s,如至少約4cm/s,至少約6cm/s,至少約8cm/s,或甚至至少約10cm/s的速率平移。而且，在至少一個非限制性的實施例中，帶6209可以以不大於約5m/s,如不大於約lm/s,或甚至不大於約0.5m/s的速率在方向6210上平移。應了解，帶6209可以以在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內的速率平移。
[0216]對於根據本文的實施例的某些過程，相比於在方向6291上的混合物6201的擠出速率，可控制帶6209的平移速率，以有利於適當的加工。例如，帶6209的平移速率可與擠出速率基本上相同，以確保合適的片材6211的形成。
[0217]在混合物6201擠出通過模口 6205之後，可在附接至衝模6203的表面的刀口 6207的下方沿著帶6209平移混合物6201。刀口 6207可有利於形成片材6211。更特別地，刀口6207的表面與帶6209之間限定的開口可限定經擠出的混合物6201的特定尺寸。對於某些實施例，混合物6201可以以片材6211的形式擠出，當在由片材6211的高度和寬度限定的平面中觀察時，所述片材6211具有總體矩形的橫截面形狀。儘管擠出物顯示為片材，但可擠出其他形狀，包括例如圓柱體形狀等。
[0218]由混合物6201形成片材6211的過程可包括控制特定特徵和過程參數，以有利於適當形成具有如本文的實施例中提供的一個或多個特徵的成形磨粒。例如，在某些情況中，由混合物6201形成片材6211的過程可包括形成具有特定高度6281的片材6211，所述特定高度6281部分通過刀口 6207與帶6209的表面之間的距離進行控制。此外，應注意片材6211的高度6281可通過變化刀口 6207與帶6209的表面之間的距離而進行控制。另外，將混合物6201成型為片材6211可包括部分基於混合物6201的粘度而控制片材6211的尺寸。特別地，形成片材6211可包括基於混合物6201的粘度而調節片材6211的高度6281。
[0219]片材6211可具有特定尺寸，包括例如長度(I)、寬度(W)和高度(h)。根據一個實施例，片材6211可具有在平移帶6209的方向上延伸的長度，所述長度可大於寬度，其中片材6211的寬度為在垂直於帶6209的長度且垂直於片材的長度的方向上延伸的尺寸。片材6211可具有高度6281，其中長度和寬度大於片材6211的高度6281。
[0220]特別地，片材6211的高度6281可為從帶6209的表面豎直延伸的尺寸。根據一個實施例，片材6211可形成為具有高度6281的特定尺寸，其中所述高度可為來自多次測量的片材6211的平均高度。例如，片材6211的高度6281可為至少約0.1mm，如至少約0.5mm。在其他情況中，片材6211的高度6281可更大,如至少約0.8mm,至少約Imm,至少約1.2mm,至少約1.6mm，或甚至至少約2mm。而且，在一個非限制性的實施例中，片材6211的高度6281可不大於約1mm,不大於約5mm,或甚至不大於約2mm。應了解,片材6211可具有在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內的平均高度。
[0221]根據一個實施例，片材6211可具有長度(I)、寬度(W)和高度(h)，其中長度彡寬度彡高度。此外，片材6211可具有至少約10，如至少約100，至少約1000或甚至至少約1000的長度:高度的次縱橫比。
[0222]在從衝模6203擠出混合物6201之後，片材6211可沿著帶6209的表面在方向6212上平移。片材6211沿著帶6209的平移可有利於進一步加工，以形成前體成形磨粒。例如，片材6211可在成形區6213內經歷成形過程，這可。在特定情況中，成形過程可包括將片材6211的表面(包括例如片材6211的上主表面6217)成形，這可使用成形製品6215完成。在其他實施例中，片材的其他主表面可經歷成形，包括例如底表面或側表面。對於某些過程，成形可包括通過一個或多個過程而改變片材的輪廓，所述一個或多個過程例如壓花、輥軋、切割、雕刻、圖案化、拉伸、扭轉和它們的組合。
[0223]根據一個實施例，形成成形磨粒的過程還可包括沿著帶6209平移片材通過成型區6221。根據一個實施例，形成成形磨粒的過程還可包括將片材6211切片，以形成前體成形磨粒6223。例如，在某些情況中，成型可包括將片材6211的一部分穿孔。在其他情況中，成型過程可包括將片材6211圖案化以形成圖案化片材，並從所述圖案化片材上提取形狀。
[0224]特定的成型過程可包括切割、壓制、衝壓、粉碎、輥軋、扭轉、彎曲、乾燥和它們的組合。在一個實施例中，成型過程可包括片材6211的切片。片材6211的切片可包括使用可為氣體、液體或固體材料的形式的至少一種機械物體。切片過程可包括切割、壓制、衝壓、粉碎、輥軋、扭轉、彎曲和乾燥中的至少一者或它們的組合。此外，應了解切片可包括通過片材6211的一部分穿孔或產生部分開口，其可不延伸通過片材6211的整個高度。在另一實施例中，片材6211的切片可包括使用機械物體，所述機械物體包括一個或多個刀片、線材、盤和它們的組合。
[0225]切片過程可在單個切片過程中產生不同類型的成形磨粒。不同類型的成形磨粒可由本文的實施例的相同過程形成。不同類型的成形磨粒包括具有第一二維形狀的第一類型的成形磨粒和具有相比於所述第一二維形狀不同的二維形狀的第二類型的成形磨粒。此夕卜，不同類型的成形磨粒的尺寸可彼此不同。例如，不同類型的成形磨粒相比於彼此可具有不同的體積。能夠形成不同類型的成形磨粒的單個過程可特別適用於製備某些類型的磨粒。
[0226]切片可包括將機械物體移動通過片材6211的一部分，並在片材6211內產生開口。特別地，片材可形成為具有開口，所述開口延伸至片材的體積中，並由某些表面限定。開口可限定延伸通過片材的整個高度的至少一部分的切口。應了解，開口不必延伸通過片材的全部高度。在某些情況中，切片的方法可包括保持片材中的開口。在通過機械物體將片材切片之後保持開口可有利於適當形成成形磨粒和成形磨粒的特徵和成形磨粒的批料的特徵。保持開口可包括至少部分乾燥限定開口的片材的至少一個表面。至少部分乾燥的過程可包括在開口處引導乾燥材料。乾燥材料可包括液體、固體或甚至氣體。根據一個特定實施例，乾燥材料可包括空氣。受控乾燥可有利於形成根據本文的實施例的成形磨粒。
[0227]在某些情況中，可在充分乾燥片材之前進行切片過程。例如，可在從片材上蒸發不大於約20%的液體(相比於在片材的最初形成過程中片材的初始液體含量)之前進行切片。在其他實施例中，在切片之前或在切片過程中允許發生的蒸發的量可更小，例如不大於片材的初始液體含量的約15%，不大於片材的初始液體含量的約12%，不大於片材的初始液體含量的約10%，不大於片材的初始液體含量的約8%，或甚至不大於片材的初始液體含量的約4%。
[0228]再次參照圖62A和62B，在形成前體成形磨粒6223之後，可使粒子平移通過後成型區6225。各種過程可在後成型區6225中進行，包括例如加熱、固化、振動、浸潰、摻雜和它們的組合。
[0229]在一個實施例中，後成型區6225包括加熱過程，其中可乾燥前體成形磨粒6223。乾燥可包括去除特定含量的材料(包括揮發物，如水)。根據一個實施例，乾燥過程可在不大於300°C，如不大於280°C或甚至不大於約250°C的乾燥溫度下進行。而且，在一個非限制性的實施例中，乾燥過程可在至少50°C的乾燥溫度下進行。應了解，乾燥溫度可在上述最小溫度和最大溫度中的任意者之間的範圍內。
[0230]此外，前體成形磨粒6223可以以特定速率(如至少約0.2英尺/min且不大於約8英尺/min)平移通過後成型區。此外，乾燥過程可進行特定持續時間。例如，乾燥過程可不大於約6小時。
[0231]在前體成形磨粒6223平移通過後成型區6225之後，可從帶6209上移出粒子。前體成形磨粒6223可在料箱6227中收集以用於進一步加工。
[0232]根據一個實施例，形成成形磨粒的過程還可包括燒結過程。可在從帶6209上收集前體成形磨粒6223之後進行燒結過程。前體成形磨粒6223的燒結可用於將通常為未處理狀態的粒子緻密化。在一個特定情況中，燒結過程可有利於形成陶瓷材料的高溫相。例如，在一個實施例中，可燒結前體成形磨粒6223，從而形成氧化鋁的高溫相，如α氧化鋁。在一個情況中，成形磨粒以粒子總重量計可包含至少約9(^丨％的α氧化鋁。在其他情況中，α氧化鋁的含量可更大，使得成形磨粒可基本上由α氧化鋁組成。
[0233]圖63包括根據一個實施例的用於形成成形磨粒的系統的圖示。特別地，系統6300可通常包括形成成形磨粒的絲網印刷過程。然而，如本文所述，可改變系統的某些部分以進行模製過程。如所示，系統6300可包括構造為在輥6370與6371之間平移的絲網6351。應了解，如果需要，絲網6351可在多個輥或其他裝置上平移。如所示，系統6300可包括構造為在輥6372和6373上在方向6316上平移的帶6309。應了解，如果需要，帶6309可在多個輥或其他裝置上平移。
[0234]如所示，系統6300還可包括衝模6303，所述衝模6303構造為進行包含於衝模6303的貯存器6302內的混合物6301的擠出。形成成形磨粒的過程可通過形成包含如本文所述的陶瓷材料和液體的混合物6301而開始。
[0235]混合物6301可在衝模6303的內部內提供，並配置為被擠出通過設置於衝模6303的一端的模口 6305。如進一步所示，擠出可包括在混合物6301上施加力(或壓力)，以有利於將混合物6301擠出通過模口 6305。根據一個實施例，可在擠出過程中使用特定壓力。例如,壓力可為至少約1kPa,如至少約500kPa。而且，在至少一個非限制性的實施例中，在擠出過程中所用的壓力可不大於約4MPa。應了解，用於擠出混合物6301的壓力可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。
[0236]在特定情況中，混合物6301可在接近絲網6351的衝模6303的端部處擠出通過模口 6305。絲網6351可以以特定速率在方向6353上平移，以有利於合適的加工。特別地，絲網6351可平移通過包括模口 6305的施用區6383，以有利於形成前體成形磨粒。絲網6351可以以至少約3cm/s,如至少約4cm/s,至少約6cm/s,至少約8cm/s,或甚至至少約10cm/s的速率平移通過施用區。而且，在至少一個非限制性的實施例中，絲網6351可以以不大於約5m/s,如不大於約lm/s,或甚至不大於約0.5m/s的速率在方向6353上平移。應了解,絲網6351可以以在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內的速率平移。
[0237]另外，帶6309可以以特定速率在方向6316上平移，以有利於合適的加工。例如，帶6309可以以至少約3cm/s,如至少約4cm/s,至少約6cm/s,至少約8cm/s,或甚至至少約10cm/s的速率平移。而且，在至少一個非限制性的實施例中，帶6309可以以不大於約5m/s，如不大於約lm/s，或甚至不大於約0.5m/s的速率在方向6316上平移。應了解，帶6309可以以在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內的速率平移。
[0238]根據一個特定實施例，絲網6351可以以與帶6309的平移速率相比特定的速率平移。例如，在施用區6383內，絲網6351可以以與帶6309的平移基本上相同的速率平移。即，絲網與帶之間平移速率的差異以絲網6351的平移速率計可不大於約5%，如不大於約3%，或甚至不大於約1%。
[0239]如所示，系統6300可包括施用區6383，所述施用區6383包括模口 6305。在施用區6383內，混合物6301可從衝模6303擠出並直接至絲網6351上。更特別地，混合物6301的一部分可從模口 6305擠出，並進一步擠出通過絲網6351中的一個或多個開口至下方的帶6309上。
[0240]簡略參照圖64，示出了絲網6451的一部分。如所示，絲網6451可包括開口 6452，更特別地包括多個開口 6452。開口可延伸通過絲網6451的體積，以有利於混合物6301通過開口至帶6309上。根據一個實施例，當在由絲網的長度(I)和寬度(w)限定的平面中觀察時，開口 6452可具有二維形狀。儘管開口 6452顯示為具有三叉星二維形狀，但可預期其他形狀。例如，開口 6452可具有二維形狀，如多邊形、橢圓形、數字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的複雜形狀，以及它們的組合。在特定情況中，開口 6452可具有二維多邊形形狀，如三角形、矩形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形、九邊形、十邊形，和它們的組合。此外，絲網6451可形成為包括具有多種不同二維形狀的開口 6452的組合。
[0241]發現加工的某些方面有利於形成根據本文的實施例的成形磨粒。特別地，發現開口相對於模頭的取向對成形磨粒的形狀具有影響。特別地，應注意當開口如圖64所示排列時(其中開口的點6455首先被混合物6301填充)，具有本文描述的特徵的成形磨粒適當地形成。在其他取向中，其中例如與開口 6452的點(例如6455)相反，開口的側面6456首先被填充，應注意成形磨粒具有某些較不合適的特徵。
[0242]再次參照圖63，在迫使混合物6301通過模口 6305，並迫使混合物6301的一部分通過絲網6351中的開口 6352之後，前體成形磨粒6353可在設置於絲網6351下方的帶6309上印刷。根據一個特定實施例，前體成形磨粒6353可具有基本上複製開口 6352的形狀的形狀。
[0243]在將混合物6301擠出至絲網6351的開口 6352中之後，帶6309和絲網6351可平移至排放區6385，其中帶6309和絲網6351可分離以有利於形成前體成形磨粒。根據一個實施例，絲網6351和帶6309可以以特定的排放角度6355在排放區6385內彼此分離。根據具體實施例，排放角度6355可為絲網6351的下表面6354與帶6309的上表面6356之間的角度的量度。
[0244]特別地，可以以快速方式迫使混合物6301通過絲網6351，使得混合物6301在開口 152內的平均停留時間可小於約2分鐘，小於約I分鐘，小於約40秒，或甚至小於約20秒。在特定的非限制性實施例中，混合物6301可在行進通過絲網開口 6352時的印刷過程中基本上不改變，因此不經歷組分的量的改變，並可不經歷絲網6351的開口 6352中的顯著乾燥。
[0245]在一個可選擇的實施例中，成型過程可包括模製過程。模製過程可使用系統6300的相同部件中的一些，然而，絲網可被模製坯料代替，所述模製坯料在用於模製混合物6301的基材材料內具有開口。特別地，不同於絲網，模製坯料可具有部分延伸通過坯料的整個厚度的開口，使得開口不是從一個主表面延伸至坯料的相對主表面的孔穴。相反，模具開口可在內部體積內具有底表面，所述底表面旨在形成在其中形成的前體成形磨粒的主表面。此夕卜，模製系統不必使用在模製坯料下方的帶。
[0246]成型過程也可使用特定的乾燥過程，以有利於形成具有本文的實施例的特徵的成形磨粒。特別地，乾燥過程可包括在包括適用於限制成形磨粒的變形的溼度、溫度和大氣壓和組成的條件下乾燥。
[0247]據發現，不同於形成具有典型多邊形形狀的成形磨粒，形成複雜形狀的過程(特別是使用複製過程)需要控制一個或多個過程參數，包括乾燥條件、潤滑劑的量和類型、在擠出過程中施加至混合物的壓力、坯料或帶的材料等。在特定情況中，據發現可使用不鏽鋼或聚碳酸酯聚合物的帶或坯料。此外，據發現使用天然油材料(例如菜籽油)作為坯料或帶的開口上的潤滑劑可有利於改進地形成成形磨粒。
[0248]成形磨粒的主體可包括可為單質或化合物(例如氧化物)的形式的添加劑，如摻雜劑。某些合適的添加劑可包括鹼金屬元素、鹼土金屬元素、稀土元素、鉿(Hf)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、鑰(Mo)和它們的組合。在特定情況中，添加劑可包括諸如如下的元素:鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鍶(Sr)、鋇(Ba)、鈧(Sc)、釔(Y)、鑭(La)、銫(Ce)、鐠(Pr)、鈮(Nb)、鉿(Hf)、鋯(Zr)、鉭(Ta)、鑰(Mo)、釩(V)、鉻(Cr)、鈷(Co)、鐵(Fe)、鍺(Ge)、錳(Mn)、鎳(Ni)、鈦(Ti)、鋅(Zn)和它們的組合。
[0249]成形研磨製品的主體可包含特定含量的添加劑(例如摻雜劑)。例如,成形磨粒的主體以主體的總重量計可包含不大於約12wt%的添加劑。在其他實施例中，添加劑的量可更小，如不大於約llwt%,不大於約10wt%,不大於約9wt%,不大於約8wt%,不大於約7wt %，不大於約6wt %，或甚至不大於約5wt %。而且，在至少一個非限制性的實施例中，添加劑的量可為至少約0.5wt%,如至少約Iwt %,至少約1.3wt %,至少約1.8wt%,至少約2wt%，至少約2.3wt%，至少約2.8wt%，或甚至至少約3wt%。應了解，成形磨粒的主體內的添加劑的量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內。
[0250]圖65A包括根據一個特定實施例形成的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當以二維觀察時，成形磨粒6500可限定星形本體。特別地，成形磨粒6500可包括本體6501，所述本體6501具有中心部分6502和從中心部分6502延伸的第一臂6503、第二臂6504和第三臂6505。本體6501可具有作為沿著粒子的側面的最長尺寸測得的長度(I)、作為從側面的中點6553通過本體6501的中點6590至第一臂6503的第一頂端6506之間的粒子的最長尺寸測得的寬度(W)。寬度可在垂直於長度的維度的方向上延伸。本體6501可具有高度(h),所述高度(h)在垂直於本體6501的上表面6510的方向上延伸，從而限定上表面與底表面6511之間的第三側表面6556，如圖65B所示，圖65B為圖65A的粒子的圖像的側視圖圖示。
[0251]成形磨粒6500可具有由從中心部分6502延伸的第一臂6503、第二臂6504和第三臂6505限定的三叉星的形式的主體6501。根據一個特定實施例，所述臂中的至少一者(包括例如第一臂6503)可具有小於中心部分寬度6512的中點寬度6513。中心部分6502可限定為分別在第一側表面6554、第二側表面6555和第三側表面6556的中點6551、6552和6553之間的區域。第一臂6503的中心部分寬度6512可為中點6551與6552之間的尺寸的寬度。中點寬度6513可為沿著第一軸線6560在中心部分寬度6510的線與第一臂6503的頂端6506之間的中點處的線的寬度。在某些情況中，中點寬度6513可不大於中心部分寬度6512的約90 %，如不大於約80 %，不大於約70 %，不大於約65 %，或甚至不大於約60 %。而且，中點寬度6513可為中心部分寬度6510的至少約10%，如至少約20%，至少約30%，或甚至至少約40%。應了解，中點寬度6513可具有在如上最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內的相對於中心部分寬度6512的寬度。
[0252]此外，本體6501可具有至少一個臂，如第一臂6503，所述至少一個臂具有小於中點寬度6513的在第一臂6503的頂端6506處的頂端寬度6514。在其中頂端6506尖銳形成的這種情況中，頂端寬度6514可被認為是O。在其中頂端6506具有曲率半徑的情況中，頂端寬度6514可被認為是由曲率半徑限定的圓的直徑。根據一個實施例，頂端寬度6514可不大於中點寬度6513的約90%，如不大於中點寬度6513的約80%，不大於中點寬度6513的約70%，不大於中點寬度6513的約60%，不大於中點寬度6513的約50%，不大於中點寬度6513的約40%，不大於中點寬度6513的約30%，不大於中點寬度6513的約20%，或甚至不大於中點寬度6513的約10%。而且，在某些非限制性的實施例中，頂端寬度6514可為中點寬度6513的至少約1%，如至少約2%，至少約3%，至少約5%，或甚至至少約10%。應了解，頂端寬度6514可具有在如上最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內的相對於中點寬度6513的寬度。
[0253]如進一步所不,本體6501可具有包括第一頂端6506的第一臂6503,所述第一頂端6506限定第一側表面6554與第二側表面6555之間的第一頂端角6521。根據一個實施例，第一頂端角可小於約60度，如不大於約55度，不大於約50度，不大於約45度，或甚至不大於約40度。而且，第一頂端角可為至少約5度，如至少約8度，至少約10度，至少約15度，至少約20度，至少約25度，或甚至至少約30度。第一頂端角可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。
[0254]本體6501可包括具有第二頂端6507的第二臂6504，所述第二頂端6507限定第二側表面6555與第三側表面6556之間的第二頂端角6522。第二頂端角可與第一頂端角基本上相同，如在角度數值的5%內。或者，第二頂端角可相對於第一頂端角顯著不同。
[0255]本體6501可包括具有第三頂端6508的第三臂6505，所述第三頂端6508限定第一側表面6554與第三側表面6556之間的第三頂端角6523。第三頂端角可與第一頂端角或第二頂端角基本上相同，如在角度數值的5%內。或者，第三頂端角可相對於第一頂端角或第二頂端角顯著不同。
[0256]本體6501可具有可小於約180度的總角度，所述總角度為第一頂端角、第二頂端角和第三頂端角的值的和。在其他實施例中，總角度可不大於約175度，如不大於約170度，不大於約165度，不大於約150度，如不大於約140度，不大於約130度，不大於約125度，或甚至不大於約120度。而且，在一個非限制性的實施例中，本體6501可具有至少約60度，如至少約70度，至少約80度，至少約90度，如至少約95度，至少約100度，或甚至至少約105度的總角度。應了解,總和角度可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。
[0257]如本文所述，本體6501可具有在第一臂6506與第三臂6508之間延伸的第一側表面6554。在某些情況中，第一側表面6554可具有弓形輪廓。例如，簡略轉向圖65C，提供了根據一個實施例的成形磨粒的俯視圖圖像。特別地，圖65C的成形磨粒可包括三叉星，所述三叉星具有本體6581和在兩個點之間延伸的弓形側表面6582。在特定情況中，側表面6582可具有凹狀輪廓，所述凹狀輪廓限定朝向本體6581的中心部分6583向內延伸的彎曲部分。
[0258]再次參照圖65A，本體6501可具有第一側表面6554，所述第一側表面6554具有第一側部段6558和第二側部段6559。第一側部段6558可在第一頂端6506與中點6551之間延伸，第二側部段6559可在第三頂端6508與中點6551之間延伸。第一側部段6558和第二側部段6559可限定內角6562，所述內角6562可為鈍角。例如，內角6562可大於約90度，如大於約95度，大於約100度，大於約110度，或甚至大於約120度。而且，在一個非限制性的實施例中，內角6562可不大於約320度，如不大於約300度，或甚至不大於約270度。應了解，內角可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。
[0259]第一側部段6558可延伸達到第一側表面6554的長度的顯著部分。例如，第一側部段6558可延伸第一側表面6554的總長度的至少約20 %，如至少約25 %，至少約30%，至少約35%，或甚至至少約40%。而且，在一個非限制性的實施例中，第一側部段6558可具有不大於側表面6554的總長度的約80%，如不大於側表面6554的總長度的約75%，不大於側表面6554的總長度的約70%，或甚至不大於側表面6554的總長度的約65%的中點6551與第一頂端6506之間的長度(Isl)。應了解,第一側部段6558的長度可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內。
[0260]第二側部段6559可延伸達到第一側表面6554的長度的顯著部分。例如，第二側部段6559可延伸第一側表面6554的總長度的至少約20 %，如至少約25 %，至少約30%，至少約35%，或甚至至少約40%。而且，在一個非限制性的實施例中，第二側部段6559可具有不大於側表面6554的總長度的約80%，如不大於側表面6554的總長度的約75%，不大於側表面6554的總長度的約70%，或甚至不大於側表面6554的總長度的約65%的中點6551與第三頂端6508之間的長度(ls2),所述側表面6554的總長度為第一頂端6506與第三頂端6508之間的直線。應了解，第二側部段6559的長度可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內。
[0261]本體6501還可在一個側表面的至少一部分上包括斷裂區域6570。例如，本體6501可在中點6551與第三頂端6508之間在側表面6554的一部分上具有斷裂區域6570。斷裂區域6570可與限定底表面6511的邊緣的至少一部分相交。可選擇地或另外地，斷裂區域6570可與限定上表面6510的邊緣的至少一部分相交。斷裂區域可特徵在於具有比本體6501的至少上表面6510或底表面6511的表面粗糙度更大的表面粗糙度。斷裂區域6570可限定從底表面6511延伸的本體的一部分。在某些情況中，斷裂區域6570可特徵在於沿著第一側表面6554從底表面6511延伸的不規則形狀的突出部和凹槽。在某些情況中，斷裂區域6570可顯示為鋸齒狀邊緣並限定鋸齒狀邊緣。斷裂區域6583也在圖65C的成形磨粒的側表面6582上顯示。
[0262]在某些情況中，斷裂區域6570可優先設置於本體的臂的頂端處或接近本體的臂的頂端設置。斷裂區域6570可從底表面1703延伸，並豎直延伸達到側表面的整個高度的一部分或甚至達到側表面的整個高度。
[0263]儘管三叉星的前述本體6501已顯示為具有上表面6510，且當在本體的長度和寬度的平面中觀察時所述上表面6510具有與本體6501的底表面6511的二維形狀基本上相同的二維形狀，但可預期其他形狀。例如，在一個實施例中，底表面處的本體的橫截面形狀可限定底表面形狀，所述底表面形狀選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的複雜形狀，以及它們的組合。此外，上表面處的本體的橫截面形狀可限定上表面形狀，所述上表面形狀可與底表面形狀不同，並選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的複雜形狀，以及它們的組合。
[0264]在特定情況中，上表面形狀可具有底表面形狀的弓形形式。例如，上表面形狀可限定弓形三叉二維形狀，其中弓形三叉二維形狀限定具有圓形端部的臂。特別地，相比於在上表面處的對應的頂端的曲率半徑，在底表面處限定的臂可在頂端具有更小的曲率半徑。
[0265]如在本文的其他實施例中所述，應了解本體6501的臂中的至少一者可形成為具有扭轉，使得臂圍繞中心軸線扭轉。例如，第一臂6503可圍繞軸線6560扭轉。此外，本體6501可形成為使得至少一個臂從中心區域在弓形路徑上延伸。
[0266]圖66A包括根據一個特定實施例形成的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當在由長度和寬度的二維所限定的平面中觀察時，成形磨粒6600可限定星形本體。特別地，成形磨粒6600可包括本體6601，所述本體6601具有中心部分6602和從中心部分6602延伸的第一臂6603、第二臂6604、第三臂6605和第四臂6606。本體6601可具有作為沿著粒子的側面的最長尺寸測得的長度(I)，和作為相對的臂的兩個點之間並通過本體6601的中點6609的粒子的最長尺寸測得的寬度(W)。寬度可在垂直於長度的維度的方向上延伸。本體6601可具有高度(h),所述高度(h)在垂直於本體6601的上表面6610的方向上延伸，從而限定上表面與底表面6611之間的第三側表面6656，如圖66B所示。特別地，本體6601可具有超過一個高度，如在本文更詳細地描述。
[0267]成形磨粒6600可具有由從中心部分6602延伸的第一臂6603、第二臂6604、第三臂6605和第四臂6606限定的四叉星的形式的主體6601。本體6601可具有本文實施例中描述的特徵中的任意者。例如，根據一個特定實施例，臂中的至少一者(包括例如第一臂6603)可具有小於中心部分寬度的中點寬度，如根據圖65A的實施例所述。此外，本體6601可具有至少一個臂，如第一臂6603，所述至少一個臂具有小於中點寬度的在第一臂的頂端處的頂端寬度，如根據圖65A的實施例所述。
[0268]在一方面，本體6601可具有包括第一頂端6607的第一臂6603，所述第一頂端6607限定第一側表面6654與第二側表面6655之間的第一頂端角6621。根據一個實施例，第一頂端角可小於約60度，如不大於約55度，不大於約50度，不大於約45度，或甚至不大於約40度。而且，第一頂端角6621可為至少約5度，如至少約8度，至少約10度，至少約15度，或甚至至少約20度。第一頂端角6621可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。同樣，其他頂端中的任意者，包括第二臂6604的第二頂端6608、第三臂6605的第三頂端6609，或第四臂6606的第四頂端6610可具有頂端角，所述頂端角具有根據如上第一頂端角6621描述的相同特徵。
[0269]根據一個實施例，第二頂端6608可限定與第一頂端角6621基本上相同的第二頂端角，如角度數值的5%之內。或者，第二頂端角可相對於第一頂端角6621顯著不同。第三頂端6609可限定與第一頂端角6621基本上相同的第三頂端角，如角度數值的5%之內。或者，第三頂端角可相對於第一頂端角6621顯著不同。第四頂端6610可限定與第一頂端角6621基本上相同的第四頂端角，如角度數值的5%之內。或者，第四頂端角可相對於第一頂端角6621顯著不同。
[0270]根據一個實施例，本體6601可包括相對於彼此基本上均勻間隔的第一臂6603、第二臂6604、第三臂6605和第四臂6606。如所示，臂6603-6606可圍繞中心部分6602基本上均勻間隔。在一個特定實施例中，臂6603-6606可相對於彼此以基本上正交的角度彼此間隔。在其他實施例中，第一臂6603和第二臂6604可基於間隔角6631彼此間隔，所述間隔角6631由在相對的頂端6609和6607之間延伸並通過中點6609的軸線6690與在頂端6608和6610之間延伸並通過中點6609的軸線6691之間的角度限定。第一臂6603和第二臂6604可如間隔角6631所限定而彼此間隔至少約45度，如至少約60度，或甚至至少約70度。而且,在其他實施例中，間隔角6631可不大於約120度,如不大於約110度,或甚至大約90度。間隔角6631可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。
[0271]在某些情況中，本體6601可形成為使得至少一個側表面(如第一側表面6654)可具有弓形輪廓。在更特定的實施例中，至少一個側表面對於整個側表面的長度的至少一部分可具有凹曲度。
[0272]在另一實施例中，本體6601的至少一個側表面(如第一側表面6654)可具有第一部段6625和第二部段6626，所述第一部段6625和第二部段6626可在第一側表面中點6627處接合在一起，並限定第一內角6628。根據一個實施例,第一內角可大於約90度,如大於約95度，大於約100度，大於約130度，大於約160度，大於約180度，或甚至大於約210度。而且，在一個非限制性的實施例中，第一內角可不大於約320度，不大於約300度，或甚至不大於約270度。第一內角可在上述最小值和最大值中的任意者之間的範圍內。此外，本體可在第二側表面6655處包括第二內角6629,在第三側表面6656處包括第三內角6632,在第四側表面6657處包括第四內角6633。內角中的每一個可具有相對於第一內角6628描述的特徵。此外，第二側表面6655、第三側表面6656和第四側表面6657中的每一個和任意者可具有第一側表面6654的特徵中的任意者。
[0273]本體6601可具有相對於彼此從本體6601的中心部分6602在相對方向上延伸的第一臂6603和第三臂6605。此外，第二臂6604和第四臂6606可相對於彼此在相對方向上延伸。根據一個實施例，第二臂6604可具有可與第四臂6606的長度基本上相同的長度，所述長度如沿著軸線6691在從中心部分6602的邊界至頂端6608之間測得。在另一情況中，第二臂6604可具有與第一臂6603或第三臂6605的長度顯著不同(例如小於或大於)的長度。
[0274]儘管四叉星的前述本體6601已顯示為具有上表面6640，且當在本體的長度和寬度的平面中觀察時所述上表面6640具有與本體6501的底表面6641的二維形狀基本上相同的二維形狀，但可預期其他形狀。例如，在一個實施例中，底表面處的本體的橫截面形狀可限定底表面形狀，所述底表面形狀選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的複雜形狀，以及它們的組合。此外，上表面處的本體的橫截面形狀可限定上表面形狀，所述上表面形狀可與底表面形狀不同，並選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的複雜形狀，以及它們的組合。
[0275]在特定情況中，上表面形狀可具有底表面形狀的弓形形式。例如，上表面形狀可限定弓形四叉二維形狀，其中弓形四叉二維形狀限定具有圓形端部的臂。特別地，相比於在上表面處的對應的頂端的曲率半徑，在底表面處限定的臂可在頂端具有更小的曲率半徑。
[0276]根據一個特定方面，本體可形成為具有本體的有限變形或翹曲。例如，本體可具有不大於約10的翹曲因子(ht/hi)，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個頂端處的本體的最大高度(ht)相比於在內部(例如在中心部分6602內)的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。例如，轉向圖66B的成形磨粒的側視圖圖示，本體6601可具有內部高度，所述內部高度表示從側面觀察時粒子的最小高度。本體的最大高度(ht)由從側面觀察時底表面(或底表面的平面)與本體6601的最高點(其可為捲曲臂的頂端)之間的距離表示。本文的實施例的成形磨粒顯示有限的翹曲，具有不大於約5，不大於約3，不大於約2，不大於約1.8，不大於約1.7，不大於約1.6，不大於約1.5，不大於約1.3，不大於約1.2，不大於約
1.14，或甚至不大於約1.10的翹曲因子。可使用合適的電腦程式(如ImageJ軟體)進行根據成形磨粒的圖像的準確分析，以測量翹曲因子。
[0277]圖67包括根據一個特定實施例的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當在由長度和寬度的二維所限定的平面中觀察時，成形磨粒6700可限定十字形本體。特別地，成形磨粒6700可包括本體6701，所述本體6701具有中心部分6702和從中心部分6702延伸的第一臂6703、第二臂6704、第三臂6705和第四臂6706。本體6701可具有作為沿著粒子的側面的最長尺寸測得的長度(I)，和作為相對的臂的兩個點之間並通過本體6701的中點6709的粒子的最長尺寸測得的寬度(W)。寬度可在垂直於長度的維度的方向上延伸。本體6701可具有高度(h)，所述高度(h)在垂直於本體6701的上表面6710的方向上延伸，從而限定上表面6710與底表面6711之間的側表面。本體6701可具有在本文的實施例中的任意者中描述的特徵的任意者或組合。
[0278]本體6701可具有至少一個臂，如第一臂6703，所述至少一個臂具有與第一臂6703的中心部分寬度6712基本上相同的中點寬度6714。此外，限定本體6701的寬度的軸線6790上的點6715與6716之間的臂的長度可小於第一臂6703的寬度。在特定情況中，長度可不大於寬度的約90%，如不大於寬度的約80%，不大於寬度的約70%，不大於寬度的約60%。而且，在一個非限制性的實施例中，第一臂6703的長度可為第一臂6703的寬度的至少約10%，如至少約20%。長度可具有在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內的相對於寬度的尺寸。對第一臂6703的寬度的指代可為對中心部分寬度6712或中點寬度6714的指代。本體6701的臂中的任意者可具有第一臂6703的相同特徵。
[0279]圖68包括根據一個實施例的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當在由長度和寬度的二維所限定的平面中觀察時，成形磨粒6800可限定總體十字形本體。特別地，成形磨粒6800可包括本體6801，所述本體6801具有中心部分6802和從中心部分6802延伸的第一臂6803、第二臂6804、第三臂6805和第四臂6806。本體6801可具有作為沿著粒子的側面的最長尺寸測得的長度(I)，和作為相對的臂的兩個點之間並通過本體6801的中點6809的粒子的最長尺寸測得的寬度(W)。寬度可在垂直於長度的維度的方向上延伸。本體6801可具有高度(h)，所述高度(h)在垂直於本體6801的上表面6810的方向上延伸，從而限定上表面6810與底表面6811之間的側表面。本體6801可具有在本文的實施例中的任意者中描述的特徵的任意者或組合。
[0280]在圖68的特定實施例中，本體可具有底表面6811和上表面6810的二維形狀的特定組合。例如，本體可具有在限定底表面形狀的底表面處的本體的二維形狀(即橫截面形狀)，和在限定上表面形狀的上表面處的本體的二維形狀，特別地，底表面形狀可為總體十字形，上表面形狀可為圓四邊形形狀。圓四邊形形狀可由具有由圓角接合的四個側面的上表面6810(邊緣由虛線顯示)限定，其中拐角通常對應於由底表面限定的十字形的臂。特別地，上表面可不限定由具有相對於彼此成角度的至少兩個側表面部段的側表面分隔的臂部分，所述臂部分由底表面形狀的十字形輪廓顯示。
[0281]圖69A包括根據一個實施例的成形磨粒的側視圖的圖示。如所示，成形磨粒6900可包括本體6901，所述本體6901包括第一層6902和上覆第一層6902的第二層6903。根據一個實施例，本體6901可具有相對於彼此以階梯構造設置的層6902和6903。階梯構造可特徵在於在第一層6902的側表面6904與第二層6903的側表面6905之間在第一層6902的上表面6910上的至少一個平坦區域6920。平坦區域6920的尺寸和形狀可由一個或多個加工參數控制或預定，並可有利於磨粒進入研磨製品中的改進配置和研磨製品的性能。
[0282]在一個實施例中，平坦區域6902可具有橫向距離6921，所述橫向距離可限定為第一層6902的上表面6910與第一層的側表面6904之間的邊緣6907至第二層的側表面6905之間的最大距離。橫向距離6921的分析可通過本體6901的俯視圖圖像而促進，如圖69B所示。如所示，橫向距離6921可為平坦區域6902的最大距離。在一個實施例中，橫向距離6921可具有比第一層6902(即更大的層)的長度6910更小的長度。特別地，橫向距離6921可不大於本體6901的第一層6902的長度6910的約90%，如不大於所述長度6910的約80 %，不大於所述長度6910的約70 %，不大於所述長度6910的約60 %，不大於所述長度6910的約50%，不大於所述長度6910的約40%，不大於所述長度6910的約30%，或甚至不大於所述長度6910的約20%。而且，在一個非限制性的實施例中，橫向距離6921可具有本體6901的第一層6902的長度的至少約2%，至少約5%，至少約8%，至少約10%，至少約20%，至少約25%，至少約30%，或甚至至少約50%的長度。應了解,橫向距離6921可具有在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內的長度。
[0283]第二層6903可具有特定長度6909，所述長度6909為相對於第一層6902的長度6910的側面的最長尺寸(如圖69B所示)，其可有利於磨粒進入研磨製品中的改進配置和/或研磨製品的性能。例如，第二層6903的長度6909可不大於本體6901的第一層6902的長度6910的約90%，如不大於所述長度6910的約80%，不大於所述長度6910的約70%，不大於所述長度6910的約60%，不大於所述長度6910的約50%，不大於所述長度6910的約40 %，不大於所述長度6910的約30 %，或甚至不大於所述長度6910的約20 %。而且，在一個非限制性的實施例中，第二層6903可具有可為本體6901的第一層6902的長度6910的至少約2%，至少約10%，至少約20%，至少約30%，至少約40%，至少約50%，至少約60%，或甚至至少約70%的長度6909。應了解，相對於第一層6902的長度6910的第二層6903的長度6909可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內。
[0284]圖69A和69B的前述成形磨粒可使用多個材料片材、多個絲網和/或多個模製坯料而形成。例如，一個過程可包括使用由第一混合物完全或部分填充的第一絲網，提供可相對於所述第一絲網尺寸、形狀或取向不同的第二絲網，並提供在所述第二絲網的開口內的第二混合物。第二絲網可置於第一絲網之上或置於從第一絲網形成的前體成形磨粒之上。第二混合物可在第一混合物的前體成形磨粒上提供，以形成具有階梯狀和層狀構造的前體成形磨粒。特別地，第二絲網的開口可小於第一絲網的開口。應了解，第一絲網和第二絲網可具有但不必使用不同尺寸的開口、不同的開口二維形狀，以及它們的組合。
[0285]此外，在某些情況中，第一絲網和第二絲網可同時用作複合絲網以將混合物成形。在這種情況中，第一絲網和第二絲網可彼此附著，以有利於第一絲網和第二絲網的開口之間的適當和連續排列。第二絲網可在第一絲網上取向，以有利於第一絲網中的開口與第二絲網中的開口之間的排列，從而有利於混合物適當遞送至第一絲網和第二絲網的開口中。
[0286]而且，第一絲網和第二絲網可在分別的過程中使用。例如，其中第一混合物在第一時間在第一絲網中提供，第二混合物在第二時間在第二絲網中提供。更特別地，第一混合物可在第一絲網的開口中提供，並在第一混合物已在第一絲網的開口中成型之後，可在第一混合物上提供第二混合物。在第一混合物包含於第一絲網的第一開口中的同時，可進行這種過程。在另一情況中，可從第一絲網的開口中取出第一混合物，以產生第一混合物的前體成形磨粒。之後，第一混合物的前體成形磨粒可相對於第二絲網的開口取向，並可將第二混合物置於第二絲網的開口中和第一混合物的前體成形磨粒上，以有利於形成包含第一混合物和第二混合物的複合前體成形磨粒。可使用一個模具和一個絲網，從而使用相同過程。此夕卜，可使用第一和第二模具分別形成第一和第二層，從而完成相同過程。
[0287]應了解，本文的實施例的特性中的任意者可歸因於成形磨粒的批料。成形磨粒的批料可包括但不必須包括通過相同的成型過程製得的一組成形磨粒。在另一情況中，成形磨粒的批料可為研磨製品(如固定研磨製品，更特別地塗布研磨製品)的一組成形磨粒，所述一組成形磨粒可獨立於特定的成型方法，但具有存在於粒子的特定群中的一種或多種限定特徵。例如，粒子批料可包括一定量的適用於形成商業級研磨產品的成形磨粒，如至少約201bs.的粒子。
[0288]此外，本文的實施例的特徵中的任意者(例如縱橫比、多個部分、臂的數量、中點寬度相比於中心部分寬度，二維形狀、翹曲因子等)可為單個粒子的特性、來自批料的粒子的取樣的中值，或衍生自來自批料的粒子的取樣的分析的平均值。除非明確指出，否則本文對特性的指代可被認為是對中值的指代，所述中值基於衍生自批料的合適數量的粒子的無規取樣的統計有效值。特別地，對於本文的某些實施例，樣品尺寸可包括至少10個，更通常地至少40個從粒子批料中無規選擇的粒子。
[0289]本文的實施例中描述的特徵中的任意者可代表成形磨粒的批料的至少一部分中存在的特徵。所述部分可為批料中的粒子總數的較少部分(例如小於50%，和1%至49%之間的任意整數)、批料的粒子總數的較大部分(例如50%或更大，和50%至99%之間的任意整數)，或甚至批料的基本上全部粒子(例如99%至100%之間)。提供批料的任意成形磨粒的一個或多個特徵可有利於粒子在研磨製品中的可選擇的或改進的配置，並可進一步有利於研磨製品的改進性能或使用。
[0290]顆粒材料的批料可包括第一部分和第二部分，所述第一部分包括第一類型的成形磨粒，所述第二部分包括第二類型的成形磨粒。批料內的第一部分和第二部分的含量可至少部分基於某些加工參數而進行控制。提供具有第一部分和第二部分的批料可有利於粒子在研磨製品中的可選擇的或改進的配置，並可進一步有利於研磨製品的改進性能或使用。
[0291]第一部分可包括多個成形磨粒，其中第一部分的粒子中的每一個可具有基本上相同的特徵，包括例如但不限於相同的主表面的二維形狀。批料可包括多種含量的第一部分。例如，第一部分可以以較小量或較大量存在。在特定情況中，以批料內的部分的總含量計，第一部分可以以至少約1%，如至少約5%，至少約10%，至少約20%，至少約30%，至少約40%，至少約50%，至少約60%，或甚至至少約70%的量存在。而且，在另一實施例中，批料可包括批料內的全部部分的不大於約99 %，如不大於約90 %，不大於約80 %，不大於約70 %，不大於約60 %，不大於約50 %，不大於約40 %，不大於約30 %，不大於約20 %，不大於約10%，不大於約8%，不大於約6%或甚至不大於約4%。批料可包括在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內的第一部分的含量。
[0292]批料的第二部分可包括多個成形磨粒，其中第二部分的成形磨粒中的每一個可具有基本上相同的特徵，包括例如但不限於相同的主表面的二維形狀。第二部分可具有本文的實施例的一個或多個特徵，其相比於第一部分的多個成形磨粒可為不同的。在某些情況中，批料可包括相對於第一部分更少含量的第二部分，更特別地，批料可包括相對於批料中的粒子的總含量較小含量的第二部分。例如，批料可含有特定含量的第二部分，包括例如不大於約40%，如不大於約30%，不大於約20%，不大於約10%，不大於約8%，不大於約6%，或甚至不大於約4%。而且，在至少一個非限制性的實施例中，批料以批料內的部分的總含量計可含有至少約0.5%，如至少約1%，至少約2%，至少約3%，至少約4%，至少約10%，至少約15%，或甚至至少約20%的第二部分。應了解，批料可含有含量在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內的第二部分。
[0293]而且，在可選擇的實施例中，批料可包括相對於第一部分更大含量的第二部分，更特別地，批料可包括相對於批料中的粒子的總含量較大含量的第二部分。例如，在至少一個實施例中，批料以批料的全部部分計可含有至少約55%，如至少約60%的第二部分。
[0294]應了解，批料可包括其他部分，包括例如第三部分，所述第三部分包括具有第三特徵的多個成形磨粒，所述第三特徵可不同於第一和第二部分的粒子的特徵。批料可包括相對於第二部分和第一部分的多種含量的第三部分。第三部分可以以較小量或較大量存在。在特定情況中，第三部分可以以批料內的全部部分的不大於約40 %，不大於約30 %，不大於約20%,不大於約10%,不大於約8%,不大於約6%,或甚至不大於約4%的量存在。而且，在其他實施例中，批料可包括最小含量的第三部分，如至少約I %，如至少約5 %，至少約10 %，至少約20 %，至少約30 %，至少約40 %，或甚至至少約50 %。批料可包括含量在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的範圍內的第三部分。此外，批料可包括一定含量的稀釋無規成形磨粒，所述稀釋無規成形磨粒可以以與本文的實施例的部分中的任意者相同的量存在。
[0295]實例
[0296]實例I
[0297]獲得凝膠形式的混合物，所述混合物具有大約42%固體載荷的可作為Catapal B購自沙索公司(Sasol Corp.)的勃姆石以及含有較少含量的硝酸和有機添加劑的58wt%的水。凝膠具有大約3X103至4X104Pa.s的粘度和3X104至2X105Pa的儲能模量。
[0298]使用至多SOpsi (552kPa)的壓力將凝膠從衝模擠出至聚碳酸酯的模具坯料上並擠出至多個開口中，其中所述開口中的每一個為三叉星的形狀。模具坯料內的開口的表面已用菜籽油塗布。開口限定長度為大約5-7mm,寬度為3_5mm且深度為大約0.8mm的三叉星二維形狀。開口具有大約35度的頂端角和大約225度的三個臂之間的內角。
[0299]將凝膠擠出至開口中，然後在模具內在大氣條件下在空氣中乾燥凝膠大約24-48小時，以形成前體成形磨粒。前體成形磨粒在大約600°C下在箱式爐中煅燒I小時，然後前體成形磨粒在至多1320°C下在管式爐中燒結3至20分鐘。圖65A為實例I形成的代表性粒子的圖像。本體具有小於5的翹曲因子。
[0300]實例2
[0301]使用實例I的過程，不同的是模具坯料使用限定長度為大約7-9mm，寬度為7_9mm且深度為大約0.8mm的四叉星二維形狀的開口。開口具有大約25度的頂端角和大約250度的三個臂之間的內角。圖66A為實例2形成的代表性粒子的圖像。本體具有小於5的翹曲因子。
[0302]實例3
[0303]使用實例I的過程，不同的是模具坯料使用限定長度為大約5-6_，寬度為5-6_且深度為大約0.8mm的十字形二維形狀的開口。臂具有大約2mm的寬度和大約Imm的長度。圖67為實例3形成的代表性粒子的圖像。本體具有小於5的翹曲因子。
[0304]本申請表示了對現有技術的偏離。儘管工業已認識到成形磨粒可通過諸如模製和絲網印刷的過程而形成，本文的實施例的過程不同於這種過程。此外，所得成形磨粒具有不同於根據常規方法形成的粒子的特徵中的一者或組合。本文的實施例的成形磨粒可具有不同於其他常規粒子的特徵的特定組合，包括但不限於縱橫比、組成、添加劑、二維形狀、三維形狀、階梯狀構造、翹曲因子、頂端角、內角等。特別地，本文的實施例包括有利於形成具有特定特徵的成形磨粒的批料的特徵的組合。實際上，一個或多個這種特徵有利於粒子在研磨製品中的可選擇的配置，並進一步可在固定磨料(如粘結磨料或塗布磨料)的情況中有利於改進性能。
[0305]如上公開的主題被認為是說明性的而非限制性的，所附權利要求書旨在涵蓋落入本發明的真實範圍內的所有這種修改、增強和其他實施例。因此，在法律允許的最大程度內，本發明的範圍將由如下權利要求和它們的等同形式的最廣允許解釋確定，不應由如上【具體實施方式】限制或限定。
[0306]提供說明書摘要以符合專利法，在了解說明書摘要不用於解釋或限定權利要求的範圍或含義的情況下提交說明書摘要。另外，在如上【具體實施方式】中，為了簡化本公開，各個特徵可在單個實施例中組合在一起或進行描述。本公開不解釋為反映如下意圖:所要求保護的實施例需要除了在每個權利要求中明確記載之外的更多的特徵。相反，如如下權利要求所反映，本發明的主題可涉及比所公開的實施例中的任意者的全部特徵更少的特徵。因此，如下權利要求引入【具體實施方式】，每個權利要求本身分別限定所要求保護的主題。
【權利要求】
1.一種研磨晶粒，其包括: 包括長度(I)、高度(h)和寬度(W)的本體，其中IShS W，且其中所述本體包括為至少約1:1的由長度:高度的比例限定的主縱橫比；且其中所述本體包括為至少約50%的直立取向機率。
2.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述主縱橫比為至少約2: I。
3.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括為至少約1:1的由高度:寬度的比例限定的次縱橫比。
4.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括為至少約1:1的由長度:寬度的比例限定的第三縱橫比。
5.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括多晶材料。
6.根據權利要求5所述的研磨晶粒，其中所述多晶材料包括研磨晶粒。
7.根據權利要求6所述的研磨晶粒，其中所述研磨晶粒選自由氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、金剛石和它們的組合所組成的材料組。
8.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體為包含至少約2個不同類型的研磨晶粒的複合材料。
9.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括底表面，所述研磨晶粒以直立狀態設置於所述底表面上。
10.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括沿著限定本體長度的縱軸的扭轉。
11.根據權利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括沿著限定本體寬度的橫軸的扭轉。
12.根據權利要求1所述的研磨晶粒,其中所述本體包括沿著限定本體高度的垂直軸的扭轉。
13.—種研磨晶粒,其包括: 具有長度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端和上表面，其中所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
14.根據權利要求13所述的研磨晶粒，其中所述上表面為三角形、圓形、矩形和方形中的至少一者。
15.根據權利要求13所述的研磨晶粒，其中所述底表面為三角形、圓形、加號形、矩形和方形中的至少一者。
16.根據權利要求13所述的研磨晶粒，其中所述上表面相對於下表面旋轉，從而限定扭轉角。
17.—種研磨晶粒,其包括: 本體，所述本體具有中心部分；和 至少三個徑向臂，所述至少三個徑向臂沿著所述中心部分的整個長度從所述中心部分向外延伸，其中每個徑向臂包括箭頭形遠端。
18.—種成形磨粒,其包括: 具有長度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端部、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側表面，其中所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
19.根據權利要求18所述的成形磨粒，其中在所述底表面處的本體的橫截面形狀為底表面形狀，其中在所述上表面處的本體的橫截面形狀為上表面形狀，且其中所述底表面形狀包括選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的複雜形狀，以及它們的組合的形狀。
20.根據權利要求19所述的成形磨粒，其中所述上表面形狀選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的複雜形狀，以及它們的組合。
21.根據權利要求18所述的成形磨粒，其中所述本體包括三叉星，所述三叉星具有從所述本體的中心部分延伸的三個臂，其中所述臂中的至少一者包括小於中心部分寬度的中點寬度。
22.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述中點寬度不大於中心寬度的約90%。
23.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述本體包括頂端寬度，且其中所述頂端寬度不大於中點寬度的約90%。
24.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述底表面限定三叉星二維形狀，且其中所述上表面包括弓形三叉二維形狀。
25.根據權利要求24所述的成形磨粒，其中相比於上表面處的曲率半徑，從中心本體延伸的臂在底表面處具有更小的曲率半徑。
26.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述三叉星包括第一臂、第二臂和第三臂，其中所述第一臂限定小於約60度的第一臂角度。
27.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述第一臂、第二臂和第三臂限定小於約175度的總角度。
28.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述三叉星包括第一臂、第二臂和第三臂，其中所述本體還包括在所述第一臂與第二臂之間和在所述底表面與上表面之間延伸的第一側表面，且其中所述第一側表面包括弓形輪廓。
29.根據權利要求28所述的成形磨粒，其中所述第一側表面包括凹形輪廓。
30.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述第一側表面包括以內角結合在一起的第一部段和第二部段，其中所述內角限定大於約90度的角度。
31.根據權利要求30所述的成形磨粒，其中所述內角不大於約320度。
32.根據權利要求30所述的成形磨粒，其中所述第一部段延伸達到所述第一側表面的總長度的至少約20%。
33.根據權利要求30所述的成形磨粒，其中所述第二部段延伸達到所述第一側表面的總長度的至少約20%。
34.根據權利要求18所述的成形磨粒，其中所述側表面包括與限定所述底表面的邊緣的至少一部分相交的斷裂區域。
35.根據權利要求34所述的成形磨粒，其中所述斷裂區域具有大於所述本體的上表面的表面粗糙度的表面粗糙度。
36.根據權利要求34所述的成形磨粒，其中所述斷裂區域限定從所述底表面延伸的本體的一部分，且其中所述斷裂區域限定鋸齒狀邊緣。
37.根據權利要求34所述的成形磨粒，其中所述斷裂區域限定從所述底表面延伸的不規則形狀的突出部和凹槽。
38.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中至少一個臂包括扭轉。
39.根據權利要求21所述的成形磨粒，其中所述本體包括不大於約10的翹曲因子，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個頂端處的本體的最大高度(ht)相比於在內部的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。
40.根據權利要求39所述的成形磨粒，其中所述翹曲因子不大於約2。
41.根據權利要求18所述的成形磨粒，其中所述本體包括四叉星，所述四叉星包括從所述本體的中心部分延伸的四個臂，其中所述臂中的至少一者包括小於中心部分寬度的中點寬度。
42.根據權利要求41所述的成形磨粒，其中所述中點寬度不大於中心寬度的約90%。
43.根據權利要求41所述的成形磨粒，其中所述底表面限定四叉星二維形狀，且其中所述上表面包括弓形四叉二維形狀。
44.根據權利要求41所述的成形磨粒，其中所述四叉星包括第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，其中所述第一臂限定小於約60度的第一臂角度。
45.根據權利要求44所述的成形磨粒，其中所述第一臂、第二臂、第三臂和第四臂基本上均勻間隔開。
46.根據權利要求44所述的成形磨粒，其中所述本體還包括在所述第一臂與第二臂之間和在所述底表面與上表面之間延伸的第一側表面，且其中所述第一側表面包括弓形輪廓。
47.根據權利要求46所述的成形磨粒，其中所述第一側表面包括以第一內角結合在一起的第一部段和第二部段，其中所述第一內角限定大於約90度的角度。
48.根據權利要求47所述的成形磨粒，其中所述內角不大於約320度。
49.根據權利要求44所述的成形磨粒，其中所述四叉星包括第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，其中所述第一臂和第三臂從所述本體的中心部分在相對的方向上延伸，其中所述第二臂和第四臂相對於彼此在相對的方向上延伸，其中所述第二臂具有與所述第四臂基本上相同的長度，且其中所述第二臂包括顯著小於所述第一臂的長度的長度。
50.根據權利要求18所述的成形磨粒，所述本體包括十字形二維形狀，所述十字形二維形狀具有從所述本體的中心部分延伸的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，且其中所述第一臂包括與所述第一臂的中心部分寬度基本上相同的中點寬度。
51.根據權利要求50所述的成形磨粒，其中所述第一臂包括與所述第一臂的中點寬度基本上相同的頂端寬度。
52.根據權利要求50所述的成形磨粒，其中所述第一臂包括不大於所述第一臂的寬度的長度。
53.根據權利要求52所述的成形磨粒，其中所述第一臂的長度小於所述第一臂的寬度。
54.根據權利要求52所述的成形磨粒，其中所述長度不大於所述第一臂的寬度的約90%。
55.根據權利要求50所述的成形磨粒，其中所述第一臂包括圓形端部。
56.一種成形磨粒，其包括: 具有長度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括三叉星，所述三叉星具有限定第一臂的第一臂、限定第二臂的第二臂和限定第二臂的第三臂，且其中所述第一臂、第二臂和第三臂限定小於約180度的總角度；且 其中所述本體包括不大於約10的翹曲因子，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個頂端處的本體的最大高度(ht)相比於在內部的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。
57.—種成形磨粒,其包括: 具有長度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括四叉星，所述四叉星具有從中心部分延伸的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂；且 其中所述本體包括不大於約10的翹曲因子，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個頂端處的本體的最大高度(ht)相比於在內部的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。
58.根據權利要求56和57中任一項所述的成形磨粒，其中所述臂中的至少一者包括小於中心部分寬度的中點寬度。
59.根據權利要求58所述的成形磨粒，其中所述中點寬度不大於中心寬度的約90%。
60.根據權利要求58所述的成形磨粒，其中所述本體包括頂端寬度，且其中所述頂端寬度不大於中點寬度的約90%。
61.根據權利要求56和57中任一項所述的成形磨粒，其中相比於上表面處的曲率半徑，從中心本體延伸的臂在底表面處具有更小的曲率半徑。
62.根據權利要求56和57中任一項所述的成形磨粒，其中所述第一臂限定小於約60度的第一臂角度。
63.根據權利要求56和57中任一項所述的成形磨粒，其中所述臂限定小於約175度的總角度。
64.根據權利要求56和57中任一項所述的成形磨粒，其中所述本體還包括在所述第一臂與第二臂之間和在所述底表面與上表面之間延伸的第一側表面，且其中所述第一側表面包括弓形輪廓。
65.根據權利要求64所述的成形磨粒，其中所述第一側表面包括以內角結合在一起的第一部段和第二部段，其中所述內角限定大於約90度的角度。
66.根據權利要求56和57中任一項所述的成形磨粒，其中所述本體包括側表面，所述側表面具有與限定所述底表面的邊緣的至少一部分相交的斷裂區域。
67.一種成形磨粒，其包括: 具有長度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端部、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側表面，其中所述底表面包括十字形二維形狀，且所述上表面包括圓四邊形二維形狀。
68.一種成形磨粒，其包括: 本體，所述本體包括: 具有第一長度的第一層；和 上覆所述第一層的第二層，其中所述第二層具有在所述第一層的長度的約50%至約90%之間的範圍內的長度。
69.根據權利要求68所述的成形磨粒，其中所述第一層包括三角形二維形狀。
70.根據權利要求68所述的成形磨粒，其中所述第二層包括三角形二維形狀。
【文檔編號】B24D3/02GK104136172SQ201380011078
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2013年1月10日 優先權日:2012年1月10日
【發明者】D·O·耶內爾, J·H·澤雷賓斯奇, S·艾揚格, M·D·卡瓦諾, A·J·布蘭德斯, C·阿科納, R·鮑爾, Y·波桑特-洛克斯, T·H·潘薩瑞拉 申請人:聖戈本陶瓷及塑料股份有限公司