多層可熱成像元件的製作方法
2023-10-10 10:07:39 2
專利名稱：多層可熱成像元件的製作方法
技術領域：
本發明涉及平版印刷。更具體地說，本發明涉及一種可用作平印版前體、可熱成像並以含水鹼性顯影液衝洗加工的多層可熱成像元件。
可用作平印版的可成像元件，亦稱印版前體，通常包含施塗在親水基材表面上的可成像層。可成像層包括一種或多種輻射敏感成分，這些成分可分散在適當粘合劑中。替代地，輻射敏感成分也可以是粘合劑材料。
可作為平印版前體的可熱成像元件，由於省去對透過負片曝光的需要，因而在印刷工業中日益受到重視。經按圖像方式熱曝光以後，顯影液去除曝光區的速率大於去除未曝光區的速率，於是，曝光區被顯影液清除從而形成圖像。此種系統例如公開在Parsons，WO 97/39894和美國申請序列號08/981,620；Nagasaka，EP 0 823 327；Miyake，EP 0 909 627；West，WO 98/42507和美國申請序列號08/821,844和Nguyen，WO 99/11458和美國申請序列號08/922,190等文獻中。
儘管在製備平印版生產用熱敏感元件方面已取得許多進展，但此類元件在對紅外雷射成像裝置的靈敏度(或感光性)方面仍需進一步改善。
(a)親水基材；(b)吸收劑層；以及(c)面層；其中面層包含第一種聚合材料；該面層為油墨接受性的，且不溶於含水鹼性顯影液；面層與吸收劑層每一層都可在曝光後被含水鹼性顯影液去除；並且吸收劑層主要由光熱轉換材料或者光熱轉換材料的混合物和任選的表面活性劑或表面活性劑的混合物組成。
在本發明的一種實施方案中，在支持體與吸收劑層之間設有包含第二種聚合材料的底層。
在另一個方面，本發明是一種產生可用作平印版的圖像的方法。該方法包括使可熱成像元件成像，以及用含水鹼性顯影液將其顯影。在另一個方面，本發明是一種採用該印版和含水潤版液(fountainsolution)進行印刷的方法。發明詳述本發明是一種可熱成像元件。該元件包含親水基材、吸收劑層和面層。吸收劑層包含光熱轉換材料。該元件還包含介於基材與吸收劑層之間的底層。除非本文及其權利要求中另行規定，術語「第一種聚合材料」、「第二種聚合材料」、「光熱轉換材料」、「溶解抑制劑」以及類似術語一律也指該類材料的混合物。親水基材親水基材——即包含至少一個親水表面的基材——包含支持體，該支持體可以是任何傳統上用來製備用作平印版的可成像元件的材料。支持體優選結實、穩定和柔韌。它在使用條件下應保持尺寸不變，以便使諸彩色記錄套準成為一幅全色圖像。在典型情況下，它可以是任何自支撐材料，例如包括聚合物薄膜如聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、陶瓷、金屬或硬紙，或者這些材料的任意層合物。金屬支持體包括鋁、鋅、鈦及其合金。
鋁支持體的表面可採用本領域已知的技術進行處理，包括物理磨版、電化學磨版、化學磨版和陽極氧化。基材應厚到足以耐受印刷過程的磨損，又應薄到足以圍繞印版捲曲，一般介於約100～約600μm。
典型的基材包含介於鋁支持體與可成像層之間的中間層。中間層可通過用例如矽酸鹽、糊精、六氟矽酸、磷酸鹽/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)或聚乙烯基膦酸共聚物處理支持體而形成。吸收劑層吸收劑層能吸收輻射，優選約800nm～1200nm之間、可熱成像元件成像常用輻射範圍的輻射。吸收劑，有時亦稱「光熱轉換材料」，存在於該吸收劑層中。光熱轉換材料能吸收輻射並將其轉化為熱。光熱轉換材料可吸收紫外、可見和/或紅外輻射並將其轉化為熱。
光熱轉換材料可以是染料或顏料，例如squarylium、部花青、中氮茚、吡喃鎓或金屬diothiolene類等染料或顏料。吸收性顏料的例子是Projet 900、Projet 860和Projet 830(全部由Zeneca公司供應)。碳黑顏料也可使用。由於吸收帶很寬，基於碳黑的印版可用於具有寬峰值發射波長範圍的多重紅外成像裝置。
優選用染料，特別是可溶於含水鹼性顯影液的染料，以防止顯影液因不溶解物質造成的成渣現象。染料可選自，例如靛苯胺染料、氧雜菁染料、卟啉衍生物、蒽醌染料、部苯乙烯基染料、吡喃鎓化合物以及sqarylium衍生物。吸收性染料公開在許多本領域專利公開和專利申請中，例如，Nagasaka，EP 0,823,327；Van Damme，EP 9,908,397；DeBoer，美國專利4,973,572；Jandrue，美國專利5,244,771；和Chapman，美國專利5,401,618中。有用的吸收性染料的例子包括，ADS-830 WS和ADS-1064(二者皆可由American Dye Source(蒙特婁，加拿大)獲得)、EC2117(由FEW(Wolfen，德國)獲得)、Cyasorb IR99和Cyasorb IR 165(二者皆可由Glendale Protective Technology獲得)、Epolite IV-62B和Epolite III-178(二者皆可由Epoline獲得)、PINA-780(可由聯合信號公司獲得)、Spectra IR 830A和Spectra IR 840A(二者皆可由Spectra Colors獲得)。
吸收劑層主要由光熱轉換材料或光熱轉換材料的混合物，以及任選地，表面活性劑如聚乙氧基化二甲基聚矽氧烷共聚物，或表面活性劑的混合物組成。特別是，該吸收劑層基本上不合諸如用作第一種聚合材料和第二種聚合材料之類的粘合劑。可存在表面活性劑，用以促進光熱轉換材料在塗布溶劑中的分散。
吸收劑層的厚度通常應足以吸收成像輻射的至少90％，優選至少99％。正如本領域技術人員熟知的，吸收特定數量輻射所需要的吸收劑數量可由吸收劑層的厚度和吸收劑在成像波長處的消光係數按照Beers定律來確定。典型吸收劑層的塗布量為約0.02g/m2～約2g/m2，優選約0.05g/m2～約1.5g/m2。面層面層是油墨接受性的，起到保護一個或多個下面的層免遭顯影液侵蝕。成像前，它不溶於含水鹼性顯影液。然而熱曝光(即熱成像)後，面層的曝光(即成像)區則可被含水顯影液除掉。雖不限於任何理論或解釋，但可以認為，熱曝光使得面層更容易溶解或分散在含水顯影液中和/或削弱面層與吸收劑層之間的結合。這使得顯影液得以滲透通過面層、吸收劑層以及如果存在的底層，並除掉曝光區內的吸收劑層如果存在底層，從而顯露出底下的親水基材的親水表面。
面層包含第一種聚合材料。第一種聚合材料可不溶解於含水鹼性顯影液。當顯影液滲透過曝光區內的面層並溶解或分散這些區的一個或多個下面的層時，第一種聚合材料便被剝離並分散在顯影液中。有用的此類型聚合物包括丙烯酸類聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸類共聚物；聚酯、聚醯胺；聚脲；聚氨酯；硝基纖維素；環氧樹脂；和它們的組合。優選的此類型聚合物是聚甲基丙烯酸甲酯、硝基纖維素和聚苯乙烯。
面層可以是正性可光成像組合物。在此種情況下，在熱曝光後面層的曝光區將變得更容易溶解於含水鹼性顯影液中。
正性可光成像組合物是熟知的。它們在例如，《PhotoreactivePolymersthe Science and Technology of Resists(光反應性聚合物光刻膠的科學與技術)》，第五章(A.Reiser，Wiley，紐約，1989，pp.178～225)中做了探討。這類組合物包含第一種聚合材料，該材料是不溶於水但溶於鹼的粘合劑，以及含感光部分的材料。感光部分可鍵合在第一種聚合材料上和/或以單獨化合物形式存在。
優選的是包含酚羥基基團的聚合物，即，酚醛樹脂。優選該第一種聚合材料是光穩定、不溶於水、可溶於含水鹼性顯影液、具有多個在聚合物主鏈或者在側基上的酚羥基的成膜聚合材料。酚基給面層提供含水鹼性顯影液中的溶解性，還可以認為能與溶解抑制劑形成熱不穩定絡合物。線型酚醛樹脂、酚樹脂、含酚側基的丙烯酸類樹脂和聚乙烯基酚醛樹脂是優選的酚醛樹脂。線型酚醛樹脂則更為優選。
線型酚醛樹脂有市售供應並且是本領域技術人員熟知的。它們典型地利用酚類，例如苯酚、間甲酚、鄰甲酚和對甲酚等與醛類，如甲醛、多聚甲醛、乙醛等，或酮如丙酮，在酸催化劑存在下的縮合反應來製備。典型的重均分子量為約1,000～15,000。典型的線型酚醛樹脂包括，例如苯酚-甲醛樹脂、甲酚-甲醛樹脂、苯酚-甲酚-甲醛樹脂、對叔丁基苯酚-甲醛樹脂和連苯三酚-丙酮樹脂。尤其有用的線型酚醛樹脂是通過間甲酚、間甲酚與對甲酚的混合物或者苯酚，與甲醛採用傳統條件進行反應製備的。
其它可用作第一種聚合材料的酚醛樹脂包括具有酚羥基基團的聚乙烯基化合物。此類化合物包括，例如，聚羥基苯乙烯和包含羥基苯乙烯重複單元的共聚物，以及包含取代的羥基苯乙烯重複單元的聚合物和共聚物。第一種聚合材料也可以是具有磺醯胺側基的不溶於水但溶於鹼的聚合化合物，例如描述在Aoshima，美國專利5,141,838(EP330,239)中的那些。
典型的感光部分是鄰重氮萘醌部分。包含鄰重氮萘醌部分的化合物(即，醌-二疊氮化物(diazides))，優選所包含的鄰重氟萘醌部分連接著一使其穩定的部分的化合物，其中使其穩定的部分的分子量優選至少是1500但小於約5000。此類化合物的典型製備利用在4-或5-位具有滷代磺醯，典型的為磺醯氯基團的1，2-萘醌二疊氮化物，與諸如單-或多-羥基二苯酮的單-或多-羥苯基化合物之間的反應來實現。
聚合重氮萘醌化合物包括由包含重氮萘醌部分的反應性衍生物與包含諸如羥基或氨基基團的合適反應性基團的聚合材料之間的反應生成的衍生樹脂。適合製備這些衍生樹脂的聚合材料包括線型酚醛樹脂、可溶酚醛樹脂、聚乙烯基酚類、諸如羥基苯乙烯的含羥基單體的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯共聚物。代表性反應性衍生物包括重氮萘醌部分的磺酸、羧酸、酯或醯胺衍生物。酚醛樹脂用包含重氮萘醌部分的化合物實現衍生是本領域熟知的，例如公開在West，美國專利5,705,308和5,705,322中。
一方面，正性可熱成像面層包含第一種聚合材料和溶解抑制劑。此種體系公開在，例如Parsons，WO 97/39894；Nagasaka，EP 0 823327；Miyake，EP 0 909 627；West，WO 98/42507；和Nguyen，WO99/11458等文獻中。典型的第一種聚合材料是酚醛樹脂，例如線型酚醛樹脂。
溶解抑制劑可以認為能可逆地降低第一種聚合材料在含水鹼性顯影液中的溶解速率。一般地，此類化合物應具有至少是0.5，優選至少5的「抑制係數」。抑制係數可採用Shih等人在《大分子》，27，3330(1994)中描述的程序來測定。
溶解抑制劑可採用的極性基團包括，例如重氮基團；重氮鎓基團；酮基團；磺酸酯基團；磷酸酯基團；三芳基甲烷基團；鎓基團如鋶、碘鎓和磷鎓；雜環中引入氮原子的基團；以及包含帶正電的原子，尤其是帶正電氮原子，其典型為季氮原子的基團，即，銨基。包含其它極性基團，例如含醚、胺、偶氮、硝基、二茂鐵、亞碸、碸和二碸的化合物也可用作溶解抑制劑。具有縮醛或縮酮重複基團的單體或聚合縮醛、具有至少一個原羧酸酯或醯胺基團的單體或聚合原羧酸酯、烯醇醚、N-醯基亞氨基碳酸酯、環狀縮醛或縮酮、β-酮酯或β-酮醯胺，也可用作溶解抑制劑。
可用作溶解抑制劑的包含帶正電(即，季銨化)氮原子的化合物包括，例如，四烷基銨化合物、喹啉鎓化合物、苯並噻唑鎓化合物、吡啶鎓化合物和咪唑鎓化合物。
季銨化雜環化合物可用作溶解抑制劑。代表性咪唑鎓化合物包括Monazolin C、Monazoline O、Monazoline CY和Monazoline T，全部由Mona工業公司製造。代表性喹啉鎓溶解抑制劑包括1-乙基-2-甲基喹啉鎓碘化物、1-乙基-4-甲基喹啉鎓碘化物和包含喹啉鎓部分的花青染料如Quinoldine Blue。代表性苯並噻唑鎓化合物包括3-乙基-2-(3H)-亞苯並噻唑基)-2-甲基-1-(丙烯基)苯並噻唑鎓陽離子染料以及3-乙基-2-甲基苯並噻唑鎓碘化物。合適的吡啶鎓溶解抑制劑包括鯨蠟基吡啶鎓溴化物和乙基viologen二價陽離子。
重氮鹽可用作溶解抑制劑，例如包括取代和未取代的二苯基胺重氮鹽，例如甲氧基取代的二苯基胺重氮六氟硼酸鹽。這類化合物在非預熱版中特別有用。
一類優選的溶解抑制劑是三芳基甲烷染料，例如乙基紫、結晶紫、孔雀綠、鹼性亮綠、維多利亞藍B、維多利亞藍R和維多利亞藍BO。這些化合物也可當作反襯染料，用於在顯影的可成像元件中將未成像區與成像區區別開來。
溶解抑制劑可以是包含鄰重氮萘醌部分的化合物，例如下面所討論的那些。包含鄰重氮萘醌部分的衍生樹脂可起第一種聚合材料和溶解抑制劑的雙重作用。它們可單獨使用，或者它們可與其它聚合材料和/或溶解抑制劑組合使用。
當面層中存在溶解抑制劑時，其用量可在寬範圍內變化，但它至少為約0.1wt％，典型值約0.5wt％～約30wt％，優選約1wt％～15wt％，以該層的組合物總乾重為基準。
替代或附加地，第一種聚合材料本身可包含起到與聚合材料中存在的羥基基團氫鍵鍵合的受體部位作用的極性基團，並因此起到溶解抑制劑作用。採用熟知的方法，粘合劑的一部分羥基可通過衍生來引入極性基團，例如引入羧酸酯如苯甲酸酯；磷酸酯；醚如苯基醚；以及磺酸酯如甲基磺酸酯、苯基磺酸酯、對甲苯磺酸酯(甲苯磺酸酯)以及對溴苯磺酸酯。用包含重氮萘醌部分的化合物衍生的樹脂的例子是P3000，即一種連苯三酚/丙酮樹脂的萘醌二疊氮化物(由PCAS(法國)供應)。這些衍生聚合材料可起到第二種聚合材料和溶解抑制劑的雙重作用。它們可單獨用於面層中，或者它們可與其它聚合材料和/或溶解抑制劑組合使用。
替代地，面層可包含第一種聚合材料但不含起第一種聚合材料的溶解抑制劑作用的材料。在這種情況下，面層主要由第一種聚合材料構成。這些體系公開在Hauck，美國專利申請序列號09/638,556中，2000-08-14提交。這些體系在pH值至少是7～約11的鹼性溶液中顯影。優選的是，這些體系所採用的含水鹼性顯影液的pH值為約8～約10.5，更優選約9～10，進一步優選約10。pH值在等於或大於13範圍的顯影液則不能用於這些體系。
面層還可包含染料，用來幫助對曝光和/或顯影后元件的肉眼檢查。衝洗加工期間，曬出的顏色(染料)將曝光區與未曝光區區別開來。反襯染料將顯影版內未成像區與成像區區別開來。
基本上全部成像輻射都應被吸收劑層吸收。雖然面層可能吸收紫外和/或可見輻射，例如當用諸如乙基紫的染料作為溶解抑制劑時或者當在面層中加入染料以便於檢查時，但面層應基本上不含能吸收成像輻射的材料，其中典型的成像輻射為約800nm～約1200nm的紅外輻射，更典型的輻射位於約830nm或者位於約1056nm。特別是，面層應基本上不含光熱轉換材料。底層當存在時，底層位於親水基材的親水表面與吸收劑層之間。成像後，在成像區它隨同吸收劑層和面層一起被含水鹼性顯影液除掉，結果暴露出下面的基材親水表面。它優選可溶於含水鹼性顯影液，以防止顯影液成渣。優選的是，它可溶於完全水性的顯影液，即，不包括外加有機溶劑的顯影液。
底層包含第二種聚合材料。第二種聚合材料優選可溶於含水鹼性顯影液中。另外，第二種聚合材料應不溶於塗布面層用的溶劑，以便既能在底層上塗布面層又不使底層溶解。
可用作第二種聚合材料的聚合材料包括包含酸和/或酚官能團的那些以及此類材料的混合物。有用的聚合材料包括羧基官能丙烯酸類、乙酸乙烯酯/-巴豆酸酯/新癸酸乙烯酯共聚物、苯乙烯-馬來酐共聚物、酚醛樹脂、馬來酸化松香以及它們的組合。
耐溶劑的底層公開在Shimazu，WO 01/46318中。尤其有用的聚合材料是包含N-取代的馬來醯亞胺，特別是N-苯基馬來醯亞胺的共聚物；聚乙烯基縮醛；甲基丙烯醯胺類，尤其是甲基丙烯醯胺；以及丙烯酸和/或甲基丙烯酸，尤其是甲基丙烯酸。更優選的是，兩種官能團存在於該聚合材料中，最優選的是，所有這三種官能團都存在於該聚合材料中。優選的此類型聚合材料是N-苯基馬來醯亞胺、甲基丙烯醯胺和甲基丙烯酸的共聚物，更優選包含約25～約75mol％，優選約35～約60mol％N-苯基馬來醯亞胺；約10～約50mol％，優選約15～約40mol％甲基丙烯醯胺；以及約5～約30mol％，優選約10～約30mol％甲基丙烯酸的那些。其它親水單體，如甲基丙烯酸羥乙基酯，可用來替代甲基丙烯醯胺的一部分或全部。其它含水鹼性可溶單體，如丙烯酸，可用來替代甲基丙烯酸的一部分或全部。
這些聚合材料可溶於含水鹼性顯影液中。另外，它們還可溶於乳酸甲酯/甲醇/二氧戊環(15∶42.5∶42.5wt％)混合物中，該混合物可用作底層的塗布溶劑。然而，此類聚合材料在諸如丙酮、異丙醇、乙酸丁酯和丁醇這樣一些可用於在底層上塗布面層而不溶解底層的溶劑中的溶解性很小。這些聚合材料通常耐受80wt％雙丙酮醇/20wt％水的洗滌。
另一類優選用於第二種聚合材料的聚合材料是在其側鏈中包含具有脲鍵(即，脲側基)的單體的含水鹼性顯影液可溶共聚物，例如公開在Ishizuka，美國專利5,731,127中。這些共聚物包含約10～80wt％，優選約20～80wt％一種或多種由下列通式代表的單體CH2＝C(R)-CO2-X-NH-CO-NH-Y-Z其中R是-H或-CH3；X是二價連接基團；Y是取代或未取代的二價芳基；Z是-OH、-COOH或-SO2NH2。
R優選是CH3。X優選是取代或未取代的亞烷基、取代或未取代的亞苯基[C6H4]，或者取代或未取代的亞萘基[C10H6]；例如-(CH2)n-，其中n為2～8；1，2-、1，3-和1，4-亞苯基；以及1，4-、2，7-和1，8-亞萘基。更優選X是未取代的，進一步優選n是2或3；最優選X是-(CH2CH2)-。優選Y是取代或未取代的亞苯基或取代或未取代的亞萘基；例如1，2-、1，3-和1，4-亞苯基；以及1，4-、2，7-和1，8-亞萘基。更優選Y是未取代的，最優選未取代的1，4-亞苯基。Z是-OH、-COOH或-SO2NH2，優選-OH。優選的單體是CH2＝C(CH3)-CO2-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-Z其中Z是-OH、-COOH或-SO2NH2，優選-OH。
在共聚物的合成中，可使用一種或多種含脲基的單體。該共聚物還可包含20～90wt％其它可聚合單體，如馬來醯亞胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯醯胺和甲基丙烯醯胺。當共聚物除了丙烯醯胺和/或甲基丙烯醯胺以外，還包含超過60mol％但不足90mol％丙烯腈和/或甲基丙烯腈時，將提供卓越物理性能。更優選的是，該鹼性可溶共聚物包含30～70wt％含脲基單體；20～60wt％丙烯腈或甲基丙烯腈，優選丙烯腈；以及5～25wt％丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺，優選甲基丙烯醯胺。
上面所描述的聚合材料可溶於含水鹼性顯影液。另外，它們可溶於諸如乙二醇單甲醚之類可用作底層塗布溶劑的極性溶劑中。然而，它們很難溶解在諸如2-丁酮(甲基乙基甲酮)之類極性較小的溶劑中，後者可用作在底層上塗布面層而不溶解底層的溶劑。
這兩類聚合材料皆可採用諸如本領域技術人員熟知的自由基聚合方法來製備。側鏈中包含脲鍵的含水鹼性可溶共聚物的合成，例如公開在Ishizuka，美國專利5,731,127中。
其它含水鹼性顯影液可溶聚合材料也可用於底層中。包含N-取代的環狀醯亞胺部分的甲基乙烯基醚/馬來酐共聚物的衍生物，以及包含N-取代的環狀醯亞胺部分的苯乙烯/馬來酐共聚物的衍生物也可使用，只要它們具有所要求的溶解性特徵。這些共聚物的製備可利用馬來酐共聚物與諸如對氨基苯磺醯胺或對氨基苯酚之類的胺起反應，隨後在酸作用下環合來實現。
另一類可用於底層中的聚合材料包括包含約10～90mol％磺醯胺單體單元的含水鹼性顯影液可溶共聚物，尤其是包含-N-(對氨基磺醯苯基)甲基丙烯醯胺、N-(間氨基磺醯苯基)甲基丙烯醯胺、N-(鄰氨基磺醯苯基)甲基丙烯醯胺和/或對應的丙烯醯胺的那些。包含磺醯胺側基的有用鹼性顯影液可溶聚合材料、其製備方法及其製備所使用的單體，公開在Aoshima，美國專利5,141,838中。尤其有用的聚合材料包含(1)磺醯胺單體單元，尤其是N-(對氨基磺醯苯基)甲基丙烯醯胺；(2)丙烯腈和/或甲基丙烯腈；以及(3)甲基丙烯酸甲酯和/或丙烯酸甲酯。
鹼性顯影液可溶聚合材料的組合也可用於底層中，以改善耐化學侵蝕性，即，耐潤版液和侵蝕性洗滌。耐80wt％雙丙酮醇/20wt％水，即耐紫外洗滌能力的試驗的聚合材料，與耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水，即耐醇底層(sub)潤版液試驗的聚合材料的組合，令人驚奇的產生顯示對這兩種溶劑的混合物有良好耐受性的層。優選的是，第二種聚合材料在80wt％雙丙酮醇/20wt％水中的一分鐘浸泡損失小於約20％，更優選小於約10％，最優選小於約5％，並且該第二種聚合材料在80wt％丁氧基乙醇/20wt％水中的一分鐘浸泡損失小於約20％，更優選小於約10％，最優選小於約10％。一分鐘浸泡損失的測定方法是，在基材上按約1.5g/m2的典型塗布量塗布一層聚合材料，將塗布的基材在室溫下的適當溶劑中浸泡一分鐘，乾燥該塗布基材，然後測定基材上存在的聚合材料總重量的重量損失百分數。
底層耐潤版液和侵蝕性洗滌的能力可由下面規定的耐化學參數(CRP)來估計CRP＝[(100-a)(100-b)]/104其中a是在80wt％雙丙酮醇/20wt％水中的一分鐘浸泡損失百分數，b是在80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水中的一分鐘浸泡損失百分數。
耐化學參數應大於約0.4，優選大於約0.5，更優選大於約0.6。在有利的情況下，可獲得至少約0.65的耐化學參數。在每一種溶劑中的一分鐘浸泡損失應小於約60％，優選小於約40％，更優選小於約35％。優選的是，在一種溶劑中的一分鐘浸泡損失應小於約60％，優選小於約40％，更優選小於約35％，並且在另一種溶劑中的一分鐘浸泡損失應小於約40％，更優選小於約30％，更優選小於約20％，最優選小於約10％。
由(1)包含N-取代的馬來醯亞胺，尤其是N-苯基馬來醯亞胺；甲基丙烯醯胺類，尤其是甲基丙烯醯胺；和丙烯酸和/或甲基丙烯酸，尤其是甲基丙烯酸的共聚物，與(2)側鏈中包含脲的鹼性可溶共聚物或者與包含10～90mol％磺醯胺單體單元的鹼性可溶共聚物，尤其是包含N-(對氨基磺醯苯基)甲基丙烯醯胺、N-(間氨基磺醯苯基)甲基丙烯醯胺、N-(鄰氨基磺醯苯基)甲基丙烯醯胺和/或相應的丙烯醯胺的鹼性可溶共聚物的組合，是尤其有利的。一種或多種其它聚合材料如酚醛樹脂，也可存在於該組合中。優選的其它聚合材料，當存在時，是線型酚醛樹脂。
當使用聚合材料的組合時，底層通常包含約10％～約90wt％耐80wt％雙丙酮醇/20wt％水的聚合材料，和約10％～約90wt％耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水的聚合材料，以底層中這些聚合材料的總重量為基準。優選的是，底層包含約40％～約85wt％的耐80wt％雙丙酮醇/20wt％水的聚合材料，和約15％～約60wt％的耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水的聚合材料，以底層中第一種與第二種聚合材料的總重量為基準。這些聚合材料合在一起一般佔到底層的至少約50wt％，優選至少約60wt％，更優選至少與65wt％，以底層中材料的總重量為基準。最高約20wt％，優選約1～約20wt％其它聚合材料可存在於底層中，以底層中所有聚合材料的總量為基準。
底層可包含負性、鹼可溶感光組合物。此種組合物通常被稱之為「光堅膜組合物」或「光致不溶組合物」，因為一經輻照它們將變得不溶於顯影液。典型的此類組合物包含在暴露於光化輻射，典型的光化輻射為紫外光時，將發生光交聯、光二聚和/或光聚合的材料。光堅膜組合物產生高耐印力和耐印刷車間化學品的印版。負性體系例如在《Photoreactive Polymersthe Science and Technology ofResists(光反應性聚合物光刻膠的科學與技術)》，第2章(A.Reiser，Wiley，紐約，1989)，pp.22～64中做了討論。
底層可包含負性含重氮鎓組合物。典型的含重氮鎓化合物是重氮鎓縮聚產物。重氮鎓縮聚產物乃是本領域技術人員熟知的。它們可以例如通過如Toyama在美國專利4,687,727中所述，使重氮單體與縮合劑如甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、異丁醛或苯甲醛之間的縮合來製備。另外，混合的縮合產物也可使用，其中除了重氮鹽單元之外，還包含由可縮合化合物，特別是由芳族胺、酚類、酚醚類、芳族硫醚、芳烴、芳族雜環或有機酸醯胺衍生的其它非感光單元。尤其有利的重氮鎓縮聚產物的例子是二苯基胺-4-重氮鹽，任選地在帶有重氮基團的苯基基團中具有甲氧基基團，與甲醛或4，4』-雙-甲氧基甲基聯苯醚的反應產物。芳族磺酸根如4-甲苯基-磺酸根或1，3，5-三甲基苯磺酸根，四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟銻酸根和六氟砷酸根，特別適合作為這些重氮樹脂的陰離子。重氮縮聚產物在感光混合物中優選以3～60wt％的數量存在。
已知有許多粘合劑(第二種聚合材料)。此類體系之一描述在Baumann，美國專利5,700,619中。該粘合劑是一種縮醛化的聚乙烯醇，帶有羧基側基。
底層可包含可光聚合組合物。優選的感光組合物是這樣的可光聚合組合物，其包含一種或多種單體、一種或多種粘合劑(第二種聚合材料)以及一種或多種光引發劑體系。此種體系是本領域熟知的，例如參見「PhotopolymersRadiation Curable Imaging Systems(光聚合物輻射固化成像體系)」，B.M.Monroe，《Radiation CuringScienceand Technology(輻射固化科學與技術)》S.Pappas主編，Plenum，紐約，1992，pp.399～440。
可光聚合組合物包含至少一種能發生自由基引發聚合的通常被稱之為單體的至少一種烯鍵不飽和化合物。此類單體通常為多官能的，即，它們包含一個以上烯鍵不飽和、可自由基聚合的基團。典型的多官能單體是醇的不飽和酯，優選的是多元醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。低聚物和/或預聚物，例如氨酯-丙烯酸酯和-甲基丙烯酸酯、環氧化物-丙烯酸酯和-甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或者不飽和聚酯樹脂，也可使用。許多其它可自由基引發聚合併可用於可光聚合組合物中的不飽和單體都是本領域技術人員已知的。
該組合物包含至少一種預先形成的大分子聚合材料，通常被稱之為粘合劑(第二種聚合材料)。一般而言，粘合劑應在塗布溶劑中可溶脹或，優選地可溶解，並且與可光聚合體系的其它組分相容。代表性粘合劑或第二種聚合材料，是聚(甲基丙烯酸甲酯)和甲基丙烯酸甲酯與其它丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸和/或丙烯酸的共聚物。許多其它可用於可光聚合組合物中的粘合劑是本領域技術人員已知的。
當成像並顯影后採用紫外或可見輻射照射使該材料固化時，可存在一種可由紫外或可見輻射激活的自由基生成、引發體系，亦稱光引發體系，用以促使可聚合單體的聚合。光引發劑體系吸收光譜的紫外和/或可見光區域，即，300～800nm範圍，優選紫外區域，即，300nm～400nm。
光引發體系可以是單一化合物或者是化合物的混合物。合適的光引發體系公開在「自由基引發光成像體系用引發劑」，作者B.M.Monroe和G.C.Weed，《Chem.Rev.(化學評論)》，93，435～448(1993)；以及「自由基聚合」，作者K.K.Dietliker，《Chemistry and Technologyof UV and EB Formulation for Coatings，Inks and Paints(塗料、油墨及油漆紫外和電子束製劑的化學與工藝)》，P.K.T.Oldring主編，SITA技術公司，倫敦，1991，卷3，pp.59～525。典型的自由基光引發化合物包括米蚩酮/二苯酮；二苯酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮(DAROCUR 1173)；2，4，6-三甲基苯甲醯-二苯基膦氧化物(LUCERINTPO)；2-異丙基噻噸酮；2-氯噻噸酮；2，2-二甲氧基-2-苯基乙醯苯(IGACURE651、LUCERINBDK)；2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙酮-1(IRGACURE907)；1-羥基-環己基苯基甲酮(HCPK，IRGACURE184)；雙(2，6-二甲氧基苯甲醯)-2，4，4-三甲基-戊基膦氧化物；以及它們的組合。
包含重氮縮聚產物與可自由基聚合體系的組合的混雜體系可能有利於某些領域的應用。此種混雜體系的組合物優選包含1～50％重氮縮聚產物、0.5～20％光引發劑以及5～80％可自由基聚合組分。
典型的可光交聯體系包含至少一種粘合劑和可光活化的至少雙官能交聯劑，後者在輻照後使粘合劑發生交聯。有機疊氮化物，據信輻照後可生成氮賓的那些，已被用來交聯粘合劑。二疊氮基化合物，如4，4』-二疊氮基茋的二磺化衍生物是優選的光交聯用氮化物。
可光二聚的體系包含輻照時形成交聯的粘合劑。可光交聯粘合劑包括，例如以肉桂酸酯基團官能化的聚乙烯醇，例如描述在Minsk的美國專利2,690,966和2,725,372，或者以N-烷基苯乙烯基吡啶鎓或N-烷基苯乙烯基喹啉鎓基團官能化的聚乙烯醇，例如描述在Ichimura的美國專利4,272,620、4,287,335、4,339,524、4,564,580和4,777,114中。其它可光交聯體系描述在例如Osada的美國專利3,804,628和Aoshima的美國專利5,240,808中。
傳統添加劑，例如染料、顏料、增塑劑、增感劑、穩定劑、表面活性劑、塗布助劑以及諸如能產生曬出圖像的隱色染料等組分，均可包括在該負性、可鹼性顯影組合物中。
雖然在底層中使用負性感光組合物，但該體系是正性。成像和顯影除掉的是成像區而不是未成像區內的面層、吸收劑層和底層。然而，即便該體系是正性的，但它仍然可以在通常用於傳統負性印版前體的顯影液中進行顯影。若印版前體包含可光聚合組合物，則熱成像並顯影之後，它優選地用紫外輻射進行整體或表層曝光，以便使圖像不溶解或「硬化」。若印版包含酚醛樹脂和光致酸生成劑(photoacidgenerator)，則熱成像並顯影后它優選用紫外輻射進行整體或表層曝光，然後加熱或烘烤以便使圖像不溶化或「硬化」。可熱成像元件的製備該可熱成像元件可這樣製備採用傳統塗布和/或層合方法在親水基材的親水表面上順序地施塗底層(若存在的話)，在底層或者在親水基材的親水表面(若不存在底層的話)上施塗吸收劑層，然後在吸收層上施塗面層。然而，重要的是在此過程中應避免層與層之間互混。特別重要的是，面層應基本不含光熱轉換材料。
如果存在，底層可通過任何傳統方法施塗在親水基材上。通常將成分分散或溶解在適當塗布溶劑中，然後所獲得的混合物採用諸如旋塗、刮塗、凹版印刷或輥塗進行塗布。吸收劑層可以塗布在底層，通常在底層表面上，或者在親水基材上(若不存在底層的話)，通常在親水基材的親水表面上，可採用任何傳統方法，例如上面列舉的那些。術語「溶劑」包括溶劑的混合物，尤其是有機溶劑的混合物。
各層塗布所用溶劑的選擇取決於第一種聚合材料、光熱轉換材料和存在的話，第二種聚合材料，以及相應層中存在的(存在的話)其它成分的本性。為防止在底層上塗布吸收劑層時底層被溶解或與吸收劑層混合，吸收劑層應由基本上不溶解第二種聚合材料的溶劑中塗布。因此，吸收劑層的塗布溶劑應當是一種在其中光轉化材料能充分溶解從而可形成吸收劑層，並且在其中第二種聚合材料和底層中存在的任何其它組分，基本上不溶解的溶劑。若光熱轉換材料是顏料，則它應當被分散在基本上不溶解第二種聚合材料和底層中存在的任何其它組分的溶劑中。
為防止在底層上塗布吸收劑層時吸收劑層被溶解和與面層混合，面層應由基本上不溶解光熱轉換材料的溶劑中塗布。儘管所用溶劑取決於聚合材料的性質，但該第二種聚合材料通常可溶於極性較大的溶劑中，而不溶於極性較小的溶劑中，因此塗布底層使用的溶劑比塗布面層使用的溶劑極性更大。
面層可以水分散體形式塗布，以避免塗布過程中溶解吸收劑層。替代地，底層、面層或者這兩層可採用傳統擠出塗布方法由層的諸組分的熔融混合物施塗而成。這樣的熔融混合物通常不含揮發性有機溶劑。如果光熱轉換材料是可升華染料，則吸收劑層可通過光熱轉換材料向底層表面(若存在的話)或者親水基材的親水表面(若底層不存在的話)的升華來沉積。成像和衝洗加工可熱成像元件的成像可採用熟知的方法進行。該元件可採用發射吸收劑層吸收的波長範圍內調製的近紅外或紅外輻射的雷射器或雷射器陣列達到成像。紅外輻射，特別是約800nm～約1200nm範圍的紅外輻射是可熱成像元件成像使用的典型射線。成像可方便地採用發射約830nm或約1056nm射線的雷射器。合適的市售成像裝置包括圖像定影器(setters)如Creo Trendsetter(CREO，British Columbia，加拿大)和Gerber Crescent 42T(Gerber)。
替代地，可熱成像元件可採用裝有熱印片頭的傳統設備來成像。適於配合可熱成像元件使用的成像設備包括至少一個熱頭，然而通常包括熱頭陣列，例如熱傳真機中使用的TDK型號LV5416和升華印片機或者GS618-400熱繪圖機(Oyo Instruments，休斯頓，TX，USA)。
成像產生成像(的)元件，其中含有由圖像(未曝光)區和非圖像(曝光)區組成的潛影。成像元件形成印版或印刷版的顯影過程，通過去除非圖像(曝光)區從而揭示下面的基材親水表面將潛影轉變為圖像。
顯影液可以是任何能夠滲透並除掉面層曝光區、其下面的吸收劑層區以及，存在的話，下面的底層區，同時基本不影響互補的未曝光區的液體或溶液。雖不局限於任何理論或解釋，但是可以認為，圖像分辨過程基於動力學效應。面層的曝光區在顯影液中被去除得比其未曝光區快。顯影進行的時間長到足以去除面層曝光區、其下面的吸收劑層區以及，如果存在的話，下面的底層區，然而又不足以長到除掉面層的未曝光區。因此，曝光區被說成是在顯影液中「可溶」或「可去除」的，因為它們在顯影液中被去除和溶解和/或分散得比未曝光區快。底層如果存在的話，通常溶解在顯影液中，吸收劑層或者溶解或者分散在顯影液中，而面層則分散到顯影液中。
在面層包含溶解抑制劑的情況下，有用的顯影液是pH值等於或大於約7的水溶液。優選的含水鹼性顯影液是pH值為約8～約13.5，通常至少約11，優選至少約12的那些。完全水性顯影液，即，不含外加有機溶劑的那些是優選的。有用的顯影液包括市售的顯影液，例如PC3000、PC955和PC9000，它們每一種皆為Kodak PolychromeGraphics LLC供應的含水鹼性顯影液。顯影液例如描述在Yamasue的美國專利4,259,434；Seino的美國專利4,452,880；Miller的美國專利5,851,735；Eckler的美國專利5,998,102；Miro的EB-A-0 732628；Toyama的GB-A-2,276,729(DE-A-4 411 176)；以及Fiebag的美國專利6,143,479等文獻中。
顯影一般在配備浸泡型顯影浴、水漂洗段、塗膠段、乾燥段和電導率測量單元的洗片機中進行。顯影液通常通過用含有顯影液的塗布器刮擦或刮抹該元件而施塗到成像的前體上。替代地，成像的前體可刷塗上顯影液，或者顯影液可通過以足以除掉曝光區的力量噴淋該元件而施塗到前體上。在二者中任何一種情況下，都將產生印版。顯影可在諸如Mercury Processor(Kodak Polychrome Graphics)的市售洗片機中進行。
顯影之後，印版用水漂洗並乾燥。乾燥可採用紅外輻射器或用熱空氣方便地完成。乾燥後，印版可用塗膠溶液處理。塗膠溶液包含一種或多種水溶性聚合物，例如聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯醯胺、聚甲基丙烯酸羥乙基酯、聚乙烯基甲基醚、明膠以及多糖如葡聚糖、支鏈澱粉、纖維素、阿拉伯樹膠和海藻酸。優選的材料是阿拉伯樹膠。
顯影並塗膠後的印版還可進行烘烤以延長版的使用壽命。烘烤例如可在約220℃～約240℃下進行約7～10min，或者在120℃下進行30min。
如果底層包含負性、鹼可溶感光組合物，則顯影的元件可暴露於光化輻射以便使組合物硬化。任何方便的光化輻射源，只要能提供覆蓋該感光組合物吸收帶光譜區間的波長，均可用來激活光反應。所謂「光化輻射」是指任何能在底層中誘導光反應，或者硬化底層的輻射。傳統光源包括螢光燈、汞燈、金屬添加劑燈和弧光燈。相干光源是雷射器，例如氙、氬離子和電離的氖雷射器，以及可調染料雷射器和倍頻釹(雷射器)YAG(釔鋁石榴石)雷射器。該曝光優選是整體的或墊層曝光。
一旦可成像元件經過成像和顯影，便可通過先施塗潤版液，然後在其表面的圖像上施塗膠印油墨來進行印刷。潤版液被成像(曝光)區，即因成像和顯影處理而暴露出來的親水基材的表面吸留，而油墨則被未成像(未曝光區)吸留。隨後，油墨直接，或通過膠印墊層間接地轉移到適當接受材料上(例如布、紙、金屬、玻璃或塑料)，從而在其上提供所要求的圖像印張。在印張與印張之間的間隙，需要的話，成像元件可採用傳統清洗手段進行清洗。
具體實施例方式
本發明的卓越性能可通過下列實施例看出，給出它們僅為說明而不是限制本發明。在本說明書，實施例和權利要求中，除非另外指出，所有百分數均指重量百分數，以顯影液重量為基準。
Haas，費城，PA)Trump IR Dye 紅外吸收染料(λmax＝830nm)(EastmanKodak，Rochester，NY，USA)Witco Bond W-240 聚氨酯樹脂(Crompton公司，芝加哥，IL，USA) 實例1按如下程序製備平印版底層通過將10.81g共聚物A溶解在94.32g乳酸甲酯、75.46g二乙基甲酮和18.86g水中製成一種溶液。向該溶液中加入0.34g乙基紫和0.21g的10％BYK307在丙二醇甲基醚中的溶液。溶液攪拌至各成分完全溶解。然後，該溶液利用繞線刮塗器塗布在基材上。該基材是鋁板基材，0.3標準號，預先經過電磨版，陽極氧化並以聚乙烯基膦酸溶液處理過。塗布的基材在90℃下乾燥120s，從而提供1.732g/m2的底層。
吸收劑層通過將1.66g ADS-830 WS IR染料和0.009g BYK307溶解在43.49g水和4.83g甲醇中製成一種溶液。溶液攪拌至各成分完全溶解。然後，製成的溶液利用繞線刮塗器塗布在底層上，在90℃下乾燥120s，從而提供0.728g/m2的吸收劑層。
面層通過將16.67g聚(甲基丙烯酸甲酯)溶解在83.33g甲苯中製成一種溶液。製成的分散體被旋塗在吸收劑層上，並在90℃下乾燥120s，從而提供0.807g/m2的面層。
該印版前體採用一種試驗圖案在Creo Trendsetter熱曝光裝置上進行雷射成像，所述裝置具有發射830nm雷射的雷射二極體陣列，其輸出為100mJ～300mJ，成像能量密度120mJ。在以顯影液956負性顯影液(來自Kodak Polychrome Graphics)進行手工(25℃，30s)鹼顯影之後，所有層的曝光區均被去除，而各層的未曝光區則不受影響。複製出成像試驗圖案的精確拷貝。實例2重複實例1的過程，不同的是吸收劑層是0.3g/m2Trump IR Dye。按實例1進行成像和顯影后，複製出成像試驗圖案的精確拷貝。實例3重複實例2的過程，不同的是吸收劑層是0.03g/m2Trump IRDye。按實例1進行成像和顯影后，複製出成像試驗圖案的精確拷貝。對比例1重複實例2的過程，不同的是吸收劑層和底層換成單一一層85％共聚物A和25％Trump IR Dye，塗布量2.0g/m2(Trump IR Dye塗布量0.3g/m2)。按實例1進行成像和顯影后，複製出成像試驗圖案的精確拷貝。實例4按如下程序製備平印版吸收劑層通過將1.66g的ADS-830 WS IR Dye和0.009g BYK307溶解在43.49g水和4.83g甲醇中製成一種溶液。溶液攪拌至各成分完全溶解。然後，製成的溶液被旋塗到底層上，在90℃下乾燥120s，從而提供0.428g/m2的吸收劑層。該底層是傳統Vistar-360負性版層(Kodak Polychrme Graphics)。
面層通過將16.67g聚(甲基丙烯酸甲酯)溶解在88.33g甲苯中製成一種溶液。製成的分散體被旋塗在吸收劑層上，並在90℃下乾燥120s，從而提供0.807g/m2的面層。
該印版前體按照實例1中所述成像並顯影。所有層的曝光區均被去除，而各層的未曝光區則不受影響。複製出成像試驗圖案的精確拷貝。實例5按如下程序製備平印版
底層底層按照實例1製備。
吸收劑層通過將12.50g碳黑(在39.6％甲苯中)分散到87.49g甲苯與0.002g BYK 307中製成一種溶液。製成的分散體被旋塗在底層上，並在90℃乾燥120s，從而提供0.23g/m2的吸收劑層。
面層通過將2.714g的Witco Bond W-240溶解在91.05g水和2.87g丁氧基乙醇中製成一種溶液。在該溶液中加入0.482g的Cymel-303、0.676g的Nacure 2530和0.28g的TRITONX 100，然後攪拌至所有成分溶解。製成的分散體被旋塗在吸收劑層上，並在90℃乾燥120秒，從而提供0.2g/m2的面層。該面層隨後通過所獲得的版在150℃加熱10min而達到固化。
該元件按照實例1那樣曝光和顯影。所有層的曝光區均被除掉，而這些層的未曝光區則不受影響。複製出成像試驗圖案的精確拷貝。實例6吸收劑層通過將2.4g Trump IR Dye溶解在28.5g二乙基甲酮和19.1g甲醇中製成一種溶液。該溶液攪拌至染料溶解。獲得的溶液旋塗在實施例1所描述的基材上以及在僅僅經過清洗的0.3標準號鋁板基材上。該層在90℃乾燥120s，從而提供1.4g/m2的吸收劑層。
面層面層的製備和施塗按照實例1所述。
獲得的每一塊印版前體採用一種試驗圖案在Creo Trendsetter中進行雷射成像，成像能量密度分別為198mJ、254mJ和304mJ。
在以顯影液956負性顯影液(得自Kodak Polychrome Graphics)進行手工(25℃，30s)鹼顯影之後，然後用水漂洗，每塊印版前體的所有層的曝光區均被去除，而各層的未曝光區則不受影響。這兩決印版前體以及在所有成像能量密度下，均複製出載有成像試驗圖案的精確拷貝的印版。
所獲得的各印版在水存在下手工上墨。油墨僅駐留在圖像區，留出沒有油墨的基材。實例7吸收劑層吸收劑層按照實例5中所述製備。將其塗布在兩塊基材，即實例1的基材和一塊僅經過清潔的0.3標準號鋁板基材上。
面層按照實例6中所述，在每一塊基材/吸收劑層元件上製備並施塗面層。
獲得的每一塊印版前體採用試驗圖案在Creo Trendsetter中進行雷射成像，成像能量密度分別為290mJ、240mJ和190mJ。塗布在實例1基材(陽極氧化並塗布聚乙烯基膦酸的鋁)上的前體用以水稀釋到50％的二合一負性顯影液進行顯影。塗布在未塗布鋁板上的前體用以水稀釋到75％的二合一負性顯影液進行顯影。顯影后用水漂洗，從而除掉每塊印版前體的曝光區，而各層的未曝光區則不受影響。這兩塊印版前體以及在所有成像能量密度下，均複製出載有成像試驗圖案的精確拷貝的印版。
獲得的各印版在水存在下手工上墨。油墨僅駐留在圖像區，留出沒有油墨的基材。實例8本實例描述共聚物A的製備。乙二醇一甲醚(800mL)加入到1L備有攪拌器、溫度計、氮氣進口和回流冷凝器的圓底燒瓶中。甲基丙烯酸(36.12g)、N-苯基馬來醯亞胺(165.4g)和甲基丙烯醯胺(62.5g)在攪拌下加入並溶解。加入2，2-偶氮二異丁腈(AIBN)(3.4g)，然後反應混合物在60℃攪拌、加熱22h。隨後，加入甲醇，沉澱出來的共聚物經過濾、用甲醇洗滌兩遍，在40℃的烘箱內乾燥2日。
倘若聚合在1，3-二氧戊環中進行，則某些情況下則可避免再沉澱。反應期間，這些單體可溶於1，3-二氧戊環，但聚合材料則不溶，因此沉澱出來。
在描述了本發明之後，下面提出我們的權利要求及其等價物。
權利要求
1.一種可熱成像元件，包含(a)親水基材；(b)吸收劑層；以及(c)面層；其中面層包含第一種聚合材料；該面層為油墨接受性的，且不溶於含水鹼性顯影液；面層與吸收劑層每一層都可在熱曝光後被含水鹼性顯影液去除；並且吸收劑層基本由光熱轉換材料或者光熱轉換材料的混合物和任選的表面活性劑或表面活性劑的混合物組成。
2.權利要求1的元件，其中吸收劑層的塗布量為約0.02g/m2～約2g/m2。
3.權利要求1的元件，其中光熱轉換材料是染料。
4.權利要求1的元件，其中光熱轉換材料是顏料。
5.權利要求1的元件，其中第一種聚合材料選自丙烯酸類聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸類共聚物；聚酯；聚醯胺；聚脲；聚氨酯；硝基纖維素；環氧樹脂；和它們的組合。
6.權利要求1的元件，其中第一種聚合材料是酚醛樹脂或具有磺醯胺側基的不溶於水但溶於鹼的聚合化合物。
7.權利要求6的元件，其中第一種聚合材料是線型酚醛樹脂。
8.權利要求7的元件，其中面層包含一種含有鄰二重氮萘醌部分的化合物。
9.權利要求7的元件，其中面層包含溶解抑制劑。
10.權利要求9的元件，其中溶解抑制劑是三芳基甲烷染料。
11.權利要求7的元件，其中面層基本由線型酚醛樹脂組成。
12.權利要求7的元件，其中吸收劑層的塗布量為約0.02g/m2～約2g/m2。
13.權利要求7的可熱成像元件，另外還包含在親水基材與吸收劑層之間的底層，該底層包含可溶解或可分散在含水鹼性顯影液中的第二種聚合材料。
14.權利要求1的可熱成像元件，另外還包含在親水基材與吸收劑層之間的底層，該底層包含可溶解或可分散在含水鹼性顯影液中的第二種聚合材料。
15.權利要求14的元件，其中底層的耐化學性參數大於約0.5。
16.權利要求15的元件，其中第二種聚合材料包含約35～約60mol％N-苯基馬來醯亞胺；約15～約40mol％甲基丙烯醯胺；以及約10～約30mol％甲基丙烯酸。
17.權利要求15的元件，其中第二種聚合材料包含丙烯腈或甲基丙烯腈；甲基丙烯酸甲酯或丙烯酸甲酯；以及約10～90mol％磺醯胺單體單元。
18.權利要求14的元件，其中底層包含可光聚合組合物。
19.一種形成圖像的方法，該方法包括下列步驟使可熱成像元件進行熱曝光，從而在元件中形成曝光區和未曝光區；用含水鹼性顯影液除去曝光區，從而形成圖像；其中可熱成像元件包含(a)親水基材；(b)吸收劑層；以及(c)面層；其中面層包含第一種聚合材料；該面層為油墨接受性的，且不溶於含水鹼性顯影液；面層與吸收劑層每一層都可在熱曝光後被含水鹼性顯影液去除；吸收劑層基本由光熱轉換材料或者光熱轉換材料的混合物和任選的表面活性劑或表面活性劑的混合物組成；並且含水鹼性顯影液的pH值至少是7～約11。
20.權利要求19的方法，其中曝光步驟採用800nm～1200nm範圍的輻射進行。
21.權利要求20的方法，其中吸收劑層的塗布量為約0.02g/m2～約2g/m2。
22.權利要求21的方法，其中第一種聚合材料選自丙烯酸類聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸類共聚物；聚酯；聚醯胺；聚脲；聚氨酯；硝基纖維素；環氧樹脂；和它們的組合。
23.權利要求21的方法，其中第一種聚合材料是酚醛樹脂或具有磺醯胺側基的不溶於水但溶於鹼的聚合化合物。
24.權利要求23的方法，其中第一種聚合材料是線型酚醛樹脂。
25.權利要求24的方法，其中面層包含一種含有鄰二重氮萘醌部分的化合物。
26.權利要求24的方法，其中面層包含溶解抑制劑。
27.權利要求24的方法，其中面層基本由線型酚醛樹脂組成。
28.權利要求20的方法，其中可熱成像元件另外包含在親水基材與吸收劑層之間的底層，該底層包含可溶或可分散在含水鹼性顯影液中的第二種聚合材料。
29.權利要求28的方法，其中底層的耐化學參數大於約0.5。
30.權利要求29的方法，其中第二種聚合材料選自(i)聚合材料，含有約35～約60mol％N-苯基馬來醯亞胺、約15～約40mol％甲基丙烯醯胺以及約10～約30mol％甲基丙烯酸，以及(ii)聚合材料，含有丙烯腈或甲基丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯或丙烯酸甲酯以及約10～90mol％磺醯胺單體單元。
31.權利要求22的方法，其中底層包含可光聚合組合物。
32.一種印刷方法，該方法包括下列步驟形成印版，包括使印版前體進行熱曝光，從而在前體中形成曝光區和未曝光區；將含水鹼性顯影液施加在該印版前體上並形成印版，由此除掉曝光區，從而露出下面的基材；其中可熱成像元件包含(a)親水基材；(b)吸收劑層；以及(c)面層；其中面層包含第一種聚合材料；該面層為油墨接受性的，且不溶於含水鹼性顯影液；面層與吸收劑層每一層都可在熱曝光後被含水鹼性顯影液去除；吸收劑層基本由光熱轉換材料或者光熱轉換材料的混合物和任選的表面活性劑或表面活性劑的混合物組成；並且含水鹼性顯影液的pH值至少是7～約11，以及在印版上施塗潤版液，然後施塗膠印油墨，因此油墨被未曝光區吸留；以及將油墨轉移到接受材料上。
33.權利要求32的方法，其中曝光步驟採用800nm～1200nm範圍的輻射進行。
34.權利要求33的方法，其中吸收劑層的塗布量為約0.02g/m2～約2g/m2。
35.權利要求34的方法，其中第一種聚合材料選自丙烯酸類聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸類共聚物；聚酯；聚醯胺；聚脲；聚氨酯；硝基纖維素；環氧樹脂；和它們的組合。
36.權利要求34的方法，其中第一種聚合材料是酚醛樹脂或具有磺醯胺側基的不溶於水但溶於鹼的聚合化合物。
37.權利要求36的方法，其中第一種聚合材料是線型酚醛樹脂。
38.權利要求33的方法，其中可熱成像元件另外包含在親水基材與吸收劑層之間的底層，該底層包含可溶或可分散在含水鹼性顯影液中的第二種聚合材料。
全文摘要
公開一種多層可熱成像元件，可用作平印版前體。該元件包含面層、含有光熱轉換材料的吸收劑層以及親水基材。一種任選的底層也可存在於吸收劑層與親水基材之間。該元件可熱成像並以含水鹼性顯影液衝洗加工。
文檔編號B41M5/36GK1406749SQ021318
公開日2003年4月2日 申請日期2002年9月5日 優先權日2001年9月5日
發明者K·-i·施馬祖, J·帕特爾 申請人:柯達彩色繪圖有限公司