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渦旋壓縮機上的靜渦旋盤及其製造方法

2023-10-20 16:57:52 3

渦旋壓縮機上的靜渦旋盤及其製造方法
【專利摘要】本發明公開了一種渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法,包括以下步驟:(1)在基體的工作端面上加工出一渦旋槽;(2)在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層;(3)在真空爐中放入液體狀的自潤滑材料,把基體浸入自潤滑材料中,然後將真空爐抽真空,使得自潤滑材料滲入到球形銅粉層的各個球形銅粉之間間隙中。使得製造完成的渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁均具有自潤滑效果,使得在輸出氣壓要求較高的工況下使用時,靜渦旋盤基本不會磨損。
【專利說明】渦旋壓縮機上的靜渦旋盤及其製造方法

【技術領域】
[0001]本發明涉及一種渦旋壓縮機上的靜渦旋盤及其製造方法。

【背景技術】
[0002]目前有一種應用在空調上的渦旋壓縮機,其工作部件主要由動渦旋盤和靜渦旋盤組成,靜渦旋盤的工作端面上設有漸開線形的渦旋槽,動渦旋盤的工作端面上設有漸開線形的渦旋體,靜渦旋盤和動渦旋盤相對的裝配在一起後,渦旋槽和渦旋體相互呈180度設置,靜渦旋盤靜止不動,動渦旋盤由曲柄帶動做偏心擺動,使得靜渦旋盤槽內的空氣被壓縮後排出。這種渦旋壓縮機,特別是應用在輸出氣壓要求較高的設備(如大飛機)中時,其工作時靜渦旋盤的工作端面容易由於動渦旋盤的擺動而受到磨損,磨損後將會使得其輸出氣壓降低,無法滿足使用要求。


【發明內容】

[0003]本發明所要解決的技術問題是,提供一種渦旋壓縮機上的靜渦旋盤,其輸出氣壓較高時不容易磨損。
[0004]為解決上述技術問題,本發明提供的渦旋壓縮機上的靜渦旋盤,它包括一基體,基體的工作端面上設置有一渦旋槽,所述的基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上均設置有球形銅粉層,球形銅粉層的各個球形銅粉之間的間隙中設置有自潤滑材料。
[0005]為解決上述技術問題,本發明還提供了一種渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法,包括以下步驟:
(1)、用金屬材料製成基體,並在基體的工作端面上加工出一渦旋槽,渦旋槽具有一底面和兩側壁;
(2)、在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層,球形銅粉層的厚度均為a,其中a為1.2-1.4mm ;
(3)、在真空爐中放入液體狀的自潤滑材料,把基體浸入自潤滑材料中,然後將真空爐抽真空,至少30分鐘後打開真空爐取出基體,即得到加工完成的靜渦旋盤,所述的自潤滑材料由質量百分比為2.5-3.5%的二硫化鉬和質量百分比為96.5-97.5%聚四氟乙烯乳液組成。
[0006]採用以上結構和方法後,本發明與現有技術相比,具有以下的優點:
在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上燒結球形銅粉層後,再將基體浸入自潤滑材料中,此時自潤滑材料滲入到球形銅粉層的各個球形銅粉之間間隙中,自潤滑材料使得基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁具有自潤滑效果,這樣,基體的工作端面、渦旋槽的底面和側壁就不容易產生磨損,應用了該靜渦旋盤的渦旋壓縮機在輸出氣壓要求較高的工況下使用時,避免了由於靜渦旋盤磨損而使輸出氣壓降低的情況,保證了渦旋壓縮機的正常使用,使其使用可靠性較高。
[0007]作為改進,在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層時,在渦旋槽內放入一渦旋型的由石墨材料製成的模芯,模芯的兩側壁與渦旋槽的兩側壁之間、模芯的底面與渦旋槽的底面之間均留有間隙,且間隙的距離均為a。這樣,由於放入了模芯,而且模芯的兩側壁與渦旋槽的兩側壁之間、模芯的底面與渦旋槽的底面之間的間隙的距離均為a,使得在燒結球形銅粉層時,渦旋槽的底面和兩側壁上的球形銅粉層的厚度均勻、一致且保證球形銅粉層的厚度均為a。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是靜渦旋盤的俯視圖;
圖2是圖1的A-A向剖面圖。

【具體實施方式】
[0009]下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明作進一步詳細地說明。
[0010]由圖1、圖2所示,本發明渦旋壓縮機上的靜渦旋盤包括基體1,基體I為圓餅狀,基體I的工作端面101上設置有一渦旋槽102,渦旋槽102為漸開線形,所述的基體I的工作端面101、渦旋槽102的底面和兩側壁上均設置有球形銅粉層,球形銅粉層的各個球形銅粉之間的間隙中設置有自潤滑材料,所述的自潤滑材料可以為石墨、氟化石墨、聚甲醛、聚醯亞胺等。
[0011]實施例一
本發明渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法包括以下步驟:
(1)、用鋼材料製成基體,並在基體的工作端面上加工出一漸開線形的渦旋槽,渦旋槽具有一底面和兩側壁;
(2)、在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層,球形銅粉層的厚度均為1.2mm ;
(3)、在真空爐中放入液體狀的自潤滑材料,把基體浸入自潤滑材料中,然後將真空爐抽真空,30分鐘後打開真空爐取出基體,即得到加工完成的靜渦旋盤,其中自潤滑材料由質量百分比為2.5%的二硫化鉬和質量百分比為97.5%聚四氟乙烯乳液組成。
[0012]在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層時,在渦旋槽內放入一渦旋型的由石墨材料製成的模芯,模芯的兩側壁與渦旋槽的兩側壁之間、模芯的底面與渦旋槽的底面之間均留有間隙,且間隙的距離均為1.2mm。
[0013]實施例二
本發明渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法包括以下步驟:
(1)、用鋼材料製成基體,並在基體的工作端面上加工出一漸開線形的渦旋槽,渦旋槽具有一底面和兩側壁;
(2)、在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層,球形銅粉層的厚度均為1.3mm ;
(3)、在真空爐中放入液體狀的自潤滑材料,把基體浸入自潤滑材料中,然後將真空爐抽真空,60分鐘後打開真空爐取出基體,即得到加工完成的靜渦旋盤,其中自潤滑材料由質量百分比為3%的二硫化鉬和質量百分比為97%聚四氟乙烯乳液組成。
[0014]在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層時,在渦旋槽內放入一渦旋型的由石墨材料製成的模芯,模芯的兩側壁與渦旋槽的兩側壁之間、模芯的底面與渦旋槽的底面之間均留有間隙,且間隙的寬度均為1.3_。
[0015]實施例三
本發明渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法包括以下步驟:
(1)、用鋼材料製成基體,並在基體的工作端面上加工出一漸開線形的渦旋槽,渦旋槽具有一底面和兩側壁;
(2)、在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層,球形銅粉層的厚度均為1.4mm ;
(3)、在真空爐中放入液體狀的自潤滑材料,把基體浸入自潤滑材料中,然後將真空爐抽真空,90分鐘後打開真空爐取出基體,即得到加工完成的靜渦旋盤,其中自潤滑材料由質量百分比為3.5%的二硫化鉬和質量百分比為96.5%聚四氟乙烯乳液組成。
[0016]在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層時,在渦旋槽內放入一渦旋型的由石墨材料製成的模芯,模芯的兩側壁與渦旋槽的兩側壁之間、模芯的底面與渦旋槽的底面之間均留有間隙,且間隙的寬度均為1.4_。
[0017]在上述三個實施例中,在步驟(I)中,基體的工作端面即指與動渦旋盤相對設置的一端面。
[0018]在步驟(3 )中,在將基體放入到真空爐中並浸入到自潤滑材料中後,將真空爐抽真空,此時自潤滑材料滲入到球形銅粉層的各個球形銅粉之間的間隙中,使得基體的工作端面、渦旋槽的底面和渦旋槽的側壁上均設置有自潤滑材料,使得加工完成的靜渦旋盤具有自潤滑效果,不容易磨損。
[0019]聚四氟乙烯乳液為乳白色液體,系四氟乙烯聚合後在非離子型表面活性劑存在下的分散濃縮液,聚四氟乙稀固體含量在60%(wt)左右。
[0020]所述的球形銅粉層為鎳合金球形銅粉層。
【權利要求】
1.一種渦旋壓縮機上的靜渦旋盤,它包括一基體,基體的工作端面上設置有一渦旋槽,其特徵在於:所述的基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上均設置有球形銅粉層,球形銅粉層的各個球形銅粉之間的間隙中設置有自潤滑材料。
2.一種渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法,其特徵在於,包括以下步驟: (0、用金屬材料製成基體,並在基體的工作端面上加工出一渦旋槽,渦旋槽具有一底面和兩側壁; 口)、在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層,球形銅粉層的厚度均為£1,其中£1為1.2-1.4111111 ; (^)、在真空爐中放入液體狀的自潤滑材料,把基體浸入自潤滑材料中,然後將真空爐抽真空,至少30分鐘後打開真空爐取出基體,即得到加工完成的靜渦旋盤,其中自潤滑材料由質量百分比為2.5-3.5%的二硫化鉬和質量百分比為96.5-97.5%聚四氟乙烯乳液組成。
3.根據權利要求2所述的渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法,其特徵在於: 在基體的工作端面、渦旋槽的底面和兩側壁上同時燒結球形銅粉層時,在渦旋槽內放入一渦旋型的由石墨材料製成的模芯,模芯的兩側壁與渦旋槽的兩側壁之間、模芯的底面與渦旋槽的底面之間均留有間隙,且間隙的距離均為^
4.根據權利要求3所述的渦旋壓縮機上的靜渦旋盤的製造方法,其特徵在於: 所述的球形銅粉層為鎳合金球形銅粉層。
【文檔編號】F04C18/02GK104481872SQ201410644023
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2014年11月14日 優先權日:2014年11月14日
【發明者】勵明才, 陳元明, 晁振銘 申請人:寧波永靈航空配件有限公司

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