動態光在線粒徑量測與控制系統的製作方法

2023-10-09 21:24:44

專利名稱：動態光在線粒徑量測與控制系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及的是一種監控與控制系統，特別涉及的是一種動態擷取樣本並進 行檢測，然後根據檢測結果反饋控制加工設備以維持生產質量與效率的一種動態 光在線粒徑量測與控制系統。
背景技術：
由於納米科技日新月異，在各項高科技產品中均有納米級產品的混參或添加，
如SARS其間紅極一時的光觸媒商品樣品，即利用溼式粉體研磨設備將光觸媒材 料研磨至納米級尺度，使其產生滅菌與自潔等功效。另外目前當紅的遠紅外線材 料，利用添加納米級竹炭粒子後在抽絲成竹炭纖維，然後再編織成日常生活衣物。 除此的外，如印表機的顏料，通過顏料粒徑縮小，可以提高列印質量的色彩鮮豔 度以及明亮度等。
前述的納米級產品中，多利用溼式加工配合適當分散劑，使樣品在加工後維 持納米等級狀態。在現有技術中，要能夠有效監控100nm以下的粒子的製備過程，
往往僅能夠以先前加工經驗作為參考依據，因此常有因加工過程的參數設定實時 性的問題。再加上，人為的疏失會使得加工時效上無謂的浪費，不僅拖延產生樣 品的時效，也讓產品在良率上無法提升。
因此，如何能夠在於線進行量測粒徑進而控制產品良率，是熟悉此項技術的 人研究發展的課題。在現有技術中較常使用在線檢測方式有下列三種
(1) 離心式沉降法如中國臺灣省專利公告號第593972號所公開的一種利用 沉降法來檢測粒徑大小。其是利用粒子在液體中沉降快慢，推算出粒徑的大小。 在所述案中更公開以離心力加速粒子在溶液中的沉降速度。不過在沉降的過程中， 納米級粒子沉降效果有限，故其量測粒徑範圍僅限在100nm至30(Him之間。此外， 所述項技術的量測時間也較長，對於在線實時檢測，在時效上也受到限制。
(2) 靜態光粒徑分析儀其量測原理為利用一雷射束通過樣品，當樣品受到激
光光照射後，在後方偵測器上產生不同的繞射圖形，通過訊號分析演算出粒徑大
小。傳統的靜態光粒徑分析儀的缺點在於對溼式狀態下的粒子僅能以0.1%以下的 稀釋溶液做檢測。不過在美國專利U.S.Pat.No.5619324中所公開的技術，是利用 特殊的散射接收器(scattering detector)再配合樣品氣霧式裝置，將氣霧化後的樣品 導入靜態光粒徑分析儀中，以量測得到樣品粒徑值。雖然此方法可偵測較高濃度 樣品，不過樣品在氣霧化的過程中，可能因樣品氣霧化程度不夠，導致儀器無法 真實測得粒徑平均值。此外，其設備也需要較大體積容納，也有不易安裝的缺點。
(3) 超音波粒徑量測設備其量測原理是利用聲波在通過樣品時，通過聲波與 樣品內粒子碰撞後所產生的反射波的變化來測得粒徑大小。所述方法可對流動狀 態的樣品進行檢測，可為在線檢測方法之一。但所述方法在樣品特性上需要有較 多樣品參數配合，不過樣品材料參數取得不易，其參數亦影響粒徑量測值。所述 項技術的量測範圍雖可達20nm，不過對在〈5nm以下的粒子仍有很大的差距。此 外，所述項技術所需要的成本也相當高昂。
(4) 桌上型動態光粒徑分析如美國專利US.Pat.No.4，990，795所公開的固定式 的桌上型動態光散射儀裝置，其量測方式為將樣品填入一容器內(如比色槽或樣品 槽)，再放入所述裝置中量測粒徑。若以此項方式作在線粒徑檢測，不但沒有較佳 的取樣時效，在加工參數改變下還需事後進行比對，因此不僅無法實時有效量測 樣品粒徑，還需要大量實驗配合。
綜合上述，因此亟需一種動態光在線粒徑量測與控制系統來解決現有技術所 產生的問題。

發明內容
本發明的主要目的在於，提供一種動態光在線粒徑量測與控制系統，其是利 用動態光原理檢測粒徑大小，配合動態光檢測的快速及準確性的優點，在取得樣 品粒徑後並根據檢測結果產生反饋訊號進而控制加工設備，達到動態實時控制加 工狀態的目的。
本發明的次要目的在於，提供一種動態光在線粒徑量測與控制系統，其是利 用動態光散射裝置來分析粒徑大小，達到可以檢測納米級粉粒體粒徑的目的。
本發明的另一目的在於，提供一種動態光在線粒徑量測與控制系統，其是利 用溼化裝置以對乾式生產裝置所產生的樣品粒子進行溼化動作以形成溼式粒子， 達到可以使用動態光在線檢測及控制監測乾式裝置生產，並達到加工質量監控的 目的。
為了達到上述的目的，本發明採用的技術方案在於，提供一種動態光在線粒 徑量測與控制系統，包含有 一加工設備； 一擷取單元，其是與所述加工設備相 連接以從所述加工設備擷取檢驗所需的一樣品； 一動態光散射粒徑檢測單元，其 是與所迷擷取單元相連接，所逑動態光散射粒徑檢測單元可以分析所述樣品的粒 徑分布以提供一檢測信息；以及一控制單元，其是可接收所述檢測信息，並產生 對應的控制參數回饋給所述加工設備。
較佳的是，所述動態光在線粒徑量測與控制系統，其是還包括有一儲存筒與 所述擷取單元以及所述加工設備形成一循環迴路。
較佳的是，其中所述擷取單元更具有 一主傳輸管路，其是具有一流量控制 閥，以控制所述主傳輸管路的流量；以及一次傳輸管路，其是與所述主傳輸管路 相連接，所述次傳輸管路上更具有與所述動態光散射粒徑檢測單元相耦接的一量 測槽。所述次傳輸管路與所述主傳輸管路之間更具有一止回閥以防止主傳輸管路 的產物回流至所述次傳輸管路。所述流量控制閥為一節流閥。
較佳的是，所述擷取單元更具有 一透明載體，其是以一通道與所述加工設 備相連接，以從所述加工設備內擷取檢測所需的樣品； 一包覆層，其是包覆在所 述透明載體上； 一稜鏡，其是設置在所述透明載體內，其是可反射所述動態光散 射粒徑檢測單元所產生的一偵測光至所述通道內；以及一接收器，其是設置在所 述透明載體內，且與所述動態光散射粒徑檢測單元相連接。
較佳的是，所述擷取單元更具有 一傳輸管路，其是與所述加工設備形成一 迴路； 一透明載體，其是以一通道與所述迴路相連接，以從所述加工設備內擷取 檢測所需的樣品； 一包覆層，其是包覆在所述透明載體上； 一稜鏡，其是設置在 所述透明載體內，其是可反射所述動態光散射粒徑檢測單元所產生的一偵測光至 所述通道內；以及-接收器，其是設置在所述透明載體內，且與所述動態光散射 粒徑檢測單元相連接。
較佳的是，所述擷取單元更具有 一管體，其是與所述加工設備形成一循環 迴路，所述管體上開設有一開孔； 一擷取器，其是設置在所述開孔上，所述擷取 器具有 一擷取探頭，其是可在一第一動作時通過所述開孔在所述管體內以一擷 取槽擷取檢測用樣品，而在一第二動作時關閉所述開孔；以及一光纖探頭，其是 與所述擷取槽相連接。
較佳的是，所述加工設備更開設有一開口。所述擷取單元更具有 一擷取器，
其是設置在所述開口上，所述擷取器具有 一擷取探頭，其是可在一第一動作時 通過所述開口以一擷取槽擷取檢測用樣品，而在一第二動作時關閉所述開口；以 及一光纖探頭，其是所述擷取槽相連接，並與所述動態光散射粒徑檢測單元連接， 測得樣品粒徑，苒回鐨至所迷控制單元。
本發明更提供一種動態光在線粒徑量測與控制系統，包含有 一乾式加工設 備； 一溼化單元，其是與所述乾式加工設備相連接，所述溼化單元可擷取所述幹 式加工設備的產物以形成一溼式樣品； 一分散單元，其是與所述溼化單元相連接， 所述分散單元可擷取所述溼式樣品以分散所述溼式樣品形成一檢測樣品； 一擷取 單元，其是與所述分散單元相連接以擷取所述檢測樣品； 一動態光散射粒徑檢測 單元，其是與所述擷取單元相連接，所述動態光散射粒徑檢測單元可以分析所述 樣品的粒徑分布以提供一檢測信息；以及一控制單元，其是可接收所述檢測信息， 並產生對應的控制參數給所述加工設備。
較佳的是，所述溼化單元為一水洗塔、 一噴霧裝置或者是油式收集的方式。 較佳的是，所述分散單元為一攪拌器、珠(球)磨設備、高速射流設備或者是 一超音波振動裝置，使樣品達到高分散狀態在溶液中。


圖1A為本發明的動態光在線粒徑量測與控制系統較佳實施例方塊示意圖； 圖1B為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的操作流程示意圖； 圖2為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的擷取單元第一較佳實施例示 意圖3為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的擷取單元第二較佳實施例示 意圖4A、圖4B為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的擷取單元第三較佳
實施例動作示意圖5為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的另一較佳實施例示意圖。 附圖標記說明l-動態光在線粒徑量測與控制系統；10-加工設備；11-擷取單
元；lla-擷取單元；110a-主傳輸管路；llla-流量控制閥；112a-次傳輸管路；113a-
量測槽；U4a-控制閥體；llb-擷取單元；110b-透明載體；lllb-通道；112b-稜鏡； U3b-接收器；114b-包覆層；llc-擷取單元；110c—管體；Ulc-擷取器；1110- 擷取探頭；1111-擷取槽；1112-光纖探頭；12-儲存筒；13-動態光散射粒徑檢 測單元；14-控制單元；2-流程；20 24-步驟；3-動態光在線粒徑量測與控制系統；
30-乾式加工設備；31-溼化單元；32-分散單元；33-擷取檢測單元；330-擷取單元； 331-動態光散射粒徑檢測單元；332-控制單元；90-偵測光。
具體實施例方式
以下結合附圖，對本發明上述的和另外的技術特徵和優點作更詳細的說明。 請參閱圖1A以及圖1B所示，其中圖1A為本發明的動態光在線粒徑量測與 控制系統較佳實施例方塊示意圖；圖1B為本發明動態光在線粒徑量測與控制系 統的操作流程示意圖。所述動態光在線粒徑量測與控制系統1包括有一加工設備 10，其為溼式粉體製造或者是研磨設備。所述加工設備IO的一側設置有一循環回 路，在所述循環迴路上設置有一擷取單元11。所述擷取單元11可以進行步驟20 從循環迴路的管路中擷取檢測所需要的樣品。所述循環迴路中的一端更可以設置 一儲存筒12，以存放檢測完畢的樣品，然後再回流至所述加工設備10中。
所述擷取單元11，其是更連接有一動態光散射粒徑檢測單元13，其是可以進 行步驟21以量測所述擷取單元11所擷取的樣品的粒徑分布以提供一檢測信息， 並以步驟22將所述檢測信息傳遞至一控制單元14。所述控制單元14可以步驟23 根據所述檢測信息產生反饋控制的參數給所述加工設備10，所述加工設備10可 以根據反饋的加工參數進行加工上的調整，以控制粉體製造的質量以及提高生產 效率。此外，所述控制單元14也可以進行步驟24將所述檢測信息進行處理，然 後將檢測的結果，顯示在顯示器上。當然使用者也可以根據顯示的狀態，進行控 制或者是修正加工設備IO運轉所需的參數設定，以控制粉體製造的質量以及提高 生產效率。
所述動態光散射粒徑檢測單元13，其檢測原理為利用動態光散射法(Dynamic light scattering,DLS)，又稱為光子相關法(photon correlation spectroscopy, PCS)。動 態光散射法為利用雷射光射入含粒子的溶液中，雷射光因為粒子產生散射光，散 射的雷射光會隨時間改變，再由散射光起伏的變化計算出粒徑的大小。由在粒子 在溶液中因處在非絕對零度，故本身含有動能而產生不規則的布朗運動(Brownian motkm)。由於粒子的大小不同，其擴散速度與布朗運動程度也不同，在雷射照射 的區域中，同時有許多粒子產生散射光，隨著粒子位置的不同，則散射光到達檢
測器時會有光程差，產生幹涉影響散射光強度，又粒子位置本身也會隨著時間改 變，所以散射光亦隨時間改變，利用此訊號根據理論即可計算出平均粒徑。
所述擷取單元11的設計，在於可以擷取樣品以供檢測與分析，接下來介紹所 逑擷取單元的實施例。請參閱圖2所樂，所述圖為本發明動態光在線粒徑量測與 控制系統的擷取單元第一較佳實施例示意圖。所述擷取單元lla更具有--t傳 輸管路110a，其是具有一流量控制閥llla，以控制所述主傳輸管路110a的流量， 所述主傳輸管路110a更連接有一次傳輸管路112a。所述流量控制閥llla是可控 制由加工設備進入所述主傳輸管路llla的流量，在本實施例中，所述流量控制閥 llla是可為一節流閥。所述次傳輸管路112a上更具有一量測槽113a，以收集由 所述次傳輸管路112a所傳輸的樣品。當加工設備生產出的樣品由進入主傳輸管路 110a時，通過所述流量控制閥llla的調節，使得樣品被導入至所述次傳輸管路 112a，然後進入到所述量測槽U3a內。之後，由所述動態光散射粒徑檢測單元 13進行粒徑檢測，通過一控制閩體114a將量測後的樣品導入所述主傳輸管路110a 內，以完成一次取樣量測的動作。所述控制閥體114a是可為一止回閥。
請參閱圖3所示，所述圖為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的擷取單 元第二較佳實施例示意圖。所述擷取單元llb設置在所述加工設備上，所述擷取 單元llb具有一透明載體110b、 一稜鏡112b以及一接收器113b。所述透明載體 110b，其內部開設有一信道lllb，所述信道lllb可以通過供應負壓的方式，將 加工設備內的樣品擷取至所述通道lllb內部。所述稜鏡112b是設置在所述透明 載體110b內部，以反射所述動態光散射粒徑檢測單元所產生的一偵測光90至所 述通道lllb內。所述接收器113b則設置在所述透明載體110b內，且與所述動態 光散射粒徑檢測單元13相連接。使得所述動態光散射粒徑檢測單元13可以接收 由所述接收器U3b所傳輸的訊號進行處理演算，最後得知粒子的粒徑。然後再通 過正壓的供應，使得在所述通道lllb內的樣品再回到所述加工設備內。另外，為 了避免外部環境幹擾散射光的接收，因此在所述透明載體外部包覆有一包覆層 114b。
前述第二較佳實施例除可設置在傳輸管在線亦可釆直接由所述加工設備腔體 內擷取樣品的方式，此外，所述加工設備也可以連接一傳輸管路，然後所述透明 載體可以通過所述傳輸管路擷取檢測所需要的樣品。至在運作的方式如同前面所 述，在此不做贅述。請參閱圖4A以及圖4B所示，為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的擷 取單元第三較佳實施例動作示意圖。所述擷取單元llc包括有一管體110c以及-一 擷取器lllc。所述管體U0c，其是與所述加工設備形成一循環迴路，所述管體 110c上開設有一開孔。所述擷取器lllc，其是設置在所述開孔上，所迷擷取器 lllc具有 一擷取探頭1110，其是可在一第一動作時通過所述開孔在所述管體
110c內以一擷取槽1111擷取檢測用樣品，而在一第二動作時關閉所述開孔。所 述擷取槽1111的一側設置有一光纖探頭1112與所述動態光散射粒徑檢測單元相 連接，以偵測擷取槽內的粒徑。如圖4A所示，所述管體110c可以由所述加工設 備內導引出檢測所需要的樣品。然後所述擷取探頭1110可以通過所述開孔，使得 擷取槽1111在所述管體110c中擷取樣品。然後，如圖4B所示，擷取到樣品的 後，所述擷取探頭1110會縮回，以封閉所述開孔。然後，利用所述光纖探頭1112 對所述擷取槽1111內的樣品進行粒徑量測。量測之後，所述擷取探頭1110再伸 出，進入到所述管體110c內將樣品排回所述管體110c中，以完成一次粒徑檢測。
所述擷取器lllc除了設置在管體上，也可以直接設置在所述加工設備上。在 所述加工設備上開設一開口，然後所述擷取器lllc設置在所述開口上，通過控制 擷取探頭1110的伸出與收回，從所述加工設備內擷取檢測所需要的樣品。
請參閱圖5所示，所述圖為本發明動態光在線粒徑量測與控制系統的另一較 佳實施例示意圖。前面的實施例是針對溼式的加工設備所做的說明。對在乾式的 加工設備，本發明更提供一動態光在線粒徑量測與控制系統3，其是包括 -千 式加工設備30、 一溼化單元31、 一分散單元32以及一擷取檢測單元33。所述溼 化單元31，其是與所述乾式加工設備30相連接，所述溼化單元31可擷取所述幹 式加工設備30的產物以形成一溼式樣品。所述溼化單元31可為一水洗塔、 -噴 霧裝置或者是油式收集的方式，但不在此限。所述分散單元32，其是與所述溼化 單元31相連接，所述分散單元32可擷取所述溼式樣品以分散所述溼式樣品形成 一檢測樣品。在本實施例中，所述分散單元32可為一攪拌器、珠(球)磨設備、高 速射流設備或者是一超音波振動裝置，使樣品達到高分散狀態在溶液中，以提供 能量使所述溼式樣品分散。所述擷取檢驗單元33還包括有一擷取單元330、 一動 態光散射粒徑檢測單元331以及一控制單元332。所述擷取檢驗單元33的運作方 式與前述相同，在此不做贅述。利用本實施例中的動態光在線粒徑量測與控制系 統3，同樣可對乾式加工設備進行粒徑量測與控制，達到提升粒子質量以及生產
效率的目的。
以上所述僅為本發明的較佳實施例，對本發明而言僅僅是說明性的，而非限 制性的。本專業技術人員理解，在本發明權利要求所限定的精神和範圍內可對其 進行許多改變，修改，甚至等效，但都將落入本發明的保護範圍內。
綜合上述，本發明提供的動態光在線粒徑量測與控制系統，其是具有可對幹 式或者是溼式的加工設備進行動態粒徑大小檢測與控制的優點，進而提升生產品 制與效率，誠已符合發明專利法所規定申請發明所需具備的要件，故依法提出發 明專利的申請。
權利要求
1.一種動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，包含有一加工設備；一擷取單元，其與所述加工設備相連接以從所述加工設備擷取檢驗所需的一樣品；一動態光散射粒徑檢測單元，其與所述擷取單元相連接，所述動態光散射粒徑檢測單元分析所述樣品的粒徑分布以提供一檢測信息；以及一控制單元，其接收所述檢測信息，並產生對應的控制參數給所述加工設備。
2. 如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，其還包括有一儲存筒與所述擷取單元以及所述加工設備形成一循環迴路。
3. 如權利要求l所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 擷取單元還具有一主傳輸管路，其具有一流量控制閥，以控制所述主傳輸管路的流量； 一次傳輸管路，其與所述主傳輸管路相連接，所述次傳輸管路上還具有與所 述動態光散射粒徑檢測單元相耦接的一量測槽；以及一止回閥以防止主傳輸管路的產物回流至所述次傳輸管路。
4. 如權利要求l所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 擷取單元還具有一透明載體，其以一通道與所述加工設備相連接，以從所述加工設備內擷取 檢測所需的樣品；一包覆層，其包覆在所述透明載體上；一稜鏡，其設置在所述透明載體內，其是可反射所述動態光散射粒徑檢測單 元所產生的一偵測光至所述通道內；以及一接收器，其設置在所述透明載體內且與所述動態光散射粒徑檢測單元相連接。
5. 如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 擷取單元還具有一傳輸管路，其與所述加工設備形成一迴路；一透明載體，其以一通道與所述迴路相連接，以從所述加工設備內擷取檢測 所需的樣品；一包覆層，其包覆在所述透明載體上；一稜鏡，其設置在所述透明載體內，其反射所述動態光散射粒徑檢測單元所產生的一偵測光至所述通道內；以及一接收器，其設置在所述透明載體內且與所述動態光散射粒徑檢測單元相連接。
6. 如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述擷取單元還具有一管體，其與所述加工設備形成一循環迴路，所述管體上開設有一開孔； 一擷取器，其設置在所述開孔上，所述擷取器具有一擷取探頭，其在一第一動作時通過所述開孔在所述管體內以一擷取槽擷取檢測用樣品，而在一第二動作時關閉所述開孔；以及一光纖探頭，其與所述擷取槽相連接。
7. 如權利要求l所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述加工設備還開設有一開口，所述擷取單元還具有一擷取器，其設置在所述開口上，所述擷取器具有一擷取探頭，其在一第一動作時通過所述開口以一擷取槽擷取檢測用樣品， 而在一第二動作時關閉所述開口；以及一光纖探頭，其與所述擷取槽相連接，並與所述動態光散射粒徑檢測單元連接，測得樣品粒徑，再反饋至所述控制單元。
8. —種動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，其包含有 一乾式加工設備；一溼化單元，其與所述乾式加工設備相連接，所述溼化單元擷取所述乾式加 工設備的產物以形成一溼式樣品；一分散單元，其與所述溼化單元相連接，所述分散單元擷取所述溼式樣品以 分散所述溼式樣品形成一檢測樣品；一擷取單元，其與所述分散單元相連接以擷取所述檢測樣品；一動態光散射粒徑檢測單元，其與所述擷取單元相連接，所述動態光散射粒徑檢測單元分析所述樣品的粒徑分布以提供一檢測信息；以及一控制單元，其接收所述檢測信息，並產生對應的控制參數給所述乾式加工設備。
9. 如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 溼化單元為水洗塔型式、噴霧裝置收集或油式收集其中之一。
10. 如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 分散單元為攪拌器、超咅被振動裝置、珠(球)磨設備、高速射流設備其中之-。
11.如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，還包 括有一儲存筒與所述擷取單元與所述加工設備形成一循環迴路。
12. 如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 擷取單元還具有-一主傳輸管路，其具有一流量控制閥，以控制所述主傳輸管路的流量； 一次傳輸管路，其與所述主傳輸管路相連接，所述次傳輸管路上還具有與所 述動態光散射粒徑檢測單元相耦接的一量測槽；以及一止回閥以防止主傳輸管路的產物回流至所述次傳輸管路。
13. 如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 擷取單元還具有一透明載體，其以一通道與所述加工設備相連接，以從所述加工設備內擷取 檢測所需的樣品；一包覆層，其包覆在所述透明載體上；以及一稜鏡，其設置在所述透明載體內，其反射所述動態光散射粒徑檢測單元所 產生的一偵測光至所述通道內；以及一接收器，其設置在所述透明載體內，且與所述動態光散射粒徑檢測單元相連接。
14. 如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 擷取單元還具有一傳輸管路，其與所述加工設備形成一迴路；一透明載體，其以一通道與所述迴路相連接，以從所述加工設備內擷取檢測 所需的樣品；一包覆層，其包覆在所述透明載體上；一稜鏡，其設置在所述透明載體內，其反射所述動態光散射粒徑檢測單元所 產生的一偵測光至所述通道內；以及一接收器，其設置在所述透明載體內，且與所述動態光散射粒徑檢測單元相連接。
15. 如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其中如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述擷取單元還具有 一管體，其與所述加工設備形成一循環迴路，所迷管體上開設有一開孔； 一擷取器，其設置在所述開孔上，所述擷取器具有一擷取探頭，其在一第一動作時通過所述開孔在所述管體內以一擷取槽擷取 檢測用樣品，而在一第二動作時關閉所述開孔；以及一光纖探頭，其與所述擷取槽相連接，並與所述動態光散射粒徑檢測單元連 接，測得樣品粒徑，再反饋至所述控制單元。
16. 如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特徵在於，所述 加工設備還開設有一開口，所述擷取單元還具有一擷取器，其設置在所述開口上，所述擷取器具有一擷取探頭，其在一第一動作時通過所述開口以一擷取槽擷取檢測用樣品， 而在一第二動作時關閉所述開口；以及一光纖探頭，其與所述擷取槽相連接，並與所述動態光散射粒徑檢測單元連 接，測得樣品粒徑，再反饋至所述控制單元。
全文摘要
本發明提供一種動態光在線粒徑量測與控制系統，包含有一加工設備、一擷取單元、一動態光散射粒徑檢測單元以及一控制單元。所述擷取單元，其是與所述加工設備相連接以從所述加工設備擷取檢驗所需的一樣品。所述動態光散射粒徑檢測單元，其是與所述擷取單元相連接，所述動態光散射粒徑檢測單元可以分析所述樣品的粒徑分布以提供一檢測信息。所述控制單元，其是可接收所述檢測信息，並產生對應的控制參數給所述加工設備。通過此達到在線實時檢測與監控並利用檢測監控的結果動態調整加工參數，以確保加工進行時產品的質量與生產時效。
文檔編號G05B19/048GK101169630SQ20061014971
公開日2008年4月30日 申請日期2006年10月23日 優先權日2006年10月23日
發明者周大鑫, 蘇志傑, 蔡禎輝 申請人:財團法人工業技術研究院