一種全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的製作方法與流程

2023-10-17 00:35:59

本發明公開一種全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的製作方法，屬於缺失牙修復用的全瓷義齒材料領域。

背景技術：

在缺失牙修復中，全瓷義齒採用越來越普遍。在缺失牙修復中，義齒的強度和美觀度顯得十分重要。

在已有技術中，常見的全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的製作方法，常用的有「幹壓成型」或「等靜壓成型」。

陶瓷成型是陶瓷件製備工藝中重要環節，成型的陶瓷坯料內部均勻度和緻密度是直接關聯最終燒結後陶瓷件的質量。由於成型過程所造成的缺陷往往是陶瓷產品的主要危險缺陷，控制和消除這些缺陷產生客觀要求，促使陶瓷成型工藝不斷深入研究和創新。一般來說，「幹壓成型」是使用造粒料來加工製造成的陶瓷坯料，其內部密度均勻性較差，「等靜壓成型」也是利用造粒料來加工製成陶瓷坯料，其內部密度均勻性只能說比較好。因為是造粒料成型，後續工序中無需經過排臘工序，直接預燒結後機械加工。基於此，申請人認為現有的全瓷義齒氧化鋯瓷塊的製作方法還有待改進，本案由此產生。

技術實現要素：

本發明的目的是提供一種產品內部材質均勻性好且密度大、斷裂強度高的全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的製作方法。

為達到上述目的，本發明所採用的技術方案為：

一種全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的製作方法，包括以下步驟：先以鋯瓷混料為原料，並採用注射成型工序製得全瓷義齒用氧化鋯瓷塊坯料，接著全瓷義齒用氧化鋯瓷塊坯料依次經過排臘工序、低溫預燒結工序、機械加工工序、絲網印刷工序，最後檢驗包裝成成品。

本發明中，因為注射成型是使用鋯瓷混料（屬於黏塑性料）來加工成型坯料，所製成的陶瓷坯料內部材質均勻性好，在經過排臘、低溫預燒結等工序後，成品密度大，斷裂強度高。一般來說，陶瓷生產行業中認為，「注射成型」的鋯瓷產品強度，比用「幹壓成型」的鋯瓷產品，其斷裂強度可提升20%以上。

作為上述方案的進一步設置，所述注射成型工序採用注塑機進行，包括將鋯瓷混料在高溫高壓的狀態下，注射進入模具型腔中而成型，其中的高溫為180℃±30℃，高壓為70mpa±25mpa。

所述排臘工序採用熱風排臘，熱風溫度從常溫逐漸升到500℃±100℃，升溫曲線0.5℃/分±0.1℃/分。

所述低溫預燒結工序的溫度從常溫逐漸升到1000℃±100℃，升溫曲線1℃/分±0.2℃/分。

所述全瓷義齒用氧化鋯瓷塊坯料可以是圓柱體，長方體及定製幾何體。

通過本發明所製得的全瓷義齒用氧化鋯瓷塊，內部材質均勻性好且密度大、斷裂強度高。由本發明全瓷義齒用氧化鋯瓷塊所製成的全瓷義齒內冠機械強度高，材料密度高。本發明全瓷義齒用氧化鋯瓷塊，經過cad/cam設計並加工製成全瓷義齒內冠坯料，再進行燒結，以達到臨床使用要求的強度和美觀效果。

通過本發明所製得的全瓷義齒用氧化鋯瓷塊，不光可以用來製造全瓷義齒內冠，也可用來製造鋯瓷基臺和鋯瓷種植體。

以下結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步說明。

附圖說明

圖1為本發明中注射成型工序的工作狀態示意圖。

具體實施方式

本發明一種全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的製作方法，包括以下步驟：先以鋯瓷混料為原料，並採用注射成型工序製得全瓷義齒用氧化鋯瓷塊坯料，接著全瓷義齒用氧化鋯瓷塊坯料依次經過排臘工序、低溫預燒結工序、機械加工工序、絲網印刷工序，最後檢驗包裝成成品。

本實施例中，注射成型工序採用注塑機進行，包括將鋯瓷混料在高溫高壓的狀態下，注射進入模具型腔中而成型，其中的高溫為180℃±30℃，高壓為70mpa±25mpa。

結合圖1所示，注射成型工序的具體過程如下：

在料鬥1中加入鋯瓷混料，經螺杆2擠壓產生壓力，同時電熱絲3加熱提升溫度，處於高溫高壓狀態下的鋯瓷混料在料咀6處噴入模具型腔7中成型為坯料。動力系統4帶動螺杆2旋轉，產生壓力，油缸5推動料咀6與模具型腔7緊密結合，以便鋯瓷混料經料咀6噴入模具型腔7中，這樣，鋯瓷混料在高溫高壓下進入模具，生成的坯料內部材質均勻，結構緻密，能最終提高鋯瓷坯料的質量。

本實施例中，排臘工序採用熱風排臘，熱風溫度從常溫逐漸升到500℃±100℃，保溫1-2小時後，逐步降溫。其中，升溫曲線為0.5℃/分±0.1℃/分。

本實施例中，低溫預燒結工序的溫度從常溫逐漸升到1000℃±100℃，保溫1-2小時後，逐步降溫。其中，升溫曲線為1℃/分±0.2℃/分。

本實施例中，全瓷義齒用氧化鋯瓷塊坯料可以是圓柱體，長方體及定製幾何體。

鋯瓷混料可以在市場上購買到。也可根據具體產品需求，自行配製。

本實施例中，鋯瓷混料配方如下（質量百分比）：

氧化鋯：74%±1.5%，氧化鉿4%±0.5%，氧化鋁0.5%±0.2%，氧化釔5%±0.5%，氧化鐵≤0.5%，聚乙烯5%±1%，乙烯一醋酸乙烯共聚物3%±0.5%，石臘7%±1.5%，鄰苯二甲酸二辛酯2%±0.5%。

以上實例僅作為本發明的進一步說明，本發明的技術方案在權利要求中已有描述，在不改變本發明基本工藝原理的前提下，所作出的變更和改進，均在本發明的保護範圍之內。