透明導電膜層疊用膜、其製造方法及透明導電性膜與流程

2023-10-04 23:01:39 2

本發明涉及透明導電膜層疊用膜、其製造方法及透明導電性膜。更詳細而言，涉及在可見光的短波長區域的透射率高、透明導電膜的圖案形狀不明顯的觸摸面板用透明導電性膜，特別是用於提供靜電容量方式觸摸面板用透明導電性膜的透明導電膜層疊用膜及其有效的製造方法。

背景技術：
可通過與圖像顯示部直接接觸而輸入信息的觸摸面板將透射光的輸入裝置配置於各種顯示器上，作為代表性的形式，列舉將兩張透明導電基板以透明導電層面對面的方式設置間隙而配置的電阻膜式觸摸面板、或利用在透明導電膜和手指之間產生的靜電容量的變化的靜電容量式類型。在上述那樣的觸摸面板的透明導電膜中使用摻雜有氧化錫的氧化銦(下面，有時也簡稱為「ITO」)等，它們層疊於玻璃基體材料或塑料基體材料等透明基體材料上，構成透明導電基板。作為透明導電膜，在層疊有ITO等金屬氧化物的透明導電基板中，在可見光的短波長區域透射率普遍降低，因此，黃色變強。為了解決該問題，公開了在透明基板和透明導電膜之間設置折射率不同的光學層疊體的方法(專利文獻1)。對於透明基體材料的整個面層疊透明導電膜的電阻膜式觸摸面板，這是有效的方法。另一方面，在靜電容量式觸摸面板中，為了檢測手指的觸摸位置，將具備被圖案化為線狀的透明導電膜的兩張透明導電性膜以相互交叉的方式配置，形成了格子狀的圖案。這樣得到的靜電容量式觸摸面板存在具有透明導電膜的部位和沒有透明導電膜的部位，且由於透明導電膜的有無，反射率及透射率不同，因此，識別利用兩個透明導電性膜形成的透明導電膜的格子狀圖案，其結果，存在作為顯示器的可視性降低的問題。關於觸摸面板的著色防止，在電阻膜式觸摸面板中，由於在透明基板的整個面上層疊有透明導電膜，因此，如果力求以整體不產生不適感的級別防止著色，則是充分的。相比之下，在靜電容量式觸摸面板中，要達到不識別透明導電膜本身的級別，需要使透明導電基板(透明導電性膜)的反射率及透射率與沒有透明導電膜的部分無差別。上述專利文獻1所記載的透明導電基板中，難以識別由透明導電膜形成的格子狀圖案，因此是不充分的。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特開2011-98563號公報

技術實現要素：
發明要解決的技術問題如上所述，在靜電容量式觸摸面板中，當識別由透明導電性膜形成的格子狀圖案時，會導致觸摸面板顯示器的可視性降低等不良情況。本發明在這種狀況下進行，其目的在於，提供一種在可見光的短波長區域的透射率高、透明導電膜的層疊部分不明顯的觸摸面板用透明導電性膜，特別是用於提供靜電容量方式觸摸面板用透明導電性膜和所述透明導電性膜的透明導電膜層疊用膜及其有效的製造方法。解決問題的方法為了達到所述目的，本發明人等進行了深入研究，結果得到下述的見解。即，發現了一種透明導電膜層疊用膜，其是在透明基體材料的至少一面依次層疊低折射率層及高折射率層而成的，所述高折射率層的折射率和所述低折射率層的折射率之差為某個值以上的透明導電膜層疊用膜可以適於該目的；而且，所述透明導電膜層疊用膜可以通過具有特定工序的製造方法有效地製造；進而，通過在所述透明導電膜層疊用膜的高折射率層上層疊透明導電膜，得到所述透明導電膜的層疊部分不明顯的觸摸面板用透明導電性膜，特別是用於靜電容量方式觸摸面板的透明導電性膜。本發明基於上述見解而完成。即，本發明提供：[1]一種透明導電膜層疊用膜，其特徵在於，在透明基體材料的至少一面依次層疊(A)低折射率層、折射率比所述(A)低折射率層高0.2以上的(B)高折射率層；[2]如所述[1]項所記載的透明導電膜層疊用膜，其中，(A)低折射率層的折射率為1.30以上且小於1.60、膜厚為10nm以上且小於150nm，並且(B)高折射率層的折射率為1.60以上且小於2.00、膜厚為30nm以上且小於130nm；[3]一種透明導電性膜，其是在所述[1]或[2]項所記載的透明導電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊(C)透明導電膜而成的；以及[4]所述[1]或[2]項所記載的透明導電膜層疊用膜的製造方法，其特徵在於，具有：(a)在透明基體材料的至少一面塗布低折射率層用塗布劑並進行乾燥，然後照射活性能量射線使之固化，從而形成(A)低折射率層的工序；(b)在所述(a)工序中形成的(A)低折射率層上塗布高折射率層用塗布劑並進行乾燥，然後照射活性能量射線使之固化，從而形成(B)高折射率層的工序。即，本發明包括下述方面。一種透明導電膜層疊用膜，其包含透明基體材料、(A)低折射率層和(B)高折射率層，其特徵在於，在所述透明基體材料的至少一方面層疊所述(A)低折射率層，在所述(A)低折射率層上進一步層疊所述(B)高折射率層，所述(B)高折射率層的折射率比所述(A)低折射率層的折射率高0.2以上；如所記載的透明導電膜層疊用膜，其中，所述(A)低折射率層的折射率為1.30以上且小於1.60，所述(A)低折射率層的膜厚為10nm以上且小於150nm，且所述(B)高折射率層的折射率為1.60以上且小於2.00，所述(B)高折射率層的膜厚為30nm以上且小於130nm；如或所記載的透明導電膜層疊用膜，其中，所述(A)低折射率層包含活性能量射線固化型化合物、矽溶膠、中空二氧化矽微粒及多孔二氧化矽微粒中的至少1種；如～中任一項所記載的透明導電膜層疊用膜，其中，所述(B)高折射率層含有活性能量射線固化型化合物和金屬氧化物；一種透明導電性膜，其特徵在於，在～中任一項所記載的透明導電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊(C)透明導電膜；～中任一項所記載的透明導電膜層疊用膜的製造方法，其特徵在於，具有：(a)在透明基體材料的至少一面塗布低折射率層用塗布劑並進行乾燥，然後對所述低折射率層用塗布劑照射活性能量射線使之固化，而形成(A)低折射率層的工序；(b)在所述(a)工序中形成的(A)低折射率層上塗布高折射率層用塗布劑並進行乾燥，然後對所述高折射率層用塗布劑照射活性能量射線使之固化，而形成(B)高折射率層的工序。發明的效果根據本發明，可以提供在可見光的短波長區域的透射率高、透明導電膜的層疊部分不明顯的觸摸面板用透明導電性膜，特別是用於靜電容量方式觸摸面板的透明導電性膜和用於提供所述透明導電性膜的透明導電膜層疊用膜及其有效的製造方法。附圖說明圖1是表示本發明透明導電性膜的構成的一例的剖面示意圖。符號說明1透明基體材料2低折射率層3高折射率層4透明導電膜5透明導電膜層疊用膜10透明導電性膜具體實施方式首先，對本發明的透明導電膜層疊用膜進行說明。[透明導電膜層疊用膜]本發明的透明導電膜層疊用膜的特徵在於，包含：透明基體材料、(A)低折射率層和(B)高折射率層，在上述透明基體材料的至少一面層疊上述(A)低折射率層，在上述(A)低折射率層上進一步層疊上述(B)高折射率層，上述(B)高折射率層的折射率比上述(A)低折射率層的折射率高0.2以上。(透明基體材料)作為上述透明導電膜層疊用膜中使用的透明基體材料，優選為透明塑料膜。作為這種透明塑料膜，只要具有本發明的效果就沒有特別限制，可以從作為現有的光學用基體材料而公知的塑料膜中適當選擇具有透明性的基體材料進行使用。例如，可以優選列舉：聚對苯二甲酸乙二醇酯(下面，有時也簡稱為「PET」)、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(下面、也有時簡稱為「PEN」)等聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、賽璐玢、二乙醯纖維素膜、三乙醯纖維素膜、乙酸丁酸纖維素膜、聚氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、聚乙烯醇膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚甲基戊烯膜、聚碸膜、聚醚醚酮膜、聚醚碸膜、聚醚醯亞胺膜、聚醯亞胺膜、氟樹脂膜、聚醯胺膜、丙烯酸樹脂膜、降冰片烯系樹脂膜、環烯烴樹脂膜等塑料膜。其中，從耐熱性的觀點來看，進一步優選為：聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚醯亞胺膜、降冰片烯系樹脂膜、環烯烴樹脂膜等，當還考慮到膜在工序過程中破裂那樣的操作性時，特別優選為聚酯膜。關於這些透明基體材料的厚度，只要具有本發明的效果就沒有特別限制，可根據情況適當選定，通常為15～300μm，優選為30～250μm的範圍。另外，就該透明基體材料而言，出於提高與設於其表面的(A)低折射率層的密合性為目的，可以根據需要，通過氧化法或凹凸化法等對透明基體材料的一面或兩面實施表面處理。另外，還可以實施底塗處理。作為上述氧化法，例如使用：電暈放電處理、鉻酸處理(溼式)、火焰處理、熱風處理、臭氧或紫外線照射處理等。作為凹凸化法，例如使用噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理法根據透明基體材料的種類適當選擇，但從密合性的提高效果及操作性等方面來看，通常優選使用電暈放電處理法。((A)低折射率層)在上述透明導電膜層疊用膜中，對於形成(A)低折射率層(下面，有時也簡稱為「(A)層」)的材料，只要具有本發明的效果就沒有特別限定，例如優選通過利用活性能量射線使活性能量射線固化型化合物固化而得到的固化物形成。另外，為了調整折射率，也可以通過使混合有矽溶膠、多孔二氧化矽微粒、中空二氧化矽微粒等中的至少1種的活性能量射線固化型化合物固化而成的固化物形成。即，(A)層更優選包含活性能量射線固化型化合物、矽溶膠、多孔二氧化矽微粒及中空二氧化矽微粒中的至少1種。(A)低折射率層的折射率優選為1.30以上且小於1.60。在上述折射率小於1.30的情況下，可以作為(A)低折射率層使用的材料等受到限制，因此，與透明基體材料的密合性及膜的透明性等其它特性有時惡化。另一方面，在折射率超過1.60的情況下，與後述的(B)高折射率層的折射率差變小，有時不能充分發揮使透明導電膜的層疊部分不明顯的效果。即，(A)低折射率層的折射率如果為1.30以上且小於1.60，則可以使用與透明基體材料的密合性及膜的透明性等特性優異的材料形成上述低折射率層，另外，與(B)高折射率層的折射率之差成為0.2以上，因此，可充分發揮使透明導電膜的層疊部分不明顯的效果，故優選。另外，(A)低折射率層的折射率更優選為1.35～1.55，特別優選為1.38～1.50，最優選為1.39～1.49。另外，(A)低折射率層的膜厚優選為10nm以上且小於150nm。在上述膜厚小於10nm的情況下，(A)層表面的平滑性惡化，有時得不到本發明的效果。另一方面，在上述膜厚為150nm以上的情況下，有時不能得到使透明導電膜的層疊部分不明顯的效果。即，如果(A)低折射率層的膜厚為10nm以上且小於150nm，則不使(A)層表面的平滑性惡化，且可以得到使透明導電膜的層疊部分不明顯的效果，故優選。另外，(A)低折射率層的膜厚更優選為15～130nm，特別優選為17～115nm。在本發明中，優選用於(A)低折射率層的形成的活性能量射線固化型化合物是指，電磁波或帶電粒子束中具有能量量子的化合物，即通過照射紫外線或電子束等而交聯、固化的聚合性化合物。作為這種活性能量射線固化型化合物，例如可以列舉，光聚合性預聚物和/或光聚合性單體。另外，還可以使用鍵合有含聚合性不飽和基團的有機化合物的二氧化矽微粒(有機無機複合樹脂化合物)。上述光聚合性預聚物包括自由基聚合型和陽離子聚合型，作為自由基聚合型的光聚合性預聚物，例如可以列舉：聚酯丙烯酸酯系、環氧丙烯酸酯系、聚氨酯丙烯酸酯系、多元醇丙烯酸酯系等。其中，作為聚酯丙烯酸酯系預聚物，例如，可以使用通過下述方法而得到的化合物：將由多元羧酸和多元醇縮合而得到的兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基利用(甲基)丙烯酸進行酯化；或將向多元羧酸上加成氧化烯而得到的低聚物的末端羥基利用(甲基)丙烯酸進行酯化。作為環氧丙烯酸酯系預聚物，例如，可以使用通過使(甲基)丙烯酸與分子量較低的雙酚型環氧樹脂或酚醛清漆型環氧樹脂的環氧乙烷環反應，進行酯化而得到的化合物。作為聚氨酯丙烯酸酯系預聚物，例如，可以使用通過下述方法而得到的化合物：將聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯反應而得到的聚氨酯低聚物利用(甲基)丙烯酸進行酯化。另外，作為多元醇丙烯酸酯系預聚物，可以使用將聚醚多元醇的羥基部分利用(甲基)丙烯酸進行酯化而得到的化合物。這些自由基聚合型的光聚合性預聚物可以使用1種，也可以組合兩種以上進行使用。另一方面，作為陽離子聚合型的光聚合性預聚物，通常使用環氧系樹脂。作為該環氧系樹脂，例如可以列舉，將直鏈狀烯烴化合物、環狀烯烴化合物、利用表氯醇等使雙酚樹脂或酚醛清漆樹脂等多元酚類化合物環氧化而成的化合物通過過氧化物等進行氧化而得到的化合物等。另外，作為光聚合性單體，例如可以列舉：1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊基二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯、丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯。這些光聚合性單體可以使用1種，也可以組合兩種以上使用，另外，還可以與上述光聚合性預聚物組合使用。另外，作為鍵合有含聚合性不飽和基團的有機化合物的二氧化矽微粒(有機無機複合樹脂化合物)，可以使用通過使平均粒徑0.005～1μm左右的二氧化矽微粒表面的矽烷醇基與具有可與上述矽烷醇基反應的官能團且含聚合性不飽和基團的有機化合物反應而得到的二氧化矽微粒。作為具有可與矽烷醇基反應的官能團的聚合性不飽和基團，可以列舉例如自由基聚合性的丙烯醯基及甲基丙烯醯基等。這些聚合性化合物可以根據需要組合使用光聚合引發劑。作為該光聚合引發劑，對於自由基聚合型的光聚合性預聚物或光聚合性單體，例如可以列舉：苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻異丁醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對苯基二苯甲酮、4，4』-二乙基氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2，4-二甲基噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對二甲基氨基苯甲酸酯等。另外，作為針對陽離子聚合型的光聚合性預聚物的光聚合引發劑，例如可以列舉，由芳香族鋶離子、芳香族氧代鋶離子(oxosulfoniumion)、芳香族碘離子等與四氟硼酸酯、六氟磷酸酯、六氟銻酸酯、六氟砷酸酯等陰離子形成的化合物。這些化合物可以使用1種，也可以組合兩種以上使用，另外，相對於100質量份的上述光聚合性預聚物和/或光聚合性單體，其配合量通常在0.2～10質量份的範圍中選擇。在本發明中，在含有矽溶膠和活性能量射線固化型化合物的情況下，作為用於(A)低折射率層的形成的上述矽溶膠，優選使用平均粒徑為0.005～1μm左右、優選為10nm～100nm的二氧化矽微粒在醇系或溶纖劑系的有機溶劑中以膠體狀態混懸而成的膠體二氧化矽。另外，上述平均粒徑可以通過ζ電位測定法求得。在本發明中，也可以將具有空隙的中空二氧化矽微粒或多孔二氧化矽微粒、與活性能量射線固化型化合物用於(A)低折射率層的形成。中空二氧化矽微粒是指具有球(中空)結構的二氧化矽微粒，在球內部的空隙中填充有氣體例如折射率為1的空氣。另一方面，多孔二氧化矽微粒在其表面以開口的狀態或閉口的狀態具有微細的空隙，在該空隙內填充有上述折射率為1的空氣。由於空隙內填充有空氣，因此，這些中空二氧化矽微粒或多孔二氧化矽微粒具有本身的折射率低的特徵。將上述中空二氧化矽微粒或多孔二氧化矽微粒均勻分散在塗膜中而不形成聚集體的情況下，降低塗膜的折射率的效果高，同時透明性也優異。當與沒有空隙的普通膠體二氧化矽粒子(折射率n＝1.46左右)相比時，上述那樣具有空隙的中空二氧化矽微粒的折射率具有微粒本身的折射率低的特徵。具有空隙的中空二氧化矽微粒或多孔二氧化矽微粒是平均粒徑為5nm～300nm左右，優選為5nm～200nm，特別優選為10nm～100nm的微粒。填充於這些微粒的空隙中的氣體優選折射率為1的空氣。在本發明中，通過使用向活性能量射線固化型化合物中添加上述中空二氧化矽微粒或多孔二氧化矽微粒而得到的混合物形成(A)層，即使在活性能量射線固化型化合物的固化物具有1.45以上的高折射率的情況下，也能夠降低(A)層的折射率。另外，在本發明中使用的具有空隙的二氧化矽微粒由於平均粒徑為5nm～300nm左右，優選為5nm～200nm，特別優選非常小為10nm～100nm，所述分散有二氧化矽微粒的(A)層的透明性也優異。另外，上述平均粒徑可以通過ζ電位測定法求得。上述中空二氧化矽微粒及多孔二氧化矽微粒優選使用在溶劑中分散而成為膠體狀態(溶膠)的微粒。((B)高折射率層)在本發明的透明導電膜層疊用膜中，(B)高折射率層(下面，有時也稱為「(B)層」)的特徵在於，其是折射率比上述的(A)低折射率層高0.2以上的層。在(A)層和(B)層的折射率之差小於0.2的情況下，有時不能充分發揮有效利用(A)層及(B)層中的光的幹涉作用而使透明導電膜的層疊部分不明顯的本發明的效果。另外，對於形成(B)高折射率層的材料，只要具有本發明的效果，就沒有特別限定，優選通過例如混合活性能量射線固化型化合物和金屬氧化物而成的固化物形成。即，(B)層優選含有活性能量射線固化型化合物和金屬氧化物。(B)高折射率層的折射率優選為1.60以上且小於2.00。在上述折射率小於1.60的情況下，與(A)低折射率層的折射率之差過小，因此，有時不能充分發揮使透明導電膜的層疊部分不明顯的效果。另一方面，在上述折射率為2.00以上的情況下，可以作為(B)層選擇的材料等受到限制，因此，有時使與(A)低折射率層等的密合性及透明性等其它物性惡化。即，如果(B)高折射率層的折射率為1.60以上且小於2.00，則可以使用與(A)層的密合性及透明性等物性優異的材料形成上述(B)高折射率層，還由於與(A)低折射率層的折射率之差成為某個值以上，因此，可充分發揮使透明導電膜的層疊部分不明顯的效果，故優選。另外，(B)高折射率層的折射率優選為1.60～1.90，特別優選為1.65～1.89，最優選為1.69～1.88。另外，(B)高折射率層的膜厚優選為30nm以上且小於130nm。在上述膜厚小於30nm的情況下，(B)層表面的平滑性不充分，有時不能得到本發明的效果。另一方面，在上述膜厚為130nrn以上的情況下，有時不能得到使透明導電膜的層疊部分明顯的效果。即，如果(B)高折射率層的膜厚為30nm以上且小於130nm，則在(B)層表面得到充分的平滑性，能夠得到使透明導電膜的層疊部分不明顯的效果，故優選。從這種觀點出發，(B)高折射率層的膜厚進一步優選為35～120nm，特別優選為40～110nm。(B)高折射率層的形成所使用的活性能量射線固化型化合物可以使用與在上述的(A)低折射率層的說明中示出的活性能量射線固化型化合物相同的物質，優選的例子也相同。在本發明中，(B)高折射率層的形成所使用的金屬氧化物沒有特別限定，可以列舉：氧化鈦、氧化鋯、氧化鉭、氧化鋅、氧化銦、氧化鉿、氧化鈰、氧化錫、氧化鈮、氧化銦錫(ITO)、銻錫氧化物(ATO)等。這些金屬氧化物可以使用1種，也可以組合兩種以上使用。另外，相對於活性能量射線固化型化合物的上述金屬化合物的配合比例也可以以形成的(B)高折射率層的折射率為上述的範圍即1.60以上且小於2.00的方式選擇。(A)低折射率層和(B)高折射率層的折射率差為0.2以上。另外，(A)層和(B)層的折射率之差的上限為0.7左右。即，(A)層和(B)層的折射率之差更優選為0.2～0.7。當(A)層和(B)層的折射率之差超過0.7時，透明導電膜和(B)高折射率層的折射率過於接近，不能充分發揮(B)高折射率層的光的幹涉作用，有時損壞本發明的效果即透明導電膜的層疊部分不明顯的效果。接著，對本實施方式的透明導電膜層疊用膜的製造方法進行說明。[透明導電膜層疊用膜的製造方法]透明導電膜層疊用膜的製造方法的特徵在於，具有：(a)在透明基體材料的至少一面塗布低折射率層用塗布劑並進行乾燥，然後對上述低折射率層用塗布劑照射活性能量射線使之固化，而形成(A)低折射率層的工序；(b)在上述(a)工序中形成的(A)低折射率層上塗布高折射率層用塗布劑並進行乾燥，然後對上述高折射率層用塗布劑照射活性能量射線使之固化，從而形成(B)高折射率層的工序。下面，省略與目前為止的內容重複的部分，只詳細敘述不同的部分。((a)工序)(a)工序如下，將在上述透明基體材料的至少一面形成低折射率層的上述材料使用規定溶劑稀釋溶解成規定的濃度，製備低折射率層塗布劑之後，使用目前公知的方法，例如：棒塗法、刀塗法、輥塗法、刮板塗布法、模塗法、凹版塗布法等，在上述透明基體材料的至少一面塗布上述低折射率層用塗布劑形成塗膜，進行乾燥，然後對其照射活性能量射線，使上述塗膜固化，由此，形成(A)低折射率層。在本發明的透明導電膜層疊用膜的製造方法中，作為低折射率層塗布劑，優選含有上述活性能量射線固化型化合物和溶劑，更優選含有矽溶膠、中空二氧化矽微粒及多孔二氧化矽微粒中的至少1種、活性能量射線固化型化合物和溶劑。在上述低折射率層用塗布劑含有矽溶膠、中空二氧化矽微粒及多孔二氧化矽微粒中的至少1種、活性能量射線固化型化合物、和溶劑的情況下，相對於100質量份的活性能量射線固化型化合物，低折射率層用塗布劑中上述矽溶膠、中空二氧化矽微粒或多孔二氧化矽微粒的配合量優選為50～500質量份，更優選為80～300質量份，特別優選為100～250質量份。相對於100質量份的活性能量射線固化型化合物，配合上述矽溶膠、中空二氧化矽微粒或多孔二氧化矽微粒50～500質量份，由此，易於將使用本發明的低折射率層用塗布劑形成的(A)層的折射率調整為上述範圍，故優選。作為上述溶劑，例如可以列舉：己烷、庚烷等脂肪烴、甲苯、二甲苯等芳香族烴、二氯甲烷、氯乙烯等滷代烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙二醇單甲基醚等醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、2-戊酮、異佛爾酮、環己酮等酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基溶纖劑等溶纖劑系溶劑等。溶劑也可以只使用1種，也可以組合使用兩種以上。在組合使用兩種以上溶劑的情況下，例如，通過組合使用常溫下的蒸氣壓不同的兩種溶劑，能夠提高塗膜的乾燥速度和表面平滑性。在組合使用兩種以上溶劑的情況下，優選列舉組合使用例如20℃下的蒸氣壓為1.5kPa以上的溶劑和小於1.0kPa的溶劑。作為使用比例，以質量比計，優選20℃下的蒸氣壓為1.5kPa以上的溶劑∶20℃下的蒸氣壓小於1.0kPa的溶劑＝30∶70～70∶30，特別優選為40∶60～60∶40。作為上述溶劑組合的具體例，優選列舉，甲基異丁基酮(20℃下的蒸氣壓為2.1kPa)和環己酮(20℃下的蒸氣壓為0.7kPa)的組合。作為低折射率層用塗布劑中的固體成分濃度，只要調節固體成分濃度使其成為可塗布程度的粘度即可，可以根據情況適當調整。例如，從將得到的(A)低折射率層的膜厚調節成上述10nm以上且小於150nm範圍的觀點來看，固體成分濃度優選為0.05～10質量％，特別優選為0.1～8質量％。另外，上述塗膜的乾燥優選在60～150℃下進行10秒鐘～10分鐘左右。另外，作為活性能量射線，例如可以列舉，紫外線或電子束等。上述紫外線由高壓汞燈、無電極燈、金屬滷化物燈、氙氣燈等得到，照射量通常為100～500mJ/cm2。另一方面，電子束由電子束加速器等得到，照射量通常為150～350kV。在該活性能量射線中，紫外線特別適合。另外，在使用電子束的情況下，不添加光聚合引發劑，就能夠得到(A)低折射率層。((b)工序)(b)工序如下，將形成高折射率層的上述材料使用規定溶劑稀釋溶解成規定濃度，製備高折射率層用塗布劑後，使用目前公知的方法，例如：棒塗法、刀塗法、輥塗法、刮板塗布法、模塗法、凹版塗布法等塗布在上述(a)工序中形成的(A)低折射率層上，形成塗膜，進行乾燥，然後對其照射活性能量射線，使上述塗膜固化，由此，形成(B)高折射率層。作為高折射率層塗布劑，優選含有上述活性能量射線固化型化合物、金屬氧化物和溶劑。溶劑種類、溶劑的稀釋條件、乾燥條件及活性能量射線照射條件均與上述(a)工序相同。通過以上具有(a)～(b)工序的製造方法，能夠適宜地製作上述透明導電膜層疊用膜。接著，對本發明的透明導電性膜進行說明。[透明導電性膜]本發明的透明導電性膜的特徵在於，在上述透明導電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊(C)透明導電膜而成。即，本發明的透明導電性膜的特徵在於，含有上述透明基體材料、上述(A)低折射率層、上述(B)高折射率層、(C)透明導電膜，在上述透明基體材料上層疊上述(A)低折射率層，在上述(A)低折射率層上層疊上述(B)高折射率層，在上述(B)高折射率層上進一步層疊(C)透明導電膜，上述(B)高折射率層的折射率比上述(A)低折射率層的折射率高0.2以上。圖1是表示本發明透明導電性膜的構成的一例的剖面示意圖。透明導電性膜10具有如下構成，即，在透明基體材料1的一個面上依次層疊低折射率層2及高折射率層3而形成透明導電膜層疊用膜5，在透明導電膜層疊用膜5的高折射率層3上層疊有透明導電膜4。通過將高折射率的透明導電膜4和高折射率層3以相接的方式層疊，在通過蝕刻處理等將透明導電膜4圖案化的情況下，能夠將露出的高折射率層3的部分和透明導電膜4的層疊部分的各自的折射率保持在比較接近的狀態。因此，實現兩者的反射特性一致，且透明導電膜4的層疊部分不明顯的效果。另外，在如此構成的透明導電性膜10中，通過將低折射率層2和高折射率層3的折射率差及各自的膜厚控制在上述規定的範圍中，可以減少對於透明導電膜4的入射光在各界面處的反射光並使其發生幹涉。同樣，可以減少對於除去了透明導電膜4而露出的高折射率層3的入射光在各界面處的反射光並使其發生幹涉。作為其結果，能夠抑制因透明導電膜4的入射光引起的來自透明導電性膜10的反射光、和因高折射率層3的入射光引起的來自透明導電性膜10的反射光的各自強度，並且使其可見光區域的反射率一致。因此，可見光區域中的透射率高且透明導電膜4的層疊部分不明顯，上述透明導電性膜10能夠適用於例如觸摸面板，特別是靜電容量方式觸摸面板等。((C)透明導電膜)在本發明的透明導電性膜中，作為層疊於(B)高折射率層上的(C)透明導電膜，只要是兼具透明性和導電性的材料，且具有本發明的效果，就可以沒有特別限制地使用，作為代表性的材料，可以列舉，氧化銦、氧化鋅、氧化錫、銦-錫複合氧化物、錫-銻複合氧化物、鋅-鋁複合氧化物、銦-鋅複合氧化等膜作為優選的材料。已知這些化合物薄膜通過採用適當的成膜條件，製成兼具透明性和導電性的透明導電膜。上述(C)透明導電膜的膜厚優選為4nm以上，更優選為5nm以上，特別優選為10nrn以上，且優選為800nm以下，更優選為500nm以下，特別優選為100nm以下。在上述膜厚小於4nm的情況下，難以製成連續的膜，有時得不到穩定的導電性，相反，當超過800nm而變得過厚時，有時透明性降低。即，如果(C)透明導電膜的膜厚為4～800nm，則易於形成連續的膜，且透明性不會降低，故優選。[透明導電膜的製造方法]在本發明的透明導電膜中，作為(C)透明導電膜的形成法，只要根據上述材料的種類及需要膜厚適當選擇採用真空蒸鍍法、濺射法、CVD法、離子鍍法、噴霧法、溶膠-凝膠法等公知的方法即可。在本發明中，優選使用濺射法形成透明導電膜。在使用濺射法形成(C)透明導電膜的情況下，可採用使用化合物的通常的濺射法或使用金屬靶的反應性濺射法等。此時，作為反應性氣體，導入氧、氮、水蒸氣等，或組合使用臭氧添加及離子輔助等也是有效的。另外，上述透明導電膜在如上述那樣制膜後，也可以通過光刻法形成規定圖案的抗蝕掩膜，通過公知的方法實施蝕刻處理，形成線狀等。就本發明的透明導電性膜而言，在波長為450～650nm的範圍中，透明導電性膜的(C)透明導電膜的層疊部分和透明導電性膜的(C)透明導電膜的非層疊部分的透射率之差的絕對值優選為5以下。透明導電膜和塑料膜(透明導電膜層疊用膜)由於材質大為不同，因此，可見光區域中的折射率的波長分散特性通常不同。因此，發現由於可見光區域內的波長分散特性不同的區域的作用，得到的透明導電性膜發生著色現象。在本發明中，通過選擇上述透明導電膜層疊用膜的構成，在波長為450～650nm的範圍中，可以將透明導電性膜的(C)透明導電膜層疊前後的透射率差的絕對值設為5以下。即，在本發明的透明導電膜層疊用膜中，即使層疊透明導電膜後，在波長為450～600nm的範圍的透射率也不降低，能夠維持高透明性。由此，能夠有效防止透明導電膜引起的著色。如上述圖1所示，本發明的透明導電性膜是在構成極其簡單的透明導電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊具有例如線狀等的透明導電膜而成的，可見光在短波長區域的透射率高，且識別不到上述透明導電膜的層疊部分，適用於觸摸面板，特別是靜電容量方式觸摸面板用途。實施例接著，通過實施例對本發明進一步詳細地進行說明，但不是通過這些例子限定本發明。另外，折射率根據JISK7142：2008的A法使用ATAGO公司制折射率儀進行測定。另外，(A)低折射率層及(B)高折射率層的膜厚使用偏振光橢圓率測量儀進行測定。另外，對在各例子中得到的導電性膜進行下述的評價。(1)透射率差在製作的透明導電性膜的(C)透明導電膜的層疊部分及非層疊部分，測定透射光譜，求得波長為450～650nm範圍的透射率差的絕對值的最大值。作為透射率測定儀器，使用(株式會社)島津製作所制，產品型號「UV-3600」。(2)目視評價根據各例子，得到長寬90mm×90mm的透明導電膜層疊用膜，並得到在其中央層疊有長寬60mm×60mm的透明導電膜的透明導電性膜。對於膜，以目視，1)在反射光下及2)在透射光下，基於下面的判定基準評價透明導電膜的有無，色調是否發生變化。(評價條件)1)在反射光下的評價：將透明導電性膜設置在距白色螢光燈1m的距離，使白色螢光燈映入透明導電性膜，從相對於透明導電性膜與白色螢光燈相同一側，在離透明導電性膜30cm的位置對透明導電膜的有無進行評價。2)在透射光下的評價：將透明導電性膜設置在距白色螢光燈1m的距離，從相對於透明導電性膜與白色螢光燈相反側，以隔著透明導電性膜能觀察到白色螢光燈的方式，在距透明導電性膜30cm的位置對透明導電膜的有無進行評價(評價基準)A：1)在反射光下、及2)在透射光下均不能識別透明導電膜的著色和界限。B：1)在反射光下、或2)在透射光下的任意情況下可識別透明導電膜局部著色。C：1)在反射光下、及2)在透射光下均可識別透明導電膜的界限。(3)光線透射率對在各例中得到的透明導電性膜的透明導電膜層疊部分，根據JISK7105測定波長550nm的光線透射率。另外，對於得到的結果，在光線透射率為86％以上的情況下，設為A，小於86％設為B，進行評價。製備例L-1低折射率層用塗布劑1作為活性能量射線固化型化合物，添加100質量份的硬塗劑(大日精化工業(株)制，商品名「SEIKABEAMXF-01L(NS)」，固體成分濃度100質量％，含有多官能丙烯酸酯的活性能量射線固化型化合物95質量％，光聚合引發劑5質量％)及660質量份的矽膠(日產化學(株)制，商品名「PGM-ST」，平均粒徑15nm的二氧化矽微粒30質量％，丙二醇單甲基醚70質量％)、0.3質量份的光聚合引發劑(BASF公司制，商品名「Irgacure907」，固體成分濃度100質量％)，作為稀釋溶劑，添加2600質量份的甲基異丁基酮、2600質量份的環己酮並均勻混合，製作了固體成分濃度約為5.0質量％的低折射率層用塗布劑L-1。製備例L-2低折射率層用塗布劑2作為活性能量射線固化型化合物，添加10質量份的硬塗劑(荒川化學工業(株)制，商品名「Beamset575CB」，固體成分濃度100質量％，含有聚氨酯丙烯酸酯的活性能量射線固化型化合物95質量％，光聚合引發劑5質量％)及50質量份的中空矽溶膠(日揮觸媒化成(株)制，商品名「ThruRear4320」，平均粒徑60nm的中空二氧化矽微粒20質量％，甲基異丁基酮80質量％)、0.03質量份的光聚合引發劑(BASF公司制，商品名「Irgacure907」，固體成分濃度100質量％)，作為稀釋溶劑，添加5000質量份的甲基異丁基酮，5000質量份的環己酮並均勻混合，製作了固體成分濃度約為0.2質量％的低折射率層用塗布劑L-2。製備例L-3低折射率層用塗布劑3除了使用4000質量份的甲基異丁基酮、4000質量份的環己酮作為稀釋溶劑以外，與製備例L-1一樣地製備，製作了固體成分濃度約為3.4質量％的低折射率層用塗布劑L-3。製備例L-4低折射率層用塗布劑4除了使用330質量份的矽溶膠(日產化學(株)制，商品名「PGM-ST」，平均粒徑15nm的二氧化矽微粒30質量％，丙二醇單甲基醚70質量％)，使用4750質量份的甲基異丁基酮，4750質量份的環己酮作為稀釋溶劑以外，與製備例L-1一樣地製備，製作了固體成分濃度約為2.0質量％的低折射率層用塗布劑L-4。製備例H-1高折射率層用塗布劑1作為活性能量射線固化型化合物，添加100質量份含有氧化鋯的高折射率塗布劑(Atomix(株)制，商品名「アトムコンポブリツドHUVSRZ100」，氧化鋯的固體成分濃度30質量％)及0.9質量份的光聚合引發劑(BASF公司制，商品名「Irgacure907」，固體成分濃度100質量％)，作為稀釋溶劑，添加450質量份的甲基異丁基酮、450質量份的環己酮並均勻混合，製作了固體成分濃度約為3.1質量％的高折射率層用塗布劑H-1。製備例H-2高折射率層用塗布劑2作為活性能量射線固化型化合物，添加100質量份的硬塗劑(大日精化工業(株)制，商品名「SEIKABEAMXF-01L(NS)」，固體成分濃度100質量％，含有多官能丙烯酸酯的活性能量射線固化型化合物95質量％，光聚合引發劑5質量％)及455質量份的氧化鈦漿液(Tayca(株)制，平均粒徑10nm的氧化鈦微粒33質量％，丙二醇單甲基醚67質量％)、0.3質量份的光聚合引發劑(BASF公司制，商品名「Irgacure907」，固體成分濃度100質量％)，作為稀釋溶劑，添加3000質量份的甲基異丁基酮、3000質量份的環己酮並均勻混合，製作了固體成分濃度約為3.8質量％的高折射率層用塗布劑H-2。實施例1在厚度125μm的PET膜(東洋紡織(株)制，「CosmoshineA4300」)的表面上，以麥耶棒#4塗布在製備例L-1中製備的上述低折射率層用塗布劑1。在70℃的烘箱中乾燥1分鐘後，在氮氛圍下，利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，得到(A)低折射率層處理PET。在(A)低折射率層上以麥耶棒#6塗布在製備例H-1中製備的上述高折射率層用塗布劑1。在70℃的烘箱中乾燥1分鐘後，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，由此，得到在(A)層上層疊有(B)層的透明導電膜層疊用膜。使用ITO靶材(氧化錫10質量％)在得到的透明導電膜層疊用膜上進行濺射，在(B)高折射率層上形成厚度30nm的(C)透明導電膜，製作了透明導電性膜。將該透明導電性膜的評價結果在表1中示出。實施例2除了使用在製備例L-2中製備的上述低折射率層用塗布劑2形成(A)低折射率層以外，進行與實施例1一樣的操作，製作了透明導電性膜。將該透明導電性膜的評價結果在表1中示出。實施例3除了使用在製備例H-2中製備的上述高折射率層用塗布劑2形成(B)高折射率層以外，進行與實施例2一樣的操作，製作了透明導電性膜。將該透明導電性膜的評價結果在表1中示出。比較例1在厚度125μm的PET膜(東洋紡織(株)制，「CosmoshineA4300」)的表面上，以麥耶棒#6塗布在製備例H-1中製備的上述高折射率層用塗布劑1。在70℃的烘箱中乾燥1分鐘後，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，得到高折射率層處理PET。在高折射率層上以麥耶棒#4塗布在製備例L-3中製備的上述低折射率層用塗布劑3。在70℃的烘箱中乾燥1分鐘後，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，由此，得到在高折射率層上層疊有低折射率層的透明導電膜層疊用膜。使用ITO靶材(氧化錫10質量％)對得到的透明導電膜層疊用膜進行濺射，在低折射率層上形成厚度30nm的透明導電膜，製作了透明導電性膜。將該透明導電性膜的評價結果在表1中示出。比較例2在厚度125μm的PET膜(東洋紡織(株)制，「CosmoshineA4300」)的表面上以麥耶棒#6塗布在製備例H-1中製備的上述高折射率層用塗布劑1。在70℃的烘箱中乾燥1分鐘後，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，得到高折射率層處理PET。使用ITO靶材(氧化錫10質量％)對得到的高折射率層處理PET進行濺射，在高折射率層上形成厚度30nm的透明導電膜，製作了透明導電性膜。將該透明導電性膜的評價結果在表1中示出。比較例3除了使用在製備例L-4中製備的上述低折射率層用塗布劑4形成低折射率層以外，進行與實施例3一樣的操作，製作了透明導電性膜。將該透明導電性膜的評價結果在表1中示出。[表1]如表1所示，在(A)低折射率層上層疊(B)高折射率層、且在(B)層和(A)層的折射率之差為0.2以上的透明導電膜層疊用膜的(B)層上層疊(C)透明導電膜而得到的實施例1～3的透明導電性膜在反射光下及在透射光下均未識別到透明導電膜的界限及著色。工業實用性本發明的透明導電性膜是在構成極其簡單的透明導電膜層疊用膜的高折射率層上層疊具有例如線狀等的透明導電膜而成的，其在可見光的短波長區域的透射率高且未識別到利用上述透明導電膜形成的圖案形狀，適於作為觸摸面板，特別是靜電容量方式觸摸面板用途。