3-位取代的n-甲基哌嗪的合成方法

2023-10-23 16:44:52 1

專利名稱：3-位取代的n-甲基哌嗪的合成方法
技術領域：
本發明涉及3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法，屬於醫藥、化工技術領域。
背景技術：
N-甲基哌嗪是重要的醫藥中間體，用於製備抗菌類藥物甲哌利福黴素、氧氟沙星等；同時，也是抗精神病藥三氟拉嗪、氯氮平、西地那非、吐立抗、佐匹克隆等藥物的中間體，亦可用於農藥、染料、塑料等行業。3-位取代的N-甲基哌嗪可以用來合成抗憂鬱、抗腫瘤、和抗菌的藥物等，可以採用如下合成路線(JHC1991，28，1219-1224):
權利要求
1.本發明公開了一種3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法，包含以下步驟:(1)3-氧代哌嗪-1-甲酸叔丁酯和碘甲烷發生反應，得到中間體4-甲基-3-氧代哌嗪-1-甲酸叔丁酯；(2)上述所得中間體在鹼作用下，得到2-位取代的化合物；(3)上述所得2-位取代的化合物經還原，得到2-位取代的4-甲基哌嗪-1-甲酸叔丁酯；(4)在酸性條件下脫-BOC得到目標化合物。
2.如權利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第一步，其特徵在於:所用的甲基化試劑，包含但不限於碘甲烷、硫酸二甲酯等；所用的鹼，包含但不限於鈉氫、碳酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、甲醇鈉等；反應溶劑為四氫呋喃，也可以為DMF、二氧六環、乙醇-水等；反應溫度為O 50°C。
3.如權利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第二步，其特徵在於:所用的鹼，包含但不限於LiHMDS、NaHMDS, LDA等；反應溶劑為四氫呋喃，也可以為DMF、二氧六環等 ，反應溫度為-78V。
4.如權利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第三步，其特徵在於:所用的還原劑，包含但不限於硼烷、LiAlH4等；反應溶劑為四氫呋喃，也可以為乙醚、二氯甲烷等；反應溫度為-20°C至室溫。
5.如權利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第四步，其特徵在於:所用的酸，包含但不限於甲磺酸、鹽酸、氯化氫、溴化氫和三氟乙酸等；反應溶劑為甲醇，也可以為乙醇、二氯甲烷等；反應溫度為室溫。
全文摘要
本發明公開了一種3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法，以3-氧代哌嗪-1-甲酸叔丁酯為起始原料發生甲基化反應，然後引入取代基，還原、脫-BOC得到3-位取代的N-甲基哌嗪。本發明方法簡便、易操作，適合於大量製備。
文檔編號C07D241/04GK103242246SQ20131018988
公開日2013年8月14日 申請日期2013年5月21日 優先權日2013年5月21日
發明者邵東, 邵文祺 申請人:蘇州科捷生物醫藥有限公司