影象形成材料和銨化合物的製作方法

2023-09-22 02:18:45

專利名稱：影象形成材料和銨化合物的製作方法
技術領域：
本發明涉及用做膠印印品的影象記錄材料和用做記錄材料的銨化合物，特別涉及用做紅外雷射用陽圖平版印刷印版前體的陽圖影象形成材料，該平版印版前體可用於由特別來自計算機的數位訊號直接製版，還涉及用於改進該影象形成材料耐鹼性地新型銨化合物。
背景技術：
雷射器的最新進展是十分顯著的，特別是作為具有從近紅外區到紅外區發射的固體雷射/半導體雷射，已經很容易獲得高輸出和小尺寸的雷射器。當直接從計算機等的數字數據直接製版時，這些雷射器特別可以用做曝光光源。
在用於紅外雷射器進行直接製版並且早就為人所公知的陽圖光敏影象傳遞材料中，把線形酚醛樹脂用做可溶於鹼水溶液的樹脂。比如，在未決
公開日本專利申請(JP-A)7-285275中公開的陽圖光敏影象形成材料是一種材料，其中在可溶於鹼水溶液的樹脂，比如具有酚羥基的線形酚醛樹脂中添加了吸收光線可以產生熱的化合物和陽圖光敏化合物比如各種鎓鹽和醌二疊氮化合物，其中陽圖光敏化合物作為溶解抑制劑，顯著地降低了可溶於鹼水溶液樹脂在影象部分的溶解度，而由於在無影象部分受到加熱，最終沒有顯示出溶解抑制作用，從而通過顯影使無影象部分可以被除去，由此就形成了影象。
在WO97/39894和EP-0823327A2中敘述的陽圖光敏影象形成材料含有吸收光能夠產生熱的材料和通過加熱其在鹼水溶液中的溶解度可以改變的樹脂，其中這些影象形成材料在成象部分具有很低的在鹼水溶液中的溶解度，而在非成象部分，由於加熱而具有增大的在鹼水溶液中的溶解度，從而通過顯影使得非成象部分最終可以除去，因此就形成了影象。
在當前的膠版印版中，特別優選使用線形酚醛樹脂，這是由於與溶解抑制劑的強相互作用使得在曝光部分和未曝光部分在顯影液中溶解度有很大差別，也由於此樹脂具有很強的接受油墨的能力。而對於紅外雷射器用的陽圖光敏影象形成材料，由於同樣的原因也使用線形酚醛樹脂。
然而，在使用紅外雷射進行曝光時，熱模式的陽圖影象形成材料具有問題，這就是在曝光部分和未曝光部分對顯影液中的溶解度差(溶解度鑑別性)不夠，由於工作條件的變化容易引起顯影過度和顯影不足。還有在操作過程中由於觸摸表面使表麵條件稍有變化的情況下，未曝光部分(影象部分)溶解於顯影液，留下了瘢痕狀的部分，使印刷耐久性劣化和印刷粘結性下降，使人擔心對各種性能比如加工穩定性、顯影寬容度和耐擦傷性的影響。

發明內容
因此，本發明的一個目的是，提供一種熱模式的陽圖影象形成材料，該材料具有優異的溶解度鑑別性，進一步提供一種用於陽圖平版印版前體的影象形成材料，在通過顯影而形成影象時，它最終具有很高的寬容度，耐擦傷性得到改善，能夠形成高反差的影象。
本發明人進行了研究，結果發現，通過添加下面通式(1)所表示的化合物，使溶解鑑別性有了明顯的改善。因此就完成了本發明。
這就是說，本發明的一個方面提供了一種影象形成材料，該材料包括含有不溶於水而溶解於鹼的樹脂、光-熱轉換劑和如下通式(1)所表示的化合物的影象形成層
通式(1)
其中，R1～R3獨立地表示有機基團，這裡R1表示形成含N1原子環的殘基，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，或者R2和R3中至少一個和R1鍵合，形成環，而X-表示有機酸或無機酸的共軛鹼。
此影象形成材料具有熱模式型的影象形成層，能夠經紅外雷射的輻照而形成影象。
雖然本發明的作用過程還不清楚，但可以認為，由於與樹脂的相互靜電作用，具有如通式(1)所示環的銨化合物被證明具有很強的對鹼溶性樹脂的溶解抑制能力(抑制性)，而且由於在加熱模式的曝光過程中環的硬骨架作用，N+原子受到立體的遮蔽，分子側鏈的活動性受到了限制，從而使銨化合物和黏合劑之間難以形成一旦溶解就應該產生的相互作用，因此有效地抑制了溶解，最終導致成象部分(未曝光部分)的強度和非成象部分(曝光部分)在鹼性顯影液中優異的溶解性是一致的，賦予其很大的溶解度鑑別性。由此結果還認為，實際上不降低敏感度就做到了對顯影寬容度和耐擦傷性能的改善。這樣使得能夠形成高反差的影象。
在通式(1)所表示的化合物當中，用下面通式(1-N)表示的銨化合物是新型化合物，特別優選用做本發明的影象形成材料，而且改善了該影象形成材料的耐鹼性。
通式(1-N)
其中RN1和RN2獨立地表示選自烷基、烯基、炔基、芳基、氨基、烷氧基、芳氧基、醯基、烷氧羰基、芳氧羰基、醯氧基醯氨基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、磺醯氨基、氨磺醯基、氨基甲醯基、烷硫基、芳硫基、磺醯基、羥基、巰基、滷原子、氰基、磺基、羧基和硝基，m和n獨立地表示0～5的整數，條件是，分別存在有多個RN1和RN2，此多個RN1和RN2獨立地可以相同或不同，或者獨立地互相鍵合而形成環，Y表示-CH2-、-O-或-S-，而X-表示相當於有機酸或無機酸共軛鹼的陰離子。
應該注意到，在本發明中「可用於熱模式的」意味著能夠通過熱模式曝光進行記錄。在本發明中將詳細地敘述熱模式曝光的定義。如在國際數字印刷技術大會的Hans-JoachimTimpe，IS&Ts NIP 151999，p.209中所述，已知在光吸收材料(比如染料)受到光激發時，通過光敏材料的化學或物理變化而形成影象的方法中，即在由光吸收材料受到光激發而發生化學或物理變化的方法中，當把此方法按模式進行大致分類時，有兩種模式。其中一種模式叫做光模式，在此種模式中，由於在光敏材料中與其他活性材料進行光化學的相互作用(比如能量轉移和電子轉移)使得光激發的光吸收材料被失活，結果活化的活性材料引起形成影象所需的化學或物理變化。另一種叫做熱模式，在此種模式中，利用熱使光激發的光吸收材料產生使活性材料失活的熱，引起形成影象所需的化學或物理變化。雖然除了上述模式以外還有一些專門的模式，比如燒蝕模式和多光子吸收模式，在前一種模式中，材料被局部集合的光能進行曝光而燒蝕；在後一種模式中，一個分子同時吸收大量的光子，但這些模式在此都被忽略。
能夠使用前面每種模式的曝光方法就被看作是光子模式曝光和熱模式曝光。光子模式曝光和熱模式曝光之間在技術上的差別基於在計算所需反應需要的能量時曝光用少量光子的能量是否能夠合計。比如，假設使用n個光子會引起某些反應。在光子模式曝光中使用了光化學相互作用。因此，由於量子能和動量守恆定律，每個光子的能量不能合計。也就是說，為了引起某個反應，必須確定「一個光子的能量≥反應能」的關係。而另一方面，在熱模式曝光中，由於光能轉化為其能量可以合計的熱，能量就可以合計。因此，只要求確定「n個光子的能量≥反應能」的關係。在此情況下，熱擴散限制了能量的合計。這就是說，如果直到由於熱從當前聚焦曝光部分(反應點)擴散而使熱消失以前就開始了下一次光激發失活過程產生熱的話，此熱量一定會積累起來而合計在一起，這就會導致在此部分溫度上升。然而，當下一次發熱很慢時，熱量就會消散而不會積累。這就是說，在熱模式曝光時，在短時間使用高能量的光和長時間使用低能量的光之間，結果上會有差異。前一種情況對於熱量積累是更有利的。
雖然在光子模式曝光中會有由於後面反應物擴散的影響而發生類似現象的情況，但發生這樣情況不是最基本的。
這就是說，在作為光敏材料的特徵進行觀察的情況下，在光子模式中光敏材料的固有敏感度(對於形成影象所需的反應能)對曝光能的密度(w/cm2)(＝單位小時的能量密度)是保持恆定的，而在熱模式中，隨著曝光能量密度增加，光敏材料的固有敏感度是增大的。因此，當實際上的曝光時間的數量級固定在能夠保持如影象形成材料所需的生產率的條件下對每種模式進行比較時，在光子模式中一般可達到高達大約0.1mJ/cm2的敏感度。然而，在光子模式曝光時，不管量是如何小，都會引起反應，因此容易引起低曝光霧的問題。反之，在熱模式曝光中，如果曝光量高於某個水平，不會引起反應，與光敏材料的熱穩定性有關的一般需要大約50mJ/cm2的曝光量；但卻避免了低曝光霧的問題。
實際上，在熱模式曝光中，在光敏材料版面上的曝光能密度必須達到5,000w/cm2或者更高，優選是10,000w/cm2或更高。然而，雖然這裡沒有詳細地敘述，當使用能量密度高達5.0×105w/cm2或更高的雷射時，就會發生燒蝕，給出諸如光源汙染的問題，因此不希望使用這樣的雷射。
具體實施例方式
下面將詳細解釋本發明。
本發明的影象形成材料在影象形成層必須含有具有如通式(1)所示環的銨化合物，鹼溶性樹脂和光-熱轉換劑。組成影象形成層的各個組分將在後面逐個說明。
通式(1)表示的化合物
在通式(1)中的R1～R3獨立地表示有機基團，R1表示形成含N1原子環的殘基。在此，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，或者R2和R3中至少一個可以與R1鍵合形成環。X-表示有機酸或無機酸的共軛鹼。
只要是形成含有N1原子環的多價有機基團，R1可以是任何基團，這裡不僅可以是烴類的環，也可以是含有多個氮原子或其他雜原子比如氧原子或硫原子的環。R1也可以是具有雙鍵的環或者具有多環結構的環。
R1的優選例子包括能夠形成3～10元環結構的基團。考慮到抑制溶解度的能力，具有3元環～8元環的是優選的；而考慮到合成的傾向，5元環或6元環的結構是優選的。
含有N1原子的環可以具有取代基。取代基的例子包括烷基、芳基和滷原子。
雖然R2和R3可以任意選自整個的有機基團，但優選是比如烷基、芳基或如下通式(2)表示的基團，其中從發揮抑制性，即有強的溶解度抑制能力的觀點看，兩者碳原子數的和是6或者更多。再有，它們之中至少一個具有分支或環狀的結構。它們之中的至少一個還優選含有一個芳香環，更優選的是，R2和R3都含有芳香環
通式(2)
其中R4、R5和R6獨立地表示任何可以互相鍵合形成環的任選取代基，它們可以相同或者不同，或者與C1原子形成雙鍵，n表示0或者1的整數，而m表示0～5的整數，當存在多個R6時，它們可以相同或者不同，或者可以互相鍵合形成環。從合成傾向性的觀點出發，當n是1時，其中R4和R5中至少一個是氫原子的結構是優選的，而其中兩個都是氫原子的結構是最優選的。
R2或R3表示的取代基的例子可包括烷基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體的例子包括甲基、乙基、正丁基、異丙基、叔丁基、正辛基、正癸基、正十六烷基、環丙基、環戊基、環己基和2-環己基乙基)、烯基(優選具有2～20個碳原子，更優選具有2～12個碳原子，特別優選具有2～8個碳原子，具體的例子包括乙烯基、烯丙基、2-丁烯基、3-戊烯基和2-環己烯基甲基)、炔基(優選具有2～20個碳原子，更優選具有2～12個碳原子，特別優選具有2～8個碳原子，具體例子包括炔丙基和3-戊炔基)、芳基(優選具有6～30個碳原子，更優選具有6～20個碳原子，特別優選具有6～12個碳原子，具體例子包括苯基、對甲基苯基和萘基)、氨基(優選具有0～20個碳原子，更優選具有0～12個碳原子，特別優選具有0～6個碳原子，具體例子包括氨基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二苯基氨基和二苄基氨基)、烷氧基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～12個碳原子，特別優選具有1～8個碳原子，具體例子包括甲氧基、乙氧基和丁氧基)、芳氧基(優選具有6～20個碳原子，更優選具有6～16個碳原子，特別優選具有6～12個碳原子，具體例子包括苯氧基和2-萘氧基)、醯基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12碳原子，具體例子包括乙醯基、苯甲醯基、甲醯基和新戊醯基)、烷氧羰基(優選具有2～20個碳原子，更優選具有2～16個碳原子，特別優選具有2～12個碳原子，具體例子包括甲氧基羰基和乙氧基羰基)、芳氧羰基(優選具有7～20個碳原子，更優選具有7～16個碳原子，特別優選具有7～10個碳原子，具體例子包括苯氧羰基)、醯氧基(優選具有2～20個碳原子，更優選具有2～16個碳原子，特別優選具有2～10個碳原子，具體例子包括乙醯氧基和苯甲醯氧基)、醯氨基(優選具有2～20個碳原子，更優選具有2～16個碳原子，特別優選具有2～10個碳原子，具體例子包括乙醯基氨基和苯甲醯基氨基)、烷氧羰基氨基(優選具有2～20個碳原子，更優選具有2～16個碳原子，特別優選具有2～12個碳原子，具體例子包括甲氧羰基氨基)、芳氧羰基氨基(優選具有7～20個碳原子，更優選具有7～16個碳原子，特別優選具有7～12個碳原子，具體例子包括苯氧羰基氨基)、磺醯氨基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體例子包括甲烷磺醯氨基和苯磺醯氨基)、氨磺醯基(優選具有0～20個碳原子，更優選具有0～16個碳原子，特別優選具有0～12個碳原子，具體例子包括氨基磺醯基、甲基氨基磺醯基、二甲基氨基磺醯基和苯基氨基磺醯基)、氨基甲醯基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體例子包括氨基甲醯基、甲基氨基甲醯基、二乙基氨基甲醯基和苯基氨基甲醯基)、烷硫基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體例子包括甲硫基和乙硫基)、芳硫基(優選具有6～20個碳原子，更優選具有6～16個碳原子，特別優選具有6～12個碳原子，具體例子包括苯硫基)、磺醯基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體例子包括甲磺醯基和甲苯磺醯基)、亞磺醯基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體例子包括甲烷亞磺醯基和苯亞磺醯基)、脲基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體例子包括脲、甲基脲和苯基脲)、磷酸醯氨基(優選具有1～20個碳原子，更優選具有1～16個碳原子，特別優選具有1～12個碳原子，具體例子包括二乙基氨基磷酸和苯基氨基磷酸)、羥基、巰基、滷原子(比如氟原子、氯原子、溴原子和碘原子)、氰基、磺基、羧基、硝基、異羥肟酸基、亞磺基、肼基、亞胺基、雜環基(優選具有1～30個碳原子，更優選具有1～12個碳原子，含有氮原子、氧原子或硫原子作為雜原子，具體的例子包括咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、哌啶基、嗎啉基、苯並噁唑基、苯並咪唑基、苯並噻唑基、卡吧唑基、氮雜基和環氧乙烷基)和甲矽基(優選具有3～40個碳原子，更優選具有3～30個碳原子，特別優選具有3～24個碳原子，具體的例子包括三甲基甲矽基和三苯基甲矽基)。
這些取代基還可以進一步被取代。當存在兩個或更多取代基時，它們可以相同或者不同。如果可能的話，它們也可以互相鍵合形成一個環。
R2和R3優選獨立地是烷基、芳基、烯基、炔基或由這些基團被任選地取代而得到的基團。再有，從抑制性的觀點出發，兩者碳原子數的和優選是6或者更多，更優選是8或者更多，最優選是10或者更多。
對於用X-表示的化合物，只要它是有機酸或無機酸的共軛鹼，就沒有特別的限制。X-可以是高分子量的化合物，也可以是低分子量的化合物，或者可以是多價的陰離子。這些陰離子的例子包括與有機酸共軛鹼相當的陰離子，比如Ral-SO3-、Ral-SO2-、Ral-CO2-、Ral-CS2-、Ral-O-CS2-、Ral-S-CS2-、Ral-O-PO2-、(Ral-O)2PO2-、Ral(Ral-O)PO2-、Ral-EW1-Z-EW2-Ral、(Ral)4B-和ArxO-，或者相當於無機酸共軛鹼的陰離子，比如F-、Cl-、Br-、I-、PF6-、BF4-、SbF6-、ClO4-、SO42-、NO3-、CO32-、SCN-、CN-、SiF6-、FSO3-、I3-、Br3-和IBr2-。其中Ral是有機取代基，表示烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或者由這些基團被取代得到的基團。當在分子中存在多個Ral時，它們可以被獨立地選擇，或者互相鍵合形成環，EW1和EW2獨立地表示吸電子基團，其具體例子可包括-SO-、-CO-、-SO2-和-CN-，Z表示-CRzl-或-N-(Rzl表示氫原子或取代基)，而Arx表示芳基。
用通式(1)表示的化合物的例子可包括由通式(1-a)表示的化合物。
通式(1-a)
在通式(1-a)中，R2、R3和X-分別具有如在通式(1)中所解釋的意義，也具有同樣的優選例子。R2和R3更優選獨立地表示烷基、芳基、烯基、炔基或者這些基團被任選取代得到的基團，而且從抑制性的觀點出發，兩者碳原子數的和優選是6或者更多，更優選是8或者更多，最優選是10或者更多。
再有，R4～R7獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可以使用給出作為R2和R3例子的取代基。R4～R7可以相同或者不同，可以互相鍵合形成環，或者與L1、R2和/或R3鍵合形成環。在碳原子C1和碳原子C2形成雙鍵的情況下，或者與L1結合形成三鍵的情況下，R4～R7可以不與此相當。L1表示多價的連接基團，可以形成含有-C1-N1-C2-或者單鍵的環。由L1、C1、N1和C2組成的環優選是3元～10元環。從抑制溶解能力的觀點出發，此環更優選是3元～8元的，而從合成傾向性的觀點出發，此環更優選是5元或6元的。
如果在R4～R7中有兩個取代基鍵合到同一個原子上，這兩個取代基可以表示同一個原子或者取代基，而且可以形成雙鍵(比如R4、R5和C1可形成羰基-CO-，條件是R4＝R5＝O)。
作為用通式(1)表示的化合物中更優選的實施方案，可給出通式(1-b)的化合物。
通式(1-b)
在通式(1-b)中，R2、R3和X-分別具有如在通式(1)中相同的意義，而且每個的優選例子也是一樣的。而R4～R11獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可以使用在通式(1)中給出的作為R2和R3例子的取代基。R4～R11可以相同或者不同，可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L2、R2和/或R3鍵合，形成一個環。還有，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者與分別與碳原子C1和碳原子C2結合形成三鍵時，當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或者與L2結合形成三鍵時，以及當L2表示將碳原子C3與碳原子C4相連的雙鍵時，R4～R11可以不相應於此而存在。
L2表示一個多價的連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環，以及是連接C3和C4的單鍵或雙鍵。L2的優選例子可包括其中要形成的環是5元環至10元環的基團。從抑制溶解能力的觀點出發，優選具有5元環至8元環的基團，而從合成傾向性的觀點出發，優選具有5元環或6元環的基團。
當R4～R11中有兩個取代基與同一個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示同一個原子或取代基，可以形成雙鍵(比如，R4、R5和C1可形成羰基-CO-，條件是R4＝R5＝O)。
當R4～R11中有兩個取代基與相鄰的兩個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示相同的原子或取代基，可以形成3元環(比如，R4、R8、C1和C3可形成一個環氧基，條件是R4＝R8＝O)。
作為用通式(1)表示的化合物中更優選的實施方案，可給出用通式(1-c)表示的化合物。
通式(1-c)
在通式(1-c)中，R2和X-分別具有如在通式(1)中相同的意義，每個的優選範圍也是相同的。R2更優選是烷基、芳基、烯基、炔基或由這些基團進行任選取代而得到的基團。再有，從抑制性的觀點出發，R2的碳原子數是2或更多，更優選是3或更多，特別優選是4或更多。
還有，R4～R13獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可以使用在通式(1)中作為R2和R3的例子給出的取代基。R4～R13可以相同或者不同，可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L2、R2和/或R3鍵合形成一個環。再有，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L2一起形成三鍵，以及當L2表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R11可不相應於此而存在。
Ar1表示環狀芳基，可以使用取代的或未取代的苯基、萘基、蒽基、菲基、吡啶基、pyrazyl、咪唑基、喹啉基、吲哚基、異喹啉基、吡咯基、呋喃基、吡唑基、三唑基、四唑基、噁唑基、噁二唑基、噻唑基和嘧啶基。Ar1可與L2、R2和R4～R13鍵合形成環。
n表示0或正整數，優選0、1、2或3，更優選0、1或2，特別優選0或1。當n是2或更大時，不可避免地有多個R12和R13存在，多個R12和R13可以分別相同或不同，或者獨立地互相鍵合形成環。
L2-表示一個多價連接基團，可形成含有C3-C1-N1-C2-C4-的環，以及是連接C3和C4的單鍵或雙鍵。L2的優選例子可包括其中形成的是5元環至10元環的基團。從抑制溶解能力的觀點出發優選具有5元環至8元環的基團，而從合成傾向性的觀點出發優選5元環或6元環。
當R4～R13中有兩個取代基與同一個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示同一個原子或取代基，可以形成雙鍵(比如，R4、R5和C1可形成羰基-CO-，條件是R4＝R5＝O)。
當R4～R13中有兩個取代基與相鄰的兩個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示相同的原子或取代基，可以形成3元環(比如，R4、R8、C1和C3可形成一個環氧基，條件是R4＝R8＝O)。
作為用通式(1)表示的化合物中更優選的實施方案，可給出用通式(1-d)表示的化合物。
通式(1-d)
在通式(1-d)中，R2和X-分別具有如在通式(1)中相同的意義，每個的優選範圍也是相同的。R2更優選是烷基、芳基、烯基、炔基或由這些基團進行任選取代而得到的基團。再有，從抑制性的觀點出發，R2的碳原子數是2或更多，更優選是3或更多，特別優選是4或更多。
還有，R4～R14獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可以使用在通式(1)中作為R2和R3的例子給出的取代基。R4～R14可以相同或者不同，可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L2、R2和/或R3鍵合形成一個環。再有，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L2一起形成三鍵，以及當L2表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R11可不相應於此而存在。
m表示0～5的整數。當m是2或者更大時，有多個R14存在，此多個R14可以相同或者不同，或者可以互相鍵合形成環。
n表示0或正整數，優選0、1、2或3，更優選0、1或2，特別優選0或1。當n是2或更大時，不可避免地有多個R12和R13存在，多個R12和R13可以分別相同或不同，或者獨立地互相鍵合形成環。
L2-表示一個多價連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環，或者是連接C3和C4的單鍵或雙鍵。L2的優選例子可包括其中形成的是5元環至10元環的基團。從抑制溶解能力的觀點出發優選具有5元環至8元環的基團，而從合成傾向性的觀點出發優選5元環或6元環。
當R4～R14中有兩個取代基與同一個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示同一個原子或取代基，可以形成雙鍵(比如，R4、R5和C1可形成羰基-CO-，條件是R4＝R5＝O)。
當R4～R14中有兩個取代基與相鄰的兩個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示相同的原子或取代基，可以形成3元環(比如，R4、R8、C1和C3可形成一個環氧基，條件是R4＝R8＝O)。
作為用通式(1)表示的化合物中更優選的實施方案，可給出用通式(1-e)表示的化合物。
通式(1-e)
在通式(1-e)中，R2和X-分別具有如在通式(1)中相同的意義，每個的優選範圍也是相同的。R2更優選是烷基、芳基、烯基、炔基或由這些基團進行任選取代而得到的基團。再有，從抑制性的觀點出發，R2的碳原子數是2或更多，更優選是3或更多，特別優選是4或更多。
還有，R4～R14獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可以使用在通式(1)中作為R2和R3的例子給出的取代基。R4～R14可以相同或者不同，可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L3和/或R2鍵合形成一個環。再有，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L3一起形成三鍵，以及當L3表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R11可不相應於此而存在。
m表示0～5的整數。當m是2或者更大時，有多個R14存在，此多個R14可以相同或者不同，或者可以互相鍵合形成環。
n表示0或正整數，優選0、1、2或3，更優選0、1或2，特別優選0或1。當n是2或更大時，不可避免地有多個R12和R13存在，多個R12和R13可以分別相同或不同，或者獨立地互相鍵合形成環。
L3表示一個連接C3和C4的單鍵或雙鍵，以及是一個多價連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環。作為連接基團的例子，可以使用-O-、-S-、-N(RL1)-或-C(RL2)(RL3)-。RL1～RL3可以獨立地表示氫原子或在通式(1)中作為R2和R3的例子給出的取代基，或者與R2和/或R4～R14鍵合形成環狀結構。R16和R17可以相同或者不同，或者互相鍵合形成環。當C3和C4形成與L3相結合的雙鍵時，RL1～RL3可以不存在。
當R4～R14中以及在RL1～RL3中有兩個取代基與同一個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示同一個原子或取代基，可以形成雙鍵(比如，R4、R5和C1可形成羰基-CO-，條件是R4＝R5＝O)。
當R4～R14中以及在RL1～RL3中有兩個取代基與相鄰的兩個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示相同的原子或取代基，可以形成3元環(比如，R4、R8、C1和C3可形成一個環氧基，條件是R4＝R8＝O)。
作為用通式(1)表示的化合物中更優選的實施方案，可給出用通式(1-f)表示的化合物。
通式(1-f)
在通式(1-f)中，X-具有與在通式(1)中相同的意義，其優選範圍也是相同的。
還有，R4～R17獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可以使用在通式(1)中作為R2和R3的例子給出的取代基。R4～R17可以相同或者不同，可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L3、R2和/或R3鍵合形成一個環。再有，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L3一起形成三鍵，以及當L3表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R11可不相應於此而存在。
m1和m2獨立地表示0～5的整數。當m1和m2獨立地是2或者更大時，有多個R14和R17存在，此多個R14和R17可以分別相同或者不同，或者可以獨立地互相鍵合形成環。
n1和n2獨立地表示0或正整數，優選0、1、2或3，更優選0、1或2，特別優選0或1。當n1和n2獨立地是2或更大時，不可避免地有多個R12、R13、R15和R16存在，此多個R12、R13、R15和R16可以分別相同或不同，或者獨立地互相鍵合形成環。
L3表示一個連接C3和C4的單鍵或雙鍵，以及是一個多價連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環。作為連接基團，可以使用-O-、-S-、-N(RL1)-或-C(RL2)(RL3)-。RL1～RL3可以獨立地表示氫原子或在通式(1)中作為R2和R3的例子給出的取代基，或者與R2和/或R4～R14鍵合形成環。R16和R17可以相同或者不同，或者互相鍵合形成環。當C3和C4形成與L3相結合的雙鍵時，RL1～RL3可以不存在。
當R4～R17中以及在RL1～RL3中有兩個取代基與同一個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示同一個原子或取代基，可以形成雙鍵(比如，R4、R5和C1可形成羰基-CO-，條件是R4＝R5＝O)。
當R4～R17中以及在RL1～RL3中有兩個取代基與相鄰的兩個原子鍵合時，這兩個取代基可以表示相同的原子或取代基，可以形成3元環(比如，R4、R8、C1和C3可形成一個環氧基，條件是R4＝R8＝O)。
由通式(1)表示並且在本發明中優選使用的化合物的具體例子將在下面顯示。在本發明中使用的化合物可以任選自下面的化合物，但本發明並不限於這些舉例的化合物。
用化合物序號I-1～I-61表示的化合物其中含有氮原子的環是6元環的例子，化合物序號II-1～II-17是其中含有氮原子的環是5元環的例子，化合物序號III-1～III-17表示的是其中含有氮原子的環是6元環，而且具有甲基作為取代基的例子，而化合物序號IV-1～VI-17是其中含有氮原子和氧原子的環是6元環的例子。
還有，下面各種用化合物序號V-1～V-22表示的化合物優選用做可以產生本發明效果的用通式(1)表示的化合物。

在用通式(1)表示的化合物中，具有下面結構的化合物是新型化合物可優選用做本發明的影象形成材料，即含有N1原子的環是脂肪族6元環(哌啶環)，它具有一個與N1原子直接連接的芳環和一個經過CH2與N1原子相連的芳環，即用下面通式(1-N)表示的銨化合物。
通式(1-N)
在此通式中，RN1和RN2獨立地表示選自烷基、烯基、炔基、芳基、氨基、烷氧基、芳氧基、醯基、烷氧羰基、芳氧羰基、醯氧基、醯胺基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、磺醯胺基、氨基磺醯基、氨基甲醯基、烷硫基、芳硫基、磺醯基、羥基、巰基、滷原子、氰基、磺基、羧基和硝基等取代基，m和n獨立地表示0～5的整數。當分別有多個RN1和RN2存在時，此多個RN1和RN2可分別相同或不同，可以獨立地互相鍵合形成環。RN1和RN2可以是環狀化合物、直鏈化合物或者具有分支的化合物。這些化合物可具有從相同基團中選擇的取代基。
Y表示-CH2-、-O-或-S-。
在通式(1-N)中，具有含有哌啶環和兩個芳香環的此結構的化合物是新型化合物。對抗衡離子(X-)沒有特別的限制，它具有與在通式(1)中使用的同樣意義。即X-表示相當於有機酸或無機酸共軛鹼的陰離子。X-可以是相當於有機酸或無機酸共軛鹼的陰離子，比如Ral-SO3-、Ral-SO2-、Ral-CO2-、Ral-O-PO2-、(Ral-O)2PO2-、Ral(Ral-O)PO2-、Ral-EW1-Z--EW2-Ral、(Ral)4B-和ArxO-或者相當於無機酸共軛鹼的陰離子，比如F-、Cl-、Br-、I-、PF6-、BF4-、SbF6-、ClO4-、SCN-、CN-、SiF6-和FSO3-，其中是有機取代基，表示烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或由這些基團被取代而得到的基團。當在分子中存在多個Ral時，它們可以獨立地選擇或者可以互相鍵合形成環，EW1和EW2獨立地表示吸電子基團，這些基團的具體例子包括-SO-、-CO-、-SO2-、-CN-、-NO2和-CF3。Z表示-CRz1-或-N-(Rzl表示氫原子或取代基)。Arx表示取代的或未取代的芳基。
在上述舉例的化合物當中，具有如此結構的新型銨化合物包括化合物(I-2)～(I-4)、(I-6)～(I-11)、(I-39)、(I-41)、(I-45)、(I-51)、(I-53)、(I-59)、(IV-3)、(IV-9)、(IV-12)、(IV-15)、(IV-16)和(V-6)。
下面將說明由通式(1-N)表示的化合物典型的合成實施例。
在反應容器中加入1，5-二溴戊烷(43g，186.6mmol)、碳酸鈉(30g，280mmol)和100mL甲醇，將其稱量，在環境溫度下攪拌混合物。然後將甲苯胺(10g，93.3mmol)溶解於甲醇(50mL)中，將此溶液滴加到反應溶液中。將反應溶液加熱到55℃，攪拌5hr。過濾反應溶液，在減壓下濃縮得到的過濾液。將得到的油狀混合物溶解於乙酸乙酯，用分液漏鬥以碳酸氫鈉水溶液進行洗滌，並用3％的鹽酸進行萃取。在攪拌下，在水相中加入碳酸氫鈉，將其中和，然後用乙酸乙酯萃取此水相三次。合併得到的乙酸乙酯溶液，用硫酸鎂乾燥合併的溶液並過濾，在減壓下濃縮過濾液並在減壓下蒸餾，得到1-(4-甲基苯基)哌啶(8.2g，產率50.3％)。。
在反應容器中加入1-(4-甲基苯基)哌啶(4.0g，22.8mmol)和10mL丙酮，在環境溫度下攪拌該混合物。然後在反應溶液中加入α-溴-p-二甲苯(5g，27.4mmol)。攪拌反應溶液3hr，在此溶液中加入20mL乙酸乙酯。進一步攪拌反應溶液30min，進行虹吸過濾，收集白色粉末。乾燥得到粉末得到4-甲基苄基(4-甲基苯基)哌啶氫溴酸鹽(6.8g，產率83％)。。
將4-甲基苯基苄基哌啶氫溴酸鹽(13.85g，0.04mmol)溶解於20mL去離子水製備的水溶液與將六氟磷酸鉀(KPF6，8.83g，0.048mmol)溶解於30mL去離子水製備的水溶液混合，過濾收集產生的白色固體。將得到的白色固體用300mL去離子水洗滌，進行過濾並乾燥，得到4-甲基苯基苄基哌啶六氟磷酸鹽(15.6g，產率95％)。。
將4-甲基苯基苄基哌啶氫溴酸鹽(13.85g，0.04mmol)和對甲苯磺酸鈉(9.32g，0.048mmol)在50mL去離子水中的水溶液，使用分液漏鬥以50mL氯仿洗滌兩次。合併得到的氯仿相，用50mL去離子水洗滌合併的溶液，然後過濾和乾燥，得到4-甲基苯基苄基哌啶的甲苯磺酸鹽(16.1g，產率92％)。。
在本發明影象形成材料中將要使用的通式(1)化合物可以單獨使用，也可以兩種或多種結合使用。從成膜穩定性的觀點出發，此化合物含量優選是50％或更少，從得到非常好的影象形成能力的觀點出發，優選在0.1～30％的範圍，而作為能夠在印刷質量比如印刷耐久性和高水平影象形成特性之間形成相容性的量，最優選的範圍在0.5～15％。
水不溶性和鹼溶性的樹脂
(A)將用於本發明的陽圖影象形成層的水不溶性和鹼溶性樹脂(在後面作為可以存在的情況稱做鹼溶性樹脂)包括在聚合物和這些聚合物混合物的主鏈和/或側鏈上包含酸基的均聚物和共聚物。
從在鹼性顯影溶液中的溶解度和顯示溶解抑制能力的觀點出發，在這些聚合物當中，在其主鏈和/或側鏈上具有如在下面(1)～(6)中給出的酸基的聚合物是優選的。
(1)酚基(-Ar-OH)
(2)磺醯胺基(-SO2NH-R)
(3)取代的磺醯胺類酸基(在後面稱做「活性醯亞胺基」)[-SO2NHCOR、-SO2NHSO2R和-CONHSO2R]
(4)羧基(-CO2H)
(5)磺酸基(-SO3H)
(6)磷酸基(-OPO3H2)
在(1)～(6)中，Ar表示可具有取代基的二價芳基連接基團，R表示可具有取代基的烴基。
從保障在鹼性顯影液中的溶解度、顯影寬容度和足夠的薄膜強度等觀點出發，在具有選自(1)～(6)的酸基的鹼溶性樹脂中，具有(1)酚基、(2)磺醯胺基和/或(3)活性醯亞胺基的鹼溶性樹脂是優選的，具有(1)酚基或(2)磺醯胺基的鹼溶性樹脂是更優選的。
作為具有選自(1)～(6)的酸基的鹼溶性樹脂，可以舉出下面的例子。
(1)具有酚基的鹼溶性樹脂的例子可包括線形酚醛樹脂，比如苯酚和甲醛的縮聚物、間甲酚和甲醛的縮聚物、對甲酚和甲醛的縮聚物、對/間甲酚混合物和甲醛的縮聚物，以及苯酚、甲酚(可以是間、對或者間/對混合物中任何一個)和甲醛的縮聚物以及連苯三酚和丙酮的縮聚物。再有，可以舉出在側鏈上具有酚基的化合物共聚得到的共聚物。
具有酚基的化合物的例子可包括丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺具有羥基的丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或羥基苯乙烯。
(2)具有磺醯胺基的鹼溶性樹脂的例子可包括作為其主要的結構成分具有來自具有磺醯胺基的化合物的最小結構單元的聚合物。作為如上所述的化合物，給出作為例子的是具有一個或多個磺醯胺基的化合物，其中至少一個氫原子鍵合在氮原子上，在分子中具有一個多個可聚合的不飽和基團。在這些化合物當中，分子中具有一個芳醯基、芳基或乙烯氧基和取代的或單取代的氨基磺醯基或取代的磺醯亞胺基的低分子化合物是優選的。可以舉出下面(i)～(v)的通式表示的化合物作為這種低分子化合物的例子。
通式(i)
通式(ii)
通式(iii)
通式(iv)
通式(v)
其中X1個X2獨立地表示-O-或-NR7，R1和R4獨立地表示氫原子或-CH3；R2、R5、R9、R12和R16獨立地表示具有1～12個碳原子並可具有取代基的亞烷基、亞環烷基、亞芳基或芳亞烷基；R3、R7和R13獨立地表示氫原子或具有1～12個碳原子並可具有取代基的烷基、環烷基、芳基或芳烷基；R6和R17獨立地表示具有1～12個碳原子並可具有取代基的烷基、環烷基、芳基或芳烷基；R8、R10和R14獨立地表示氫原子或-CH3；R11和R15獨立地表示一個單鍵、具有1～12個碳原子並可具有取代基的亞烷基、亞環烷基、亞芳基或芳亞烷基；而Y1和Y2獨立地表示一個單鍵或CO。
在由通式(i)～(v)表示的化合物當中，可特別優選甲基丙烯酸m-氨基磺醯基苯酯、N-(p-氨基磺醯基苯基)甲基丙烯醯胺、N-(p-氨基磺醯基苯基)丙烯醯胺等作為本發明的陽圖平板印版。
(3)具有活性醯亞胺基的鹼溶性樹脂的例子，包括作為其主要結構成分具有來自具有活性醯亞胺基的化合物的最小結構單元的聚合物。如上所述的化合物的例子可以包括在分子中含有一個或多個由下面的結構通式表示活性醯亞胺基和一個或多個可聚合不飽和基團的化合物。
特別優選可使用N-(p-甲苯磺醯基)甲基丙烯醯胺、N-(p-甲苯磺醯基)丙烯醯胺等。
(4)作為具有羧酸基團的鹼溶性樹脂的例子可以包括作為其主要結構成分在分子中含有來自具有一個或多個羧酸基團和一個或多個可聚合的不飽和基團的化合物的最小結構單元的聚合物。
(5)作為具有磺酸基團的鹼溶性樹脂的例子可以包括作為其主要結構成分，在分子中具有來自含一個或多個磺酸基團和一個或多個可聚合不飽和基團的化合物最小結構單元的聚合物。
(6)作為具有磷酸基團的鹼溶性樹脂的例子可以包括作為其主要結構成分在分子中具有來自含有一個或多個磷酸基團和一個或多個可聚合不飽和基團化合物最小結構單元的聚合物。
構成將在陽圖影象形成層中使用的鹼溶性樹脂的含選自前面(1)～(6)酸基的最小結構單元不限於僅一個類型，可以使用由具有相同酸基或不同酸基的兩種或多種最小結構單元經共聚所得到的鹼溶性樹脂。
此共聚物是含有具有選自上述(1)～(6)酸基化合物的共聚物，上述化合物在共聚物中的量優選為10mol％或更多，更優選20mol％或更多。當含量少於10mol％時，有顯影寬容度改善不夠的傾向。
在本發明中，當使用一種共聚物作為鹼溶性樹脂時，也可以使用不含上述(1)～(6)酸基的化合物。不含上述(1)～(6)酸基的化合物的例子可以包括在下面(m1)～(m12)中敘述的化合物。然而這些化合物並不意圖對本發明構成限制。
(m1)具有脂肪族羥基的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，比如丙烯酸2-羥基乙酯或甲基丙烯酸2-羥基乙酯。
(m2)丙烯酸烷基酯，比如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-氯乙酯和丙烯酸縮水甘軸酯。
(m3)甲基丙烯酸烷基酯，比如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-氯乙酯和甲基丙烯酸縮水甘油酯。
(m4)丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺，比如丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-乙基丙烯醯胺、N-己基甲基丙烯醯胺、N-環己基丙烯醯胺、N-羥乙基丙烯醯胺、N-苯基丙烯醯胺、N-硝基苯基丙烯醯胺和N-乙基N-苯基丙烯醯胺。
(m5)乙烯基醚，比如乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚和苯基乙烯基醚。
(m6)乙烯基酯，比如醋酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯。
(m7)苯乙烯類，比如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯和氯甲基苯乙烯。
(m8)乙烯基酮，比如甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮和苯基乙烯基酮。
(m9)烯烴，比如乙烯、丙烯、異丁烯、丁二烯和異戊二烯。
(m10)N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈、甲基丙烯腈等。
(m11)不飽和醯亞胺，比如馬來醯亞胺、N-丙烯醯基丙烯醯胺、N-乙醯基甲基丙烯醯胺、N-丙醯基甲基丙烯醯胺和N-(p-氯苯甲醯基)甲基丙烯醯胺。
(m12)不飽和羧酸，比如丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐和衣康酸。
從用紅外雷射曝光時具有優異的影象形成能力的觀點出發，具有酚羥基的鹼溶性樹脂是優選的。特別是線形酚醛樹脂，比如苯酚-甲醛樹脂、間甲酚-甲醛樹脂、對甲酚-甲醛樹脂、間/對甲酚-甲醛樹脂和苯酚/甲酚(可以是間、對或間/對混合物中任何一種)-甲醛樹脂和連苯三酚-丙酮樹脂是更優選的。
還有，給出作為具有酚羥基的鹼溶性樹脂的又一個例子是含有3～8個碳原子的烷基取代基的苯酚和甲醛的縮聚物，比如在USP-4,123,279中敘述的叔丁基酚-甲醛樹脂和辛基酚-甲醛樹脂。
從影象形成能力的觀點出發，該鹼溶性樹脂的分子量為500或者更高，更優選為1,000～700,000。其數均分子量優選是500或者更高，更優選是750～650,000。鹼溶性樹脂的分散度(重均分子量/數均分子量)優選是1.1～10。
這些鹼溶性樹脂可以單獨使用，也可以兩種或兩種以上組合使用。當組合使用時，可以一起使用具有3～8個碳原子的烷基取代基的苯酚和甲醛的縮聚物，比如在USP-4,123,279中敘述的叔丁基酚-甲醛縮聚物和辛基酚-甲醛縮聚物和如本發明的發明人以前提交的JP-A-2000-241972中敘述的具有在芳環上含吸電子基團苯酚結構的鹼溶性樹脂。
在本發明中，基於影象形成層的總固體含量，鹼溶性樹脂的總含量優選為30～98wt％，更優選為40～95wt％。當含量低於30wt％時，耐久性傾向於變差，而含量超過98wt％時，敏感度和影象形成能力傾向於下降。
光-熱轉換劑
作為在本發明中使用的光-熱轉換劑，可以使用任何材料，只要它是吸收用於記錄的光能輻射而產生熱的物質就行，沒有對吸收波長範圍的限制。然而，從對容易獲得的高輸出雷射的適應性的觀點出發，在760～1,200nm的波長具有最大吸收的可吸收紅外線的染料和顏料是優選的。
作為染料，可以使用商品染料，以及比如在文獻，如《染料手冊》(有機合成化學協會編輯，1970年版)中敘述的已知染料。這些染料的具體例子包括偶氮染料、金屬絡合物偶氮染料、吡唑啉酮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓染料、醌亞胺染料、次甲基染料、花青染料、squalilium染料、吡喃鎓鹽、金屬硫醇鹽絡合物、氧雜菁染料、diimmonium染料、銨染料和croconium染料。
染料的優選例子可以包括在JP-A58-125,246、59-84,356、59-202,829、60-78,787等中敘述的花青染料和在JP-A58-173,696、58-181,690、58-194,595等中敘述的次甲基染料、在JP-A58-112,793、58-224,793、59-48,187、59-73,996、60-52,940、60-63,744等中敘述的萘醌染料、在JP-A58-112,792等中敘述的squalilium染料和在UKP-434,875中敘述的花青染料。
還優選使用在USP-5,156,938中敘述的近紅外光敏吸收劑。也優選使用在USP-3,881,924中敘述的取代芳基苯並(硫代)吡喃鎓鹽、在JP-A57-142,645(USP-4,327,169)中敘述的三次甲基硫代吡喃鎓鹽、在JP-A58-181,051、58-220,143、59-41,363、59-84,248、59-84,249、59-146,063和59-146,061中敘述的吡喃鎓鹽化合物、在JP-A59-216,146中敘述的花青染料、在USP-4,283,475中敘述的五次甲基硫代吡喃鎓鹽和在JP-B5-13,514和5-19,702中敘述的吡喃鎓鹽化合物等。
染料的其他優選例子還包括在USP-4,756,993中敘述的用通式(I)或(II)表示的吸收近紅外的染料。
在這些染料中，作為特別優選染料的例子給出了花青染料、酞菁染料、氧雜菁染料、squalilium染料、吡喃鎓鹽染料、硫代吡喃鎓鹽染料和硫醇鎳絡合物。再有，用下面通式(a)～(c)表示的染料是優選的，因為這些染料具有優異的光-熱轉換效率。特別是由下面通式(a)表示的花青染料是最優選的，因為當按照本發明把這些染料用於聚合組合物時能夠賦予很高的聚合活性，而且具有高穩定性和高收益率。
通式(a)
在通式(a)中，X1表示氫原子、滷原子、-NPh2、X2-L1或在下面顯示的基團。在此X2表示氧原子或硫原子，L1表示具有1～12個碳原子的烴基、具有雜原子的芳香環或含有雜原子和具有1～12個碳原子的烴基。在此，雜原子表示N、S、O、滷原子或Se。
R1和R2獨立地表示具有1～12個碳原子的烴基。從含有溶液的光敏層的保存穩定性的觀點出發，R1和R2獨立地優選是具有兩個碳原子或者更多碳原子的烴基，再有，特別優選R1和R2互相鍵合形成5元環或6元環。
Ar1和Ar2可以相同或者不同，獨立地表示具有取代基的芳香族烴基。這些芳香族烴基的優選例子包括苯環或萘環。而取代基的優選例子包括具有12個或者更少碳原子的烴基、滷原子和具有12個或者更少碳原子的烷氧基。Y1和Y2可以相同或者不同，獨立地表示硫原子或具有12個或者更少碳原子的二烷基亞甲基。R3和R4可以相同或者不同，獨立地表示可以具有取代基和具有20個或者更少碳原子的烴基。這些取代基的優選例子包括具有12個或者更少碳原子的烷氧基、羧基和磺基。R5、R6、R7和R8可以相同或者不同，獨立地表示氫原子或具有12個或者更少碳原子的烴基。從原料可獲得性的觀點出發優選是氫原子。還有Za-表示抗衡陰離子。在R1～R8中任何一個帶有磺基取代基的情況下，不需要Za-。Za-優選是滷素離子、高氯酸根離子、四氟硼酸根離子、六氟磷酸根離子和磺酸根離子，從含有溶液的光敏層保存穩定性的觀點出發，特別優選是高氯酸根離子、六氟磷酸根離子和芳基磺酸根離子。
在本發明中，由通式(a)表示和優選使用的花青染料的具體例子，除了在下面舉例的以外，可以包括在JP-A11-310,623中第
～
段、JP-A2000-22,4031中第
～
段、JP-A2000-211,147中第
～
段中敘述的染料。

通式(b)
在通式(b)中，L表示具有7個或者更多共軛碳原子的次甲基鏈。該次甲基鏈具有取代基，而取代基可以互相鍵合形成環。Zb+表示抗衡陽離子。抗衡陽離子的優選例子包括銨、碘鎓、鋶、鏻、吡啶鎓和鹼金屬陽離子(Na+、K+和Li+)。R9～R14和R15～R20獨立地表示氫原子或選自滷原子、氰基、烷基、芳基、烯基、炔基、羰基、巰基、磺醯基、亞磺醯基、氧代基團和氨基的取代基或者這些基團中兩個或三個組合的取代基，而且它們可以互相鍵合形成環。在此，從可獲得性和效果的觀點出發，優選在通式(b)中L表示具有7個共軛碳原子的次甲基鏈的化合物和其中R9～R14和R15～R20都是氫原子的化合物。
不本發明中，由通式(b)表示的並且優選使用的具體例子可以包括下面的化合物。
通式(c)
在通式(c)中，Y3和Y4獨立地表示氧原子、硫原子、硒原子或碲原子。M表示具有5個或更多碳原子的次甲基鏈。R21～R24和R25～R28可以相同或者不同，獨立地表示氫原子、滷原子、氰基、烷基、芳基、烯基、炔基、羰基、巰基、磺醯基、亞磺醯基、氧代基團或氨基。在通式中Za-表示抗衡陰離子，具有與通式(a)中相同的意義。
在本發明中，由通式(c)表示的並且優選使用的具體例子包括下面的化合物。
通式(d)
在上述通式(d)中，R29～R31獨立地表示氫原子、烷基或芳基。R33和R34獨立地表示烷基、取代的氧代基團或滷原子。n和m獨立地表示0～4的整數。R29和R30或者R31和R32可以互相鍵合形成環，還有，R29和/或R30和R33，以及R31和/或R32和R34可以互相鍵合形成環。當有多個R33和R34分別存在時，它們當中的R33和它們當中的R34可以互相鍵合而形成環。X2和X3獨立地表示氫原子、烷基或芳基，而且X2和X3中至少一個表示氫原子或烷基。Q表示三次甲基基團或五次甲基基團，它們可以具有取代基或者與二價有機基團組合形成環。Zc-表示抗衡陰離子具有與通式(a)中Za-同樣的意義。
在本發明中，由通式(d)表示的並且優選使用的染料的具體例子可以包括下面的化合物。
通式(e)
在上述通式(e)中，R35～R50獨立地表示氫原子、滷原子、氰基、烷基、芳基、烯基、炔基、羥基、羰基、巰基、磺醯基、亞磺醯基、氧代基團、氨基或可具有取代基的鎓鹽結構。M表示兩個氫原子，或者金屬鹽、滷代金屬基團或氧金屬基團。在這裡所含金屬原子的例子包括周期表中IA、IIA、IIIB或IVB族的原子，第一周期、第二周期和第三周期的過渡金屬以及鑭系元素。在這些元素中優選銅、鎂、鐵、鋅、鈷、鋁、鈦和釩。
在本發明中，由通式(e)表示並且優選使用的染料的具體例子可以包括下面的化合物。
[在本發明中作為紅外吸收劑使用的顏料包括商品顏料和在顏色指數(C.I.)手冊《最新顏料手冊》(日本顏料技術協會編，1977年版)、《最新顏料應用技術》(CMC出版，1986年版)、《印刷油墨技術》(CMC出版，1984年版)中敘述的顏料。
作為顏料種類的例子，可以使用黑色顏料、黃色顏料、橙色顏料、棕色顏料、紅色顏料、紫色顏料、藍色顏料、綠色顏料、螢光顏料、金屬粉末顏料和聚合物粘接劑顏料。特別可以使用不溶性偶氮顏料、偶氮湖顏料、縮合偶氮顏料、螯合偶氮顏料、酞菁顏料、蒽醌顏料、苝和perinone顏料、硫靛青顏料、喹吖啶酮顏料、二噁嗪顏料、異吲哚啉酮顏料、喹啉並酞酮顏料、染色湖顏料、噁嗪顏料、亞硝基顏料、硝基顏料、天然顏料、螢光顏料、無機顏料和碳黑。在這些顏料中碳黑是最希望的。
可以不進行表面處理或者在表面處理後使用這些顏料。作為表面處理的方法，可以考慮將樹脂或蠟塗布在顏料顆粒上的方法、粘接上表面活性劑的方法和將活性材料(比如矽烷偶聯劑、環氧化合物或多異氰酸酯)結合在顏料表面上的方法。在《金屬皂的質量和應用》(Saiwai書房)、《印刷油墨技術》(CMC出版，1984年版)和《最新顏料應用技術》(CMC出版，1986年版)中都敘述了表面處理的方法。
顏料的顆粒直徑優選為0.01～10μm，更優選為0.05～1μm，最優選為0.1～1μm。當顆粒直徑小於0.01μm時，從成象光敏層用塗布液的分散穩定性的觀點出發是不希望的。而當顆粒直徑超過10μm時，從成象光敏層均勻度的觀點出發是不希望的。
作為分散顏料的方法，可以使用製造油墨或者調色劑時使用的已知分散技術。這些分散技術的例子包括超聲波分散機、砂磨、超微磨碎機、珠狀磨、超細磨、球磨、槳葉式分散機、KD磨、膠體磨、dynatron、三輥磨和壓力捏合機。在《最新顏料應用技術》(CMC出版，1986年版)中詳細敘述了這些分散機器。
作為光-熱轉換劑的顏料或染料，基於影象形成層的固體總量，在使用染料的情況下，其添加量為0.01～50wt％，，優選為0.1～30wt％，特別優選為0.5～10wt％；在使用顏料的情況下，其添加量為0.1～10wt％。
在顏料或染料被用在層合的光敏材料的上層當中時，根據情況添加量的自由度會更高，而不會引起涉及在基體表面上顯影能力的問題，基於固體總量，顏料或染料可以添加的量為0.01～50wt％，優選為0.1～40wt％，特別優選為0.5～30wt％。
其他組分
當形成按照本發明的陽圖形影象形成層時，根據需要可進一步添加各種添加劑。比如，從改善對成象部分在顯影液中溶解性的抑制能力的觀點出發，優選一起使用比如鎓鹽、o-醌疊氮化合物、芳香族碸類化合物和芳香族磺酸鹽，這些化合物都是可以熱分解的，在未分解的狀態下能夠顯著地降低了鹼水可溶性高分子化合物的溶解度。鎓鹽的例子包括重氮鹽、銨鹽、鏻鹽、碘鎓鹽、鋶鹽、鹽和鉮鹽。
在本發明中使用的鎓鹽的優選例子包括在S.I.Schlesinger，Photogr.Sci.Eng.，18，387(1974)、T.S.Bal等人在Polymer，21，423(1980)中敘述的重氮鹽和在JP-A5-158230中敘述的重氮鹽、在USP-4,069,055、4,069,056和JP-A3-140140中敘述的銨鹽、在D.C.Necker等人在Macromolecules，17，2468(1984)、C.S.Wen等人在Teh.Proc.Conf.Rad.Curing ASIA，p.478 Tokyo，10月(1988)、USP-4,069,055和4,069,056中敘述的鏻鹽、J.V.Crivello等人在Macromolecules，10(6)，1307(1977)中、Chem.& Eng.News，Nov.28，p31.(1988)中、EP-104,143、USP-339,049、410,201、JP-A2-150,848和2-296,514中敘述的碘鎓鹽、在J.V.Crivello等人在Polymer J.17，73(1985)中、J.V.Crivello等人在J.Org.Chem.，43，3055(1978)中、W.R.Watt等人在J.Polymer Sci.Polymer Chem.Ed.22，1789(1984)、J.V.Crivello等人在PolymerBull.，14，279(1985)、J.V.Crivello等人在Macromolrcules，14(5)1141(1981)、J.V.Crivello等人在J.Polymer Sci.Polymer Chem.Ed.17，2877(1979)、EP-370,693、233,567、297,443、297442、USP-4,933,377、3,902,114、410201、339,049、4,760,013、4,734,444和2,833,827、德國專利2,904,626、3,604,580中敘述的鋶鹽、在J.V.Crivello等人在Macromolecules，10(6)1307(1977)、J.V.Crivello等人在J.Polymer Sci.Polymer Chem.Ed.，17，1047(1979)中敘述的鹽和在C.S.Wen等人在Teh.Proc.Conf.Rad.Curing ASIA，p.478 Tokyo，10月(1988)中敘述的鉮鹽。
在這些鎓鹽中特別優選重氮鹽。這些重氮鹽的特別優選的例子包括的JP-A5-158,230中敘述的重氮鹽。
鎓鹽的抗衡陰離子的例子可包括四氟硼酸、六氟硼酸、三異丙基萘磺酸、5-硝基-o-甲苯磺酸、5-磺基水楊酸、2，5-二甲基苯磺酸、2，4，6-三甲基苯磺酸、2-硝基苯磺酸、3-氯苯磺酸、3-溴苯磺酸、2-氟辛基萘磺酸、十二烷基苯磺酸、1-萘醇-5-磺酸、2-甲氧基-4-羥基-5-苯甲醯基苯磺酸和對甲苯磺酸。在這些抗衡離子中，特別是六氟磷酸和烷基芳香族磺酸，比如三異丙基萘磺酸和2，5-二甲基苯磺酸是優選的。
醌二疊氮化合物的優選例子可以是o-醌二疊氮化合物。在本發明中將要使用的o-醌二疊氮化合物是具有至少一個o-醌二疊氮基團的化合物，該化合物通過加熱分解會增加其在鹼中的溶解度，各種化合物都是可以使用的。o-醌二疊氮化合物熱分解就失去了抑制黏合劑溶解的能力，本身就變成鹼溶性的物質。這就是說，通過這兩個作用，o-醌二疊氮化合物促進光敏材料的溶解度。作為在本發明中使用的o-醌二疊氮化合物，可以使用在比如在J.Koser的《光敏系統》(John Wiley & Sons公司)p.339～352中敘述的化合物，由o-醌二疊氮化合物與各種芳香族多羥基化合物或芳香族氨基化合物反應得到的o-醌二疊氮化合物的磺酸鹽或磺醯胺是特別優選的。優選使用如在JP-B 43-28403中敘述的苯醌-(1，2)二疊氮磺醯氯或萘醌(1，2)-二疊氮-5-磺醯氯和連苯三酚-丙酮樹脂的酯、如USP-3046120和3188210中敘述的苯醌-(1，2)二疊氮磺醯氯或萘醌(1，2)-二疊氮-5-磺醯氯和苯酚-甲醛樹脂的酯。
再有，優選使用萘醌(1，2)-二疊氮-4-磺醯氯和苯酚-甲醛樹脂或甲酚-甲醛樹脂的酯以及萘醌(1，2)-二疊氮-4-磺醯氯和連苯三酚-丙酮樹脂的酯。在許多其他專利中報導和使用過其他有用的o-醌二疊氮化合物。這些化合物的例子包括在JP-A 47-5,303、48-63,802、48-63,803、48-96,575、49-38,701、48-13,354、JP-B 41-11,222、45-9,610、49-17,481、USP-2,797,213、3,454,400、3,544,323、3,573,917、3,674,495、3,785,825、UK-P 1,227,602、1,251,345、1,267,005、1,329,888、1,330,932和德國專利854,890中敘述的化合物。
基於印版材料的總固體重量，將要加入的o-醌二疊氮化合物的量優選為1～50wt％，更優選為5～30wt％，特別優選為10～30wt％。這些化合物可以單獨使用，也可以作為各種的混合物使用。
o-醌二疊氮化合物以外的添加劑的量優選是1～50wt％，更優選是5～30wt％，特別優選是10～30wt％。本發明的添加劑和黏合劑優選含在同一層中。
還可以進一步一起使用環狀酸酐、酚和有機酸，以改善敏感度。作為環狀酸酐，可以使用在USP-4,115,128中敘述的鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、3，6-橋氧-Δ4-四氫鄰苯二甲酸酐、四氯鄰苯二甲酸酐、馬來酸酐、氯代馬來酸酐、α-苯基馬來酸酐、琥珀酸酐和均苯四酸酐。作為酚類的例子，可以給出雙酚A、p-硝基苯酚、p-乙氧基苯酚、2，4，4』-三羥基苯甲酮、2，3，4-三羥基苯甲酮、4-羥基苯甲酮、4，4』4」-三羥基三苯基甲烷、4，4』3」，4」-四羥基-3，5，3』，5』-四甲基三苯基甲烷。如在JP-A60-88942、2-96755中所述，有機酸的例子還包括磺酸、亞磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸和羧酸。這些酸的具體例子包括p-甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、p-甲苯亞磺酸、乙基硫酸、苯基膦酸、苯基次膦酸、苯基磷酸、二苯基磷酸、苯甲酸、間苯二甲酸、己二酸、苯乙酸、3，4-二甲氧基苯甲酸、鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、4-環己烷-1，2-二羧酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸和抗壞血酸。在印版材料中環狀酸酐、酚類和有機酸所佔的比例優選為0.05～20wt％，更優選為0.1～15wt％，特別優選為0.1～10wt％。
另外，可以把如在JP-A62-251,740和3-208,514中敘述的非離子表面活性劑、如在JP-A59-121,044和4-13,149中敘述的兩性離子表面活性劑、如在歐洲專利950,517中敘述的矽氧烷化合物和如在JP-A11-288,093中敘述的含氟單體加入到本發明的影象形成層塗層溶液中。
非離子表面活性劑的具體例子包括三硬脂酸縮水山梨糖醇酯、單棕櫚酸縮水山梨糖醇酯、三油酸縮水山梨糖醇酯、硬脂酸縮水甘油酯和壬基酚聚氧乙烯醚。兩性離子表面活性劑的具體例子包括烷基二(氨乙基)甘氨酸、烷基多氨基乙基甘氨酸鹽酸鹽、2-烷基-N-羧基乙基-N-羥基乙基咪唑啉甜菜鹼鹽和N-四癸基-N，N-甜菜鹼化合物(比如第一工業(株)製造的商品名Amorgen K的產品)。
作為矽氧烷化合物，二甲基矽氧烷和聚氧亞烷基的共聚物是優選的。矽氧烷化合物的具體例子包括聚氧亞烷基改性的聚矽氧烷，比如窒素公司製造的DBE-224、DBE-621、DBE-712、DBE-732和DBE-534和德國Tego公司製造的Tego Glide 100。
在印版材料中非離子表面活性劑和兩性離子表面活性劑所佔的比例優選為0.05～15wt％，更優選為0.1～5wt％。
在本發明的影象形成層中可以添加在剛曝光加熱後得到可視影象的印出劑和作為影象顯色劑的染料或顏料。
印出劑的典型例子可包括由曝光產生的熱釋放出酸的化合物和能夠形成鹽的有機染料的組合。此組合的具體例子可包括在JP-A50-36,209和53-8,128中敘述的o萘醌二疊氮-4-磺醯滷和成鹽有機染料的組合以及在JP-A 53-36,223、54-74,728、60-3,626、61-143,748、61-151,644和63-58,440中敘述的三滷甲基化合物和成鹽有機染料的組合。這樣的三滷甲基化合物的例子包括，噁唑化合物和三唑化合物，這兩種都具有優異的時間穩定性，給出清晰的印出影象。
作為影象顯色劑，除了成鹽有機染料外可使用其他染料。作為包括可成鹽有機染料的該染料的優選例子，包括油溶性染料和鹼性染料。這些染料的具體例子包括油性黃#101、油性黃#103、油性品紅#312、油性綠BG、油性藍BOS、油性藍#603、油性黑BY、油性黑BS、油性黑T-505(這些產品都是Orient Chemical Industries有限公司製造的)、維多利亞純藍、晶體紫(CI42555)、甲基紫(CI42535)、乙基紫、若丹明B(CI145170B)、孔雀石綠(CI42000)和次甲基藍(CI52015)。在JP-A 62-293247中敘述的染料是特別優選的。這些染料可添加到印版材料中的量，基於印版材料的總固體量是0.01～10wt％，優選是0.1～3wt％。再有，根據比如賦予薄膜柔韌性的需要，在本發明的印版材料中可混煉入增塑劑。比如使用丁基鄰苯二甲醯、聚乙二醇、檸檬酸三丁酯、鄰苯二甲酸二乙酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二己酯、鄰苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲酚酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氫呋喃酯和丙烯酸或甲基丙烯酸的低聚物或聚合物。
除了這些添加劑以外，可以如在JP-A 8-276558中所述，根據不同目的適當地添加環氧化合物、乙烯基醚、具有羥甲基的酚類化合物和具有烷氧基甲基的酚類化合物以及如在前面由本發明人所提出的JP-A 11-160860中所述的具有鹼溶解抑制功能的可交聯化合物。
本發明的影象形成材料在適當的基體上含有上述影象形成層，可以用於各種用途，比如平版印刷版前體、彩色打樣和顯示材料，特別是用於能夠通過紅外雷射曝光直接製版的平版印刷版前體。
下面將給出在平版印刷版前體上塗布本發明的影象形成材料的案例來說明特定的實施方案。
按照本發明的平版印刷版前體可以通過在適當的基體上塗布光敏層(影象形成層)用塗布液和將所需層塗布溶液用各組分溶解於溶劑所得到的溶液來製造。根據需要還可以形成保護層、樹脂中間層、背部塗層等。
在此處使用的溶劑的例子可包括但不限於二氯乙烷、環己酮、甲乙酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇單甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、醋酸2-甲氧基乙酯、醋酸1-甲氧基-2-丙酯、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基乙醯胺、N，N-二甲基甲醯胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亞碸、環丁碸、γ-丁內酯和甲苯。這些溶劑可以單獨使用也可以混合使用。
在溶劑中各組分(包括添加劑的總含量)是1～50wt％。
在平版印刷版前體的影象形成層的情況下，即使根據用途不同而不同，但在塗布和乾燥後，在基體上的塗布量(固體含量)一般優選為0.5～5.0g/m2。隨著塗布量的增加，表觀的敏感度提高了，但影象形成層的薄膜特性下降。
作為塗布方法可使用各種方法，這些方法的例子可包括棒式塗布機塗布法、旋轉塗布法、噴塗塗布法、簾式塗布法、浸塗塗布法、空氣刮刀塗布法、槳葉式塗布法和輥式塗布法。
為了改進可塗布性，在本發明的影象形成層中可以混入比如在JP-A 62-170,950中敘述的含氟表面活性劑。基於影象形成層的總固體含量，表面活性劑的用量優選為0.01～1wt％，更優選為0.05～0.5wt％。
樹脂中間層
根據需要，在影象形成層和基體之間可以給平版印刷版前體提供樹脂中間層。
由於提供此樹脂中間層，曝光時在鹼性顯影液中的溶解度得到改善的作為紅外敏感層的影象形成層位於曝光表面或者靠近曝光表面，由此使對紅外雷射的敏感度得到改善。另外，提供樹脂中間層具有的優點是，樹脂中間層由在影象形成層和基體之間存在的聚合物組成，其作用是一層隔離層，使曝光產生的熱不會擴散到基體上，可有效地用於形成影象，從而得到很高的敏感度。再有，在未曝光的部分，影象形成層避免了鹼性顯影液的滲透，本身就起著保護樹脂中間層的保護層的作用，因此就提高了顯影的穩定性，形成分辨度優異的影象，認為保證了時間穩定性。另一方面，在已經曝光的部分，其抑制溶解的能力被溶解的影象形成層的各組分被迅速地溶解於顯影溶液並且被分散。進一步，由於靠近基體的樹脂中間層本身由鹼溶性聚合物組成，它在顯影溶液中具有很高的溶解度，因此它迅速地溶解而不會產生殘留的薄膜，甚至於在使用活性減低的顯影液中也是如此，這也有助於改善顯影能力，因此認為此樹脂中間層是很有用的。
基體
在本發明中使用的基體的例子包括尺寸穩定的平板材料，比如紙張、塑料層合紙(比如聚乙烯、聚丙烯和聚苯乙烯層合紙)、金屬板(比如鋁板、鋅版和銅板)、塑料薄膜(比如二醋酸纖維素、三醋酸纖維素、丙酸纖維素、丁酸纖維素、醋酸丁酸纖維素、硝酸纖維素、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙烯醇縮醛)、在其上面層合或沉積了實施金屬的紙張或塑料薄膜。
當本發明中使用的基體用於平版印刷版前體時，優選是聚酯薄膜或鋁板。在這些材料中，具有高度尺寸穩定性和比較便宜的鋁板是特別優選的。優選的鋁板是純鋁板和含有鋁作為主要成分和少量外來元素的鋁合金板，可以在這些鋁板上面層合或沉積塑料薄膜。在合金鋁中含有的外來元素包括矽、鐵、錳、銅、鎂、鉻、鋅、鉍、鎳和鈦。在合金中這些外來元素的含量是10wt％或者更少。在本發明中特別優選的鋁是純鋁。然而，從精煉技術的觀點出發，很難製造完全純的鋁，因此鋁板可含有極少量外來元素。
如上所述，用於本發明的鋁板的組成沒有特別的規定，特別適合於使用公知的和通常使用的鋁板。在本發明中使用的鋁板的厚度為大約0.1～0.6mm，優選為0.15～0.4mm，特別優選為0.2～0.3mm。
在鋁板進行粗糙化之前要用表面活性劑、有機溶劑或鹼水溶液進行脫脂，以按照需要除去表面上的輥子油。用各種方法進行鋁板表面的粗糙化處理。比如用機械錶面粗糙化處理的方法、通過使表面熔融而進行的電化學表面粗糙化處理方法或將表面進行選擇性化學熔融的方法等進行表面粗糙化處理。作為機械的方法，可以使用已知的方法，比如用球、刷子、噴砂或磨輪等表面處理方法。而作為電化學表面粗糙化處理方法，有在鹽酸或硝酸電解液中用直流電或交流電使表面粗糙化的方法。另外如在JP-A 54-63902中所述，可使用兩者結合的方法。根據需要將以如此方法進行過表面粗糙化的鋁板進行鹼刻蝕處理和中和處理，然後根據需要進行陽極氧化處理，以提高水分保持能力和表面的耐磨性。作為鋁板陽極氧化處理用的電解液，可以使用形成多孔氧化膜的各種電解液，一般使用硫酸、磷酸、草酸、鉻酸或這些酸的混合物。可以由電解液的種類適當地確定電解液的濃度。
陽極氧化的一般條件優選在下面的範圍，儘管在整體上可不做專門的規定，因為它們會隨著電解液的種類不同而變化電解液濃度溶液的1～80wt％；溶液溫度5～70℃；電流密度5～60A/dm2，電壓1～100V；電解時間10sec～5min。當陽極氧化膜的量小於1.0g/m2時，得到的印刷耐久性不夠，平版印刷版的未成象部分容易損壞，使得傾向於產生所渭「損壞汙斑」，這是在印刷時油墨粘在損壞部分產生的現象。在進行了陽極氧化處理以後，根據需要將鋁的表面變成親水的。作為使鋁板表面成為親水的方法，有如在USP-2,714,066、3,181,461、3,280,734和3,902,734中所述的鹼金屬矽酸鹽(比如矽酸鈉水溶液)方法。在此方法中，將基體浸入矽酸鈉水溶液中，而且如果需要，進行起電。除了上述處理以外，還使用如在JP-B 36-22,063中所述用氟鋯酸鉀和在USP-3,276,868、4,153,461和4,689,272中所述用聚乙烯基磷酸進行基體處理的方法。
按照本發明的平版印刷版前體在基體上具有陽圖影象形成層，根據需要，在影象形成層和基體之間可提供底塗層。
可以用各種有機化合物作為底塗層的組分。這些有機化合物選自比如羧甲基纖維素、糊精、阿拉伯樹膠、具有氨基的膦酸，比如2-氨基乙基膦酸、有機膦酸，比如苯基膦酸、萘基膦酸、烷基膦酸、甘油基膦酸、亞甲基二膦酸和亞乙基二膦酸等，它們都可具有取代基、還有磷酸，比如苯基磷酸、萘基磷酸、烷基磷酸和甘油基磷酸等，它們也都可以具有取代基，有機次膦酸，如苯基次膦酸、萘基次膦酸、烷基次膦酸和甘油基次膦酸，它們也都可以具有取代基，胺基酸，比如甘氨酸和β-丙氨酸以及具有羥基的胺的鹽酸鹽，比如三乙醇胺鹽酸鹽。這些化合物可以兩種或多種混合使用。
可以通過將這些有機化合物溶解於水或有機溶劑比如甲醇、乙醇或甲乙酮或者這些溶劑混合物得到溶液，然後將此溶液塗布到鋁板上並進行乾燥的方法，或者用將鋁板浸入由把這些有機化合物溶解於水或有機溶劑比如甲醇、乙醇和甲乙酮或者它們混合物，使得這些化合物吸附在鋁板上，然後用水等洗滌再進行乾燥的方法來形成此有機底塗層。在前一種方法中，可以用各種方法塗布其中有機化合物濃度為0.005～10wt％的溶液。而在後一種方法中，溶液的濃度是0.01～20wt％，優選是0.05～5wt％，浸漬溫度是20～90℃，優選25～50℃，浸漬時間是0.1sec～20min，優選2sec～1min。可以用鹼性物質比如氨、三乙胺或氫氧化鉀以及酸性物質比如鹽酸或磷酸將待使用的溶液pH值調節到1～12。可以加入黃色的染料以改善影象形成材料的色調再現性。
待塗布的有機底塗層的量適當是2～200mg/m2，優選是5～100mg/m2。如果上述塗布量少於2mg/m2，不能得到足夠的印刷耐久性。而如果此量高於200mg/m2，也會得到同樣的結果。
用上述方法製造的陽圖平版印刷版前體一般要進行影象曝光的加工和顯影處理。
作為影象曝光使用的光線的光源，其發射波長由近紅外區到紅外區的光源是優選的，固體雷射和半導體雷射是特別優選的。
作為本發明的顯影液和在製造平版印刷版時使用的補充溶液，可以使用通常已知的鹼水溶液。
鹼的例子包括無機鹼的鹽，比如矽酸鈉、矽酸鉀、磷酸三鈉、磷酸三鉀、磷酸三銨、磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸氫二銨、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銨、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、碳酸氫銨、硼酸鈉、硼酸鉀、硼酸銨、氫氧化鈉、氫氧化銨、氫氧化鉀和氫氧化鋰。可以使用有機鹼試劑，比如單甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、單乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、單異丙基胺、二異丙基胺、三異丙基胺、正丁基胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺、亞乙基亞胺、乙二胺和吡啶。
這些鹼性試劑可以單獨使用，也可以兩種或多種組合使用。在這些鹼性試劑中特別優選的顯影液是矽酸鹽水溶液，比如矽酸鈉和矽酸鉀的水溶液。原因是，通過作為矽酸鹽組分的氧化矽SiO2和鹼金屬氧化物M2O的濃度比就可以控制顯影能力。使用如在JP-A 54-62,004和JP-B 57-7,427中敘述的鹼金屬矽酸鹽是有效的。
再有，在使用自動顯影機進行顯影時，已知通過在顯影液中添加具鹼性比顯影液更強的水溶液(補充溶液)，可以長時間不用更換顯影罐中的顯影液就能夠處理大量的PS版。這種補充系統也優選用於本發明。如果需要，可以在顯影液和補充溶液中添加各種表面活性劑和有機溶劑，意圖促進和約束顯影能力，分散顯影渣滓和改善印刷版成象部分和油墨的親合性。
表面活性劑的優選例子包括陰離子的、陽離子的、非離子的和兩性離子的表面活性劑。根據需要可以在顯影液和補充溶液中添加還原劑，比如無機酸的鈉鹽和鉀鹽，比如氫醌鹽、間苯二酚鹽、亞硫酸鹽、亞硫酸氫鹽、進一步添加比如有機羧酸、消泡劑和水軟化劑。
用前面的顯影液和補充溶液已經顯影的平版印刷版要用漂洗水、含有表面活性劑等的漂洗溶液和含有阿拉伯樹膠和澱粉衍生物的脫敏溶液進行後處理。在使用本發明的影象記錄材料作為印刷版的情況下。在各種後處理組合中可以使用這些後處理。
在近年的製版和印刷領域，廣泛地使用印刷版的自動顯影機使製版工作合理化和標準化。此自動顯影機一般包括顯影段和包括印刷版運載裝置、各種加工溶液的容器和噴灑裝置的後處理段，其中用泵輸送的各種加工溶液經過噴嘴被噴出，同時把曝光的印刷版水平地運送以進行顯影處理。最近還知道用液下引導輥輸送印刷版的方法，同時將印刷版浸入裝滿加工溶液的加工溶液罐中。在進行這樣的自動處理時，在整個的操作時間內，可以在處理印刷版的同時，向每種加工溶液中提供補充溶液。也可以提供一種處理系統，其中使用基本沒有用過的加工溶液作為一次性使用的溶液。
當通過將本發明的平版印刷版前體進行影象曝光、顯影、水洗或漂洗和/或塗膠所得到的平版印刷版有不是必需的影象部分(比如在原圖膜片上的薄膜邊緣痕跡)時，要把此不必要的影象部分擦去。優選使用以在JP-B 2-13,293中敘述的擦洗液，塗布在不必要的影象部分，然後放置預定的時間，再用水洗掉的方法進行擦洗。也可以使用將在JP-A 59-174,842中敘述的將活化射線通過光纖照射在不必要影象部分，然後進行顯影處理的方法。
用上述方法得到的平版印刷版可以在印刷版上塗布脫敏膠後進行印刷步驟。在意圖製造具有高耐久性的平版印刷版的情況下，要進行烤版處理。當平版印刷版進行烤版處理時，優選在烤版前用表面調節溶液，比如在JP-B 61-2518、55-28062、JP-A 62-31859和61-159655中敘述的表面調節溶液進行處理。
用浸漬了該溶液的海綿或吸收棉，或者將印刷版浸入裝滿表面調節溶液的容器中，將該溶液塗布到平版印刷版上的方法，或者用自動塗布機塗布表面調節溶液的方法，使用表面調節溶液進行處理。在塗布表面調節溶液後，使用橡膠刷或橡膠輥使單位面積上的溶液的量變均勻。這個操作得到更優選的結果。
將要塗布的表面調節溶液的量接近0.03～0.8g/m2(乾重)。塗布了表面調節溶液的平版印刷版，在其乾燥後如果需要可用比如烤版加工機(比如Fuji Photo Film有限公司的商品BP-1300烤版加工機)加熱。在此情況下的加熱溫度和加熱時間分別為180～300℃和1～20min，即使根據形成影象組分的類型不同這些條件會有變化。
進行了烤版處理的平版印刷版可以通過至今一直進行的處理進行任選的加工，比如水洗和塗膠。然而，在使用含有水溶性高分子化合物的表面調節溶液的情況下，可省略所謂的脫敏處理，比如塗膠。通過如上所述處理得到的平版印刷版進行比如膠印，被用於生產大量的印刷品。
實施例
實施例1～18
製造基體
用三氯乙烷洗滌厚度0.3mm的鋁板(材料1050)將其脫脂。然後用尼龍刷和400目的浮石-水懸浮液將鋁板表面打毛，然後整體上用水洗滌。將此鋁板浸入25％的氫氧化鈉水溶液，在45℃下浸泡9sec進行刻蝕，然後再用水洗滌。此後，進一步將鋁板在20％的硝酸中浸泡20sec，然後再用水洗滌。此時在打毛表面上的刻蝕量大約為3g/m2。然後在使用7％的硫酸作為電解液和電流密度15A/dm2的條件下，在此鋁板上形成陽極氧化膜。陽極氧化膜的量為3g/m2。然後用水洗滌鋁板，乾燥並進一步用含2.5wt％矽酸鈉的水溶液在30℃下處理10sec。然後將如下的底塗層溶液1塗布到鋁板上，在80℃下乾燥塗層膜15sec。在乾燥後此膜的塗布量是15mg/m2。

·在下面敘述的分子量28,000的共聚物 0.3g
·甲醇 100g
·水 1g
分子量28,000
合成共聚物1
在裝有攪拌器、冷卻管和滴液漏鬥的500mL三頸瓶中加入31.0g(0.36mol)甲基丙烯酸、39.1g(0.36mol)氯甲酸乙酯和200mL乙腈，並在冰浴冷卻下將混合物攪拌。用滴液漏鬥在大約1hr內向該混合物中滴加36.4g(0.36mol)三乙胺。在滴加結束後，除去冰浴，在環境溫度下攪拌該混合物30min。
在反應混合物中加入51.7g(0.30mol)p-氨基苯磺醯胺，在油浴中於70℃下加熱攪拌混合物1hr。在反應結束後，將混合物倒入1L攪拌的水中，將得到的混合物攪拌30min。過濾混合物，收集沉澱，然後加入500mL水將此沉澱製成漿液。然後將此漿液進行過濾，將得到的固體進行乾燥，得到白色固體狀的N-(p-氨基磺醯基苯基)甲基丙烯醯胺(產率46.9g)。
然後，在一個裝有攪拌器、冷卻管和滴液漏鬥的20mL三頸瓶中加入4.61g(0.0192mol)N-(p-氨基磺醯基苯基)甲基丙烯醯胺、2.58g(0.0258mol)甲基丙烯酸乙酯、0.80g(0.015mol)丙烯腈和20gN，N-二甲基乙醯胺，並在熱水浴中在65℃下攪拌加熱混合物。在該混合物中加入0.15g V-65(Wako Pure Chemical Industries有限公司製造)，並在氮氣流下攪拌混合物2hr，同時將混合物保持在65℃的溫度。使用滴液漏鬥，在2hr內向此反應混合物中再加入4.61gN-(p-氨基磺醯基苯基)甲基丙烯醯胺、2.58g甲基丙烯酸甲酯、0.80g丙烯腈、N，N-二甲基乙醯胺和0.15g V-65的混合物。滴加結束後，在65℃下將得到的混合物進一步攪拌2hr。反應結束後，在混合物中加入40g甲醇，然後將其冷卻，將得到的混合物倒入2L攪拌著的水中。將混合物攪拌30min，然後過濾收集沉澱並乾燥，得到15g白色固體。用凝膠滲透色譜測量的此專門共聚物1的重均分子量(聚苯乙烯內標)為54,000。
製造平版印刷版前體
將如下的影象形成層塗層溶液1塗布在得到的基體上並在130℃下乾燥1min，以形成下影象形成層。在塗層膜乾燥後的塗布量是1.3g/m2。

·如上所述的共聚物 10.75g
·紅外吸收劑1(光-熱轉化劑如下結構)0.02g
·p-甲苯磺酸0.002g
·四氫鄰苯二甲酸酐 0.05g
·用1-萘磺酸陰離子作為其抗衡離子由維多利亞純藍BOH得到的染料0.015g
·含氟表面活性劑(Dainippon Ink and Chemicals有限公司製造的Megafac F-177)0.02g
·γ-丁內酯 8g
·甲乙酮7g
·1-甲氧基-2-丙醇 7g
然後將如下的影象形成層塗層溶液2塗布到下影象形成層上，並在120℃下乾燥1min，形成上影象形成層，然後得到實施例1～18的平版印刷版前體。在塗層膜乾燥後影象形成層塗層溶液的總塗布量是1.8g/m2。

·線形酚醛樹脂(m/p＝6/4，Mw＝4000) 0.8g
·紅外吸收劑1 0.03g
·由通式(1)表示的化合物(在表1中敘述的化合物)0.04g
·用1-萘磺酸陰離子作為其抗衡離子由維多利亞純藍BOH得到的染料0.015g
·含氟表面活性劑(Dainippon Ink.and Chemicals有限公司製造的Megafac F-177)0.02g
·甲乙酮 10g
·1-甲氧基-2-丙醇 5g
比較實施例1
用與如上實施例相同的方法得到平版印刷版前體，只是使用的塗層溶液是從上影象形成層中使用的影象形成塗層液2中除去通式(1)的化合物製備的。
比較實施例2
用與如上實施例相同的方法得到平版印刷版前體，只是使用的塗層溶液是用如下結構的銨化合物代替通式(1)化合物混入上影象形成層中使用的影象形成塗層液2中來製備的。
平版印刷版前體的評價
按照如下的方法對每一塊得到的平版印刷版前體進行評價。評價的結果匯總在表1中。
1.敏感度
用Trend Setter 3244(CERO有限公司製造)將得到的平版印刷版前體進行曝光，並用DT-1(用水以1∶8的比例稀釋的溶液)進行顯影。此時，以不同的曝光量進行曝光，把在同樣的顯影條件下使曝光部分充分顯影所需的最小曝光量定義為「敏感度」。數值越低則敏感度的評分就越高。
2.抗劃傷特性
用吸收棉進行的摩擦試驗評價抗劃傷特性。用吸收棉以固定的力摩擦影象形成層表面。用由於吸收棉的摩擦完全除去未曝光部分時的摩擦次數來確定抗劃傷特性。在進行此項評價時，用5件試樣進行測試，採用5件試樣的平均摩擦數(最多20次)。
3.顯影寬容度
用Trend Setter 3224(CERO有限公司製造)以188mJ/cm2的曝光量對平版印刷版前體進行曝光，用適當稀釋DT-1未稀釋溶液並調節電導率(mSmilli-siemens)製備的顯影溶液進行顯影。此時，測量充分除去曝光部分的電導率和未曝光部分薄膜厚度減小時電導率的同一個限度，把這兩個電導率的差(電導率寬度)定義為顯影寬容度指數。此差值越大，則顯影寬容度的評分越高。表1
如在表1所顯示，可以理解，應用了本發明影象形成材料的實施例1～18的每個平版印刷版前體都獲得了高敏感度，同時保持高的顯影寬容度水平和抗劃傷特性。另一方面，沒有使用本發明所規定的銨化合物的比較例1的平版印刷版前體顯示出低的抗劃傷特性，顯影寬容度也低，即使它能夠進行高敏感度的記錄。比較例2的平版印刷版前體中，已知的銨化合物和鹼溶性樹脂有很強的相互作用，其敏感度和顯影寬容度都低，即使它顯示出優異的抗劃傷特性。這些比較例的平版印刷版前體都處於有問題的水平上。
實施例19～26
在與實施例1中使用相同的基體上塗布如下的影象形成層塗層溶液3，使得在溶液乾燥後的塗布量是1.2g/m2，得到平版印刷版前體。

·含氟聚合物(下面結構) 0.03g
·共聚物1 0.75g
·線形酚醛樹脂(m/p＝6/4，Mw＝4000) 0.20g
·通式(1)表示的化合物(表2中所述的化合物)0.05g
·四氫鄰苯二甲酸酐 0.03g
·吡喃鎓鹽染料B(下面的結構) 0.017g
·用1-萘磺酸陰離子作為其抗衡離子由維多利亞純藍BOH得到的染料0.015g
·3-甲氧基-4-疊氮二苯基胺六氟磷酸鹽 0.02g
·硬脂酸十二烷基酯 0.03g
·含氟表面活性劑(Dainippon Ink and Chemicals有限公司製造的Megafac F-177)0.05g
·γ-丁內酯 10g
·甲乙酮10g
·1-甲氧基-2-丙醇 8g
含氟聚合物
吡喃鎓鹽染料B
比較實施例3
以和上述實施例相同的方法得到平版印刷版前體，只是使用的塗層溶液是從影象形成塗層溶液3中除去由通式(1)表示的化合物來製備的。
比較實施例4
以和上述實施例相同的方法得到平版印刷版前體，只是使用的塗層溶液是在影象形成塗層溶液3中用比較實施例2中使用的銨化合物(胺A)代替由通式(1)表示的化合物來製備的。
用與實施例1相同的方法評價每塊得到的平版印刷版前體。評價結果顯示在表2中。
表2
如在表2中所顯示，可以理解，象具有多層結構的記錄層一樣，每塊應用了本發明影象形成材料和具有單層結構記錄層的實施例19～26的平版印刷版前體都獲得了高的敏感度，同時保持高的顯影寬容度和抗劃傷特性。另一方面，沒有添加本發明規定的銨化合物的比較例3的平版印刷版前體，顯示出低的抗劃傷特性，顯影寬容度也低下。而添加了本發明範圍以外的銨化合物的比較例4的平版印刷版前體，敏感度和顯影寬容度都差。這些比較例的平版印刷版前體都處於特別有問題的水平。
實施例27～34
在與實施例1使用的相同基體上塗布如下的影象形成層塗層溶液4，在130℃下乾燥1min，形成影象形成層，如此得到平版印刷版前體。溶液乾燥後的塗布量是1.3g/m2。

·線形酚醛樹脂(m/p＝6/4，Mw＝4000)1.0g
·通式(1)表示的化合物(在表3中所述的化合物)0.05g
·紅外吸收劑(下面的結構) 0.05g
·用1-萘磺酸陰離子作為其抗衡離子由維多利亞純藍BOH得到的染料0.01g
·含氟表面活性劑(Dainippon Ink and Chemicals有限公司製造的Megafac F-177)0.05g
·γ-丁內酯 3.0g
·甲乙酮 8.0g
·1-甲氧基-2-丙醇 7.0g
比較實施例5
用如上面實施例相同的方法得到平版印刷版前體，只是使用的塗層溶液是從影象形成塗層溶液4中除去通式(1)的化合物製備的。
比較實施例6
用如上面實施例相同的方法得到平版印刷版前體，只是使用的塗層溶液是在影象形成塗層溶液4中用在比較例2中使用的銨化合物(銨A)代替通式(1)的化合物而製備的。
用與實施例1相同的方法評價每塊得到的平版印刷版前體。評價結果顯示在表3中。表3
如在表3中所顯示，可以理解，象具有多層結構的記錄層的平版印刷版一樣，塗布了本發明的影象形成材料和具有單層結構使用線形酚醛樹脂的實施例27～34的平版印刷版前體獲得了高度的敏感度，同時保持了高水平的顯影寬容度和抗劃傷特性。另一方面，沒有添加本發明規定使用銨化合物的比較例5顯示出低的抗劃傷特性和低的顯影寬容度。而添加了本發明範圍以外的銨化合物的比較例6，敏感度和顯影寬容度都低下。這些比較例的平版印刷版前體都處於有特別問題的水平。
權利要求
1.一種影象形成材料，其包括由含有不溶於水而溶解於鹼的樹脂、光-熱轉化劑和如下通式(1)表示的化合物的影象形成材料組成的影象形成層
通式(1)
其中，R1～R3獨立地表示有機基團，這裡R1表示形成含N1原子環的殘基，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，或者R2和R3中至少一個和R1鍵合，形成環，而X-表示有機酸或無機酸的共軛鹼。
2.如權利要求1的影象形成材料，其中由R1和氮原子N1形成的環是3～10元環。
3.如權利要求1的影象形成材料，其中R1和氮原子N1形成的環還含有N1以外的雜原子。
4.如權利要求1的影象形成材料，其中R2和R3獨立地選自烷基、烯基、炔基、芳基、取代的或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、醯基、烷氧羰基、芳氧羰基、醯氧基、醯氨基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、磺醯氨基、氨基磺醯基、氨基甲醯基、烷硫基、芳硫基、磺醯基、亞磺醯基、脲基、磷醯氨基、羥基、巰基、滷原子、氰基、磺基、羧基、硝基、異羥肟酸基、亞磺基、肼基、亞胺基、雜環基和甲矽基。
5.如權利要求4的影象形成材料，其中R2和R3獨立地選自烷基、烯基、炔基和芳基。
6.如權利要求的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物可用如下的通式(1-a)表示
通式(1-a)
其中，R2和R3獨立地有機基團，R4～R7獨立地表示氫原子或取代基，而且R4～R7可以互相鍵合形成環，或者與L1、R2和/或R3鍵合形成環，當在碳原子C1和碳原子C2形成雙鍵的情況下，或者與L1結合形成三鍵的情況下，R4～R7可以不與此相當，L1表示多價的連接基團，可以形成含有-C1-N1-C2-或者單鍵的環，X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
7.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物可用如下的通式(1-b)表示
通式(1-b)
其中R2和R3獨立地有機基團，R4～R11獨立地表示氫原子或取代基，而且R4～R11可以互相鍵合形成環，或者與L2、R2和/或R3鍵合形成環，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者與分別與碳原子C1和碳原子C2結合形成三鍵時，當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或者與L2結合形成三鍵時，以及當L2表示將碳原子C3與碳原子C4相連的雙鍵時，R4～R11可以不相應於此而存在，L2表示一個多價的連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環，以及是連接C3和C4的單鍵或雙鍵，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
8.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物可用如下的通式(1-c)表示
通式(1-c)
其中R2～表示有機基團，R4～R13獨立地表示氫原子或取代基，R4～R13可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L2、R2和/或R3鍵合形成一個環，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L2一起形成三鍵，以及當L2表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R11可不相應於此而存在，Ar1表示一個芳香環，Ar1可與L2、R2和R4～R13鍵合形成環，n表示0或正整數，L2-表示一個多價連接基團，可形成含有C3-C1-N1-C2-C4-的環，以及是連接C3和C4的單鍵或雙鍵，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
9.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物可用如下的通式(1-d)表示
通式(1-d)其中R2～表示有機基團，R4～R14獨立地表示氫原子或取代基，R4～R14可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L2、R2和/或R3鍵合形成一個環，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L2一起形成三鍵，以及當L2表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R11可不相應於此而存在，n表示0或正整數，m表示0～5的整數，L2-表示一個多價連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環，或者是連接C3和C4的單鍵或雙鍵，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
10.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物可用如下的通式(1-e)表示
通式(1-e)
其中R2～表示有機基團，R4～R14獨立地表示氫原子或取代基，R4～R14可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L3和/或R2鍵合形成一個環，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L3一起形成三鍵，以及當L3表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R17可不相應於此而存在，m表示0～5的整數，n表示0或正整數，L3表示一個連接C3和C4的單鍵或雙鍵，或者是一個多價連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環，它可選自-O-、-S-、-N(RL1)-或-C(RL2)(RL3)-，這裡RL1～RL3可以獨立地表示氫原子或取代基，或者與R2和/或R4～R14鍵合形成環，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
11.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物可用如下的通式(1-f)表示
通式(1-f)
其中R4～R17獨立地表示氫原子或取代基，R4～R17可以互相鍵合形成一個環，或者可以與L3，當碳原子C3和碳原子C4形成一個雙鍵或者分別與碳原子C1和碳原子C2形成三鍵時、當碳原子C3和碳原子C4形成雙鍵或與L3一起形成三鍵，以及當L3表示連接碳原子C3與碳原子C4的雙鍵時，R4～R11可不相應於此而存在，n1和n2獨立地表示0或正整數，m1和m2獨立地表示0～5的整數，L3表示一個連接C3和C4的單鍵或雙鍵，或者是個多價連接基團，可形成含有-C3-C1-N1-C2-C4-的環，它選自-O-、-S-、-N(RL1)-或-C(RL2)(RL3)-，這裡RL1～RL3可以獨立地表示氫原子或取代基，可以與R2和/或R4～R14鍵合形成環，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
12.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物用如下通式表示
其中，R2和R3獨立地表示有機基團，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
13.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物用如下通式表示
其中，R2和R3獨立地表示有機基團，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
14.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物用如下通式表示
其中，R2和R3獨立地表示有機基團，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
15.如權利要求1的影象形成材料，其中由通式(1)表示的化合物用如下通式表示
其中，R2和R3獨立地表示有機基團，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
16.一種如下面通式(1-N)表示的銨化合物
通式(1-N)
其中RN1和RN2獨立地表示選自烷基、烯基、炔基、芳基、氨基、烷氧基、芳氧基、醯基、烷氧羰基、芳氧羰基、醯氧基、醯胺基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、磺醯胺基、氨基磺醯基、氨基甲醯基、烷硫基、芳硫基、磺醯基、羥基、巰基、滷原子、氰基、磺基、羧基和硝基等取代基，m和n獨立地表示0～5的整數，條件是當分別有多個RN1和RN2存在時，此多個RN1和RN2可分別相同或不同，可以獨立地互相鍵合形成環，Y表示-CH2-、-O-或-S-，而X-表示有機酸或無機酸的抗衡離子。
全文摘要
一種影象形成材料包括由不溶於水而溶解於鹼的樹脂、光－熱轉化劑和由通式(1)表示的化合物組成的影象形成層。在通式(1)中，R1～R3獨立地表示有機基團，這裡R1表示形成含N1原子環的殘基，R2和R3可以互相鍵合形成一個環，或者R2和R3中至少一個和R1鍵合，形成環，而X－表示有機酸或無機酸的共軛鹼。含N1原子的環優選是哌啶環。
文檔編號C07D295/12GK1400505SQ0212700
公開日2003年3月5日 申請日期2002年7月25日 優先權日2001年7月26日
發明者巖戶薰, 曾呂利忠弘 申請人:富士膠片株式會社