感放射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡及其形成方法

2023-08-08 23:15:56

專利名稱：：感放射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡及其形成方法
技術領域：
：本發明涉及感放射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡及其形成方法。
背景技術：
：薄膜電晶體(以下稱為"TFT")型液晶顯示元件或磁頭元件、集成電路元件、固體攝像元件等電子部件中，為了使配置成層狀的配線之間絕緣，通常設置層間絕緣膜。作為形成層間絕緣膜的材料，優選用於獲得必需的圖案形狀的工序數少並且具有充分的平坦性的材料，所以廣泛使用感放射線性樹脂組合物(參見特開2001-354822及特開2001-343743)。上述電子部件中，例如TFT型液晶顯示元件通過在上述層間絕緣膜上形成透明電極膜、進而在其上形成液晶取向膜的工序製造，所以層間絕緣膜在透明電極膜的形成工序中暴露在高溫條件下，並暴露在用於形成電極圖案的抗蝕劑的剝離液中，所以必須具有對上述情況的充分的耐性。另外，近年來TFT型液晶顯示元件向大畫面化、高亮度化、高精細化、高速應答化、薄型化等方向發展，要求用於該顯示元件的層間絕緣膜形成用組合物為高感度，並要求形成的層間絕緣膜具有低介電常數、高透射率等高於現有水平的高性能。作為上述低介電常數、高透射率的層間絕緣膜，已知丙烯酸樹脂和重氮醌的組合(特開2005-320542)、酚醛樹脂和重氮醌的組合(特開2003-255546)。但是，上述材料通過膜形成後的加熱工序而發生脫氣，存在透明性降低等問題。進而，由目前已知的感放射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜時的顯影工序中，如果顯影時間比最佳時間略長，則可能發生圖案的剝離。因此，由感放射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜時，作為組合物要求具有高感度，並且即使形成工序中的顯影工序中顯影時間超過規定時間的情況下也不發生圖案剝離，顯示良好的密合性，並且由此形成的層間絕緣膜具有高耐熱性、高耐溶劑性、低介電常數、高透射率等，但是目前還沒有滿足上迷要求的感放射線性樹脂組合物。另一方面，作為傳真、電子複印機、固體攝像元件等單片濾色片的成像光學體系或光纖連接器的光學類材料，使用透鏡直徑為3~lOOpm左右的微透鏡、或規則地排列上述微透鏡形成的微透鏡陣列，為了形成微透鏡或微透鏡陣列，已知有以下方法形成相當於透鏡的抗蝕劑圖案後，進行加熱處理，使其熔融，直接用作透鏡的方法；或以熔融的透鏡圖案為掩模，進行乾式蝕刻，在基底上轉印透鏡形狀的方法等。為了形成上述透鏡圖案，廣泛使用感放射線性樹脂組合物(參見特開平6-18702及特開平6-136239)。但是，形成有上述微透鏡或微透鏡陣列的元件隨後被應用於下述工序，即，為了除去作為配線形成部分的焊盤上的各種絕緣膜，塗布平坦化膜及蝕刻用抗蝕劑膜，使用所希望的掩模進^f亍膝光、顯影，除去焊盤部分的蝕刻抗蝕劑，然後通過蝕刻除去平坦化膜或各種絕緣膜，露出焊盤部分的工序。因此，微透鏡或微透鏡陣列在平坦化膜及蝕刻抗蝕劑的塗膜形成工序及蝕刻工序中必須具有耐溶劑性和耐熱性。要求用於形成上迷微透鏡的感放射線性樹脂組合物為高感度，且由該組合物形成的微透鏡具有所希望的曲率半徑，具有高耐熱性、高透射率等。另外，由目前已知的感放射線性樹脂組合物得到的微透鏡如果在形成上述透鏡時的顯影工序中顯影時間略長於最佳時間，則顯影液浸透到圖案與基板之間，變得容易發生剝離，所以必須嚴格控制顯影時間，產品的成品率方面存在問題。這樣由感放射線性樹脂組合物形成微透鏡時，作為組合物要求高感度，並且即使在形成工序中的顯影工序的顯影時間略長於規定時間的情況下也不發生圖案剝離顯示良好的密合性，並且作為微透鏡具有良好的熔化形狀(所希望的曲率半徑)、高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率，目前仍然沒有滿足上述要求的感放射線性樹脂組合物。需要說明的是，作為高耐熱性'高透明性'低介電常數的材料，已知矽氧烷聚合物，還已知將其用於層間絕緣膜(特開2006-178436)。但是，為了使矽氧烷聚合物表現出充分的耐熱性，矽氧烷聚合物的充分交聯是必須的，因此必須進行250300'C以上的高溫燒成，存在不適用於生產顯示元件的工序的問題。另外，雖然嘗試將矽氧烷聚合物用於微透鏡，但是還沒有工業上成功的例子。
發明內容本發明是基於以上事實完成的。因此，本發明的目的在於提供感放射線性樹脂組合物，該感放射線性樹脂組合物在不足250。C的燒成條件下，用於形成層間絕緣膜時，能夠形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率、低介電常數的層間絕緣膜，並且用於形成微透鏡時能夠形成具有高透射率和良好的熔化形狀的微透鏡。本發明的其他目的在於提供感放射線性組合物，該感放射線性組合物具有高感放射線感度，具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好的圖案形狀的顯影裕度，能夠容易地形成密合性優異的圖案狀薄膜。本發明的另一個目的是提供使用上述感放射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜及微透鏡的方法。本發明的另一個目的是提供由本發明的方法形成的層間絕緣膜及微透鏡。本發明的另一個目的及優點通過以下的i兌明進一步明確。根據本發明，本發明的上述目的及優點，第l，通過感放射線性樹脂組合物而實現，該感放射線性樹脂組合物含有[A]具有選自環氧乙烷基及氧雜環丁烷基中的至少l種基團、和能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團的聚矽氧烷，及[B]l，2-重氮醌化合物。本發明的上述目的及優點，第2,通過按下述順序包含以下工序的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法而實現。(1)在基板上形成上述感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)將放射線照射後的被膜顯影的工序，及(4)加熱顯影后的被膜的工序。進而本發明的上迷目的及優點，第3通過由上述方法形成的層間絕緣膜或微透鏡而實現。圖l是微透鏡的剖面形狀的模式圖。具體實施方式以下詳細說明本發明的感放射線性樹脂組合物。[A〗成分本發明中使用的[A]成分是具有選自環氧乙烷基及氧雜環丁烷基中的至少l種基團、和能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團的聚矽氧烷。作為上迷能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團，例如可以舉出羥基、巰基、氨基等。本發明中使用的[A]成分例如優選含有下迷化合物(al)、(a2)的水解縮合物(以下稱為聚矽氧烷[A])。(al)具有選自環氧乙烷基及氧雜環丁烷基中的至少l種基團和水解性基團的矽烷化合物(以下也稱為"化合物(al)")、(a2)具有能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團和水解性基團的矽烷化合物(以下也稱為"化合物(a2)")。化合物(al)優選為下述式(1)表示的矽烷化合物。(XV)aSiR、R2。(1)(式(1)中，X'為環氧乙烷基、縮水甘油基、環氧丙氧基、3,4-環氧環己基或3-氧雜環丁烷基，其中3-氧雜環丁烷基的3位碳可以被碳數l~6的烷基取代，丫1為單鍵、亞甲基或碳數26的亞烷基，1^為碳數1~6的烷氧基或碳數2~6的醯氧基，W為碳數l~6的烷基或碳數6~12的芳基，a及b分別獨立地表示l~3的整數，c為02的整數，其中a+b+c-4。)作為可以取代在上述式(1)中的X'的3-氧雜環丁烷基的3位碳上的碳數1~6的烷基，優選碳數1~3的烷基，例如可以舉出甲基、乙基、正丙基等。作為Y1,優選亞曱基、或碳數2或3的亞烷基。作為Y^々碳數2或3的亞烷基，例如可以舉出亞乙基、三亞甲基等。作為R1，優選碳數l~3的烷氧基或碳數2~4的醯氧基，例如可以舉出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、乙醯基等。作為R2，優選碳數1~4的烷基或碳數6~8的芳基，例如可以舉出甲基、乙基、苯基等。作為該化合物(al)的具體例，可以分別舉出以下化合物作為含有環氧乙烷基的矽烷化合物，例如有環氧丙氧基甲基三甲氧基矽烷、環氧丙氧基甲基三乙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基三正丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基三異丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基三乙醯氧基矽烷、環氧丙氧基甲基曱基二曱氧基矽烷、環氧丙氧基曱基甲基二乙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基甲基二正丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基甲基二異丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、環氧丙氧基甲基乙基二甲氧基矽烷、環氧丙氧基甲基乙基二乙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基乙基二正丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基乙基二異丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、環氧丙氧基甲基苯基二甲氧基矽烷、環氧丙氧基甲基苯基二乙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基苯基二正丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基苯基二異丙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基三甲氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基三乙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基三正丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基三異丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基三乙醯氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基甲基二甲氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基甲基二乙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基甲基二正丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基甲基二異丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基乙基二甲氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基乙基二乙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基乙基二異丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基苯基二甲氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基苯基二乙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基苯基二異丙氧基矽烷、2-環氧丙氧基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基三正丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基三異丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基三乙醯氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基曱基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基甲基二異丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基乙基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基乙基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基苯基二曱氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基苯基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基苯基二乙醯氧基矽烷、(3,4-環氧環己基)甲基三曱氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基三乙氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)曱基三正丙氧基矽烷、(3,4-環氧環己基)甲基三乙醯氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基甲基二甲氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)曱基甲基二乙氧基矽烷、(3,4-環氣環己基)甲基甲基二正丙氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)曱基乙基二乙氧基矽烷、(3,4-環氧環己基)甲基乙基二正丙氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)曱基苯基二甲氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基苯基二乙氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基苯基二正丙氧基矽烷、(3，4-環氧環己基)甲基苯基二乙醯氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三乙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三正丙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三乙醯氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基曱基二乙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基甲基二正丙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基乙基二甲氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基乙基二乙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基苯基二甲氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基苯基二乙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基三甲氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基三乙氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基三正丙氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基三乙醯氧基矽烷、3-(3'，4，-環氧環己基)丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基甲基二乙氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基曱基二乙醯氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基乙基二曱氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基乙基二乙氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基9乙基二正丙氧基矽烷、3-(3，4，-環氧環己基)丙基乙基二乙醜氧基矽烷、3-(3，，4'-環氧環己基)丙基苯基二甲氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基苯基二乙氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-(3，，4，-環氧環己基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷等；作為含有氧雜環丁烷基的矽烷化合物，例如有(氧雜環丁烷-3-基)曱基三甲氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基三乙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基三正丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基三異丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基三乙醯氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)曱基甲基二甲氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二乙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二正丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二異丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二乙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二正丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二甲氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)曱基苯基二乙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)曱基苯基二正丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)曱基苯基二乙醯氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基三甲氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基三乙氧基矽烷、(氧雜環丁烷-3-基)乙基三正丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基三乙醯氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二甲氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二乙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二正丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二異丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基曱基二乙醯氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二甲氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二甲氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基笨基二乙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基矽烷、2-(氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基三甲氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基三乙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基三乙醯氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二乙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二異丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二甲氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二甲氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-(氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷、(3-曱基氧雜環丁烷-3-基)甲基三甲氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基三乙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基三正丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基三異丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基三乙醯氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二曱氧基矽烷、(3-曱基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二乙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二正丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二異丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二乙醯氧基矽烷、(3-甲基氣雜環丁烷-3-基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)曱基乙基二乙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二正丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二甲氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二乙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二正丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基矽烷、(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲基笨基二乙醯氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三乙氧基矽烷、2-(3，-曱基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三正丙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基矽烷、2-(3，-曱基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三乙醯氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二正丙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二異丙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二甲氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二甲氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二乙氧基矽烷、2-(3，-曱基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-(3-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基矽烷、2-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三甲氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三乙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三乙醯氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二曱氧基矽烷、3-(3，-曱基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二乙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-(3，-曱基氧雜環丁烷-3，-基)丙基曱基二異丙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基曱基二乙醯氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二甲氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3'-基)丙基苯基二甲氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-(3，-甲基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷、(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)甲基三甲氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基三乙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基三正丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基三異丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基三乙醯氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二甲氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二乙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基曱基二正丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基甲基二異丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基曱基二乙醯氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二甲氧基矽烷、(3-乙基氣雜環丁烷-3-基)甲基乙基二乙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱基乙基二正丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基乙基二乙醯氣基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二甲氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱基苯基二乙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱基苯基二正丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基矽烷、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基苯基二乙醯氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三乙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三正丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基三乙醯氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基曱基二正丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二異丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二曱氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基笨基二甲氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二乙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基矽烷、2-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三甲氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三乙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三乙醯氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二乙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二異丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二甲氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二甲氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基苯基二乙醯氧基矽烷等。其中，3-環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基曱基二曱氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三乙氧基矽烷、3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三甲氧基矽烷或3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三乙氣基矽烷提高感放射線性樹脂組合物的感度，增加顯影裕度，使耐熱性提高，故而優選使用。上述化合物(al)可以單獨使用l種，或者組合2種以上進行使用。作為化合物(a2)中的能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團，例如可以舉出羥基、巰基、氨基等。該氨基優選伯氨基或仲氨基。作為水解性基團，例如可以舉出烷氧基、醯氧基、烷氧基烷氧基等。該烷氧基具有的碳數優選為l~6，醯氧基具有的碳數優選為2~6，烷氧基烷氧基具有的碳數優選為2~8。化合物U2)優選為下述式(2)表示的矽烷化合物。(X2Y2)dSiR3eR4f(2)(式(2)中，X匸為羥基、輕基苯基、羥基苯基羰氧基、巰基或氨基，丫2為單鍵、亞甲基、碳數2~6的亞烷基或下述式(2-1)表示的二價基團，-Y3-Z-Y4-(2-1)(式(2-l)中，丫3為亞甲基、碳數2~6的亞烷基或碳數6~12的亞芳基，丫4為單鍵、亞甲基或碳數2~6的亞烷基，Z為硫原子或羥基亞甲基，其中式(2-1)的左側與基團乂2鍵合。)W為碳數l~6的烷氧基、碳數2~6的醯氧基或碳數2~8的烷氧基烷氧基，W為碳數l~6的烷基或碳數6~12的芳基，d及e分別獨立表示l-3的整數，f為02的整數，其中d+e+f-4。)作為上述式(2)中的乂2的羥基苯基，優選4-羥基苯基，作為羥基苯基羰氧基，優選對羥基苯基羰氧基。作為乂2的氨基，可以為伯氨基或仲氨基，例如可以舉出伯氨基、N-苯基氨基、N-2-(氨基乙基)氨基等。作為Y2，優選亞甲基或碳數2或3的亞烷基。作為丫2的碳數2或3的亞烷基，例如可以舉出亞乙基、三亞甲基等。作為R3，優選碳數1~3的烷氧基、碳數2~4的醯氧基或碳數2~6的烷氧基烷氧基，例如可以舉出曱氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、乙醯基、曱氧基乙氧基等。作為R4，優選碳數l~4的烷基或碳數6~8的芳基，例如可以舉出甲基、乙基、苯基等。作為化合物(a2)的具體例，可以分別舉出下述化合物作為含有羥基的矽烷化合物，例如有羥基甲基三甲氧基矽烷、羥基甲基三乙氧基矽烷、羥基曱基三正丙氧基矽烷、羥基甲基三異丙氧基矽烷、羥基曱基三乙醯氧基矽烷、羥基甲基三(甲氧基乙氧基)矽烷、羥基甲基甲基二甲氧基矽烷、羥基甲基曱基二乙氧基矽烷、羥基甲基曱基二正丙氧基矽烷、羥基甲基曱基二異丙氧基矽烷、羥基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、羥基曱基乙基二曱氧基矽烷、羥基甲基乙基二乙氧基矽烷、羥基甲基乙基二正丙氧基矽烷、羥基甲基乙基二異丙氧基矽烷、羥基曱基乙基二乙醯氧基矽烷、羥基甲基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、羥基甲基苯基二曱氧基矽烷、羥基曱基苯基二乙氧基矽烷、羥基甲基苯基二正丙氧基矽烷、羥基曱基苯基二異丙氧基矽烷、羥基曱基苯基二乙醯氧基矽烷、羥基甲基苯基二(曱氧基乙氧基)矽烷、2-羥基乙基三甲氧基矽烷、2-羥基乙基三乙氧基矽烷、2-羥基乙基三正丙氧基矽烷、2-羥基乙基三異丙氧基矽烷、2-羥基乙基三乙醯氧基矽烷、2-羥基乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2-羥基乙基甲基二甲氧基矽烷、2-羥基乙基甲基二乙氧基矽烷、2-羥基乙基甲基二正丙氧基矽烷、2-羥基乙基曱基二異丙氧基矽烷、2-羥基乙基曱基二乙醯氧基矽烷、2-羥基乙基乙基二曱氧基矽烷、2-羥基乙15基乙基二乙氧基矽烷、2-羥基乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-羥基乙基乙基二異丙氧基矽烷、2-羥基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-羥基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2-羥基乙基苯基二甲氧基矽烷、2-羥基乙基苯基二乙氧基矽烷、2-羥基乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-羥基乙基苯基二異丙氧基矽烷、2-羥基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2-羥基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3-幾基丙基三曱氧基矽烷、3-羥基丙基三乙氧基矽烷、3-羥基丙基三正丙氧基矽烷、3-羥基丙基三異丙氧基矽烷、3-羥基丙基三乙醯氧基矽烷、3-羥基丙基三(曱氧基乙氧基)矽烷、3-羥基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-羥基丙基曱基二乙氧基矽烷、3-羥基丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-羥基丙基甲基二異丙氧基矽烷、3-羥基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3-羥基丙基乙基二甲氧基矽烷、3-羥基丙基乙基二乙氧基矽烷、3-輕基丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-羥基丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-羥基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-羥基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3-羥基丙基苯基二曱氧基矽烷、3-羥基丙基苯基二乙氧基矽烷、3-羥基丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-羥基丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-羥基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-羥基丙基苯基二(曱氧基乙氧基)矽烷、4-羥基苯基三甲氧基矽烷、4-羥基苯基三乙氧基矽烷、4-羥基苯基三正丙氧基矽烷、4-羥基苯基三異丙氧基矽烷、4-羥基苯基三乙醯氧基矽烷、4-羥基苯基三(曱氧基乙氧基)矽烷、4-幾基苯基曱基二曱氧基矽烷、4-羥基苯基甲基二乙氧基矽烷、4-羥基苯基曱基二正丙氧基矽烷、4-羥基苯基曱基二異丙氧基矽烷、4-羥基苯基甲基二乙醯氧基矽烷、4-羥基苯基乙基二甲氧基矽烷、4-羥基苯基乙基二乙氧基矽烷、4-羥基苯基乙基二正丙氧基矽烷、4-羥基苯基乙基二異丙氧基矽烷、4-羥基苯基乙基二乙醯氧基矽烷、4-羥基苯基乙基二(曱氧基乙氧基)矽烷、4-羥基苯基苯基二曱氧基矽烷、4-羥基苯基苯基二乙氧基矽烷、4-羥基笨基苯基二正丙氧基矽烷、4-羥基苯基苯基二異丙氧基矽烷、4-羥基苯基苯基二乙醯氧基矽烷、4-羥基苯基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三曱氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三乙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三正丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三異丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三乙醯氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三(甲氧基乙氧基)矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基曱基二甲氧基矽烷、4-羥基-5-(對輕基苯基羰氧基)戊基甲基二乙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基甲基二正丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基曱基二異丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基甲基二乙醯氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二甲氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二乙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二正丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二異丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二乙醯氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二曱氧基矽烷、4-羥基-5-(對輕基苯基羰氧基)戊基苯基二乙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二正丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二異丙氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二乙醯氧基矽烷、4_輕基-5_(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、下述式(a2-l)表示的化合物等；HO-Y3-S-Y4-Si(OR)3(a2-l)(式(2a-l)中，丫3及丫4表示與上迷式(2-1)中的定義相同的含義，R分別獨立地表示碳數1~6的烷基或碳數2~6的醯基。)作為含有巰基的矽烷化合物，例如有巰基曱基三曱氧基矽烷、巰基甲基三乙氧基矽烷、巰基甲基三正丙氧基矽烷、巰基甲基三異丙氧基矽烷、巰基曱基三乙醯氧基矽烷、巰基曱基三(曱氧基乙氧基)矽烷、巰基甲基曱基二甲氧基矽烷、巰基甲基甲基二乙氧基矽烷、巰基甲基甲基二正丙氧基矽烷、巰基甲基甲基二異丙氧基矽烷、巰基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、巰基甲基乙基二甲氧基矽烷、巰基甲基乙基二乙氧基矽烷、巰基甲基乙基二正丙氧基矽烷、巰基甲基乙基二異丙氧基矽烷、巰基曱基乙基二乙醯氧基矽烷、巰基曱基乙基二(曱氧基乙氧基)矽烷、巰基甲基苯基二曱氧基矽烷、巰基曱基苯基二乙氧基矽烷、巰基甲基苯基二正丙氧基矽烷、巰基曱基苯基二異丙氧基矽烷、巰基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、巰基甲基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2-巰基乙基三甲氣基矽烷、2-巰基乙基三乙氧基矽烷、2-巰基乙基三正丙氧基矽烷、2-巰基乙基三異丙氧基矽烷、2-巰基乙基三乙醯氧基矽烷、2-巰基乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2-巰基乙基甲基二甲氧基矽烷、2-巰基乙基甲基二乙氧基矽烷、2-巰基乙基甲基二正丙氧基矽烷、2-巰基乙基甲基二異丙氧基矽烷、2-巰基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-巰基乙基乙基二甲氧基矽烷、2-巰基乙基乙基二乙氧基矽烷、2-巰基乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-巰基乙基乙基二異丙氧基矽烷、2-巰基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-巰基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2-巰基乙基苯基二曱氧基矽烷、2-巰基乙基苯基二乙氧基矽烷、2-巰基乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-巰基乙基苯基二異丙氧基矽烷、2-巰基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2-巰基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三正丙氧基矽烷、3-巰基丙基三異丙氧基矽烷、3-巰基丙基三乙醯氧基矽烷、3-巰基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、3-疏基丙基曱基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二異丙氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3-巰基丙基乙基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基乙基二乙氧基矽烷、3-巰基丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-巰基丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-巰基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-巰基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3-巰基丙基苯基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基苯基二乙氧基矽烷、3-巰基丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-巰基丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-巰基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-巰基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等；作為含有氨基的矽烷化合物，例如有氨基甲基三甲氧基矽烷、氨基曱基三乙氧基矽烷、氨基曱基三正丙氧基矽烷、氨基甲基三異丙氧基矽烷、氨基甲基三乙醯氧基矽烷、氨基甲基三(曱氧基乙氧基)矽烷、氨基甲基曱基二甲氧基矽烷、氨基曱基甲基二乙氧基矽烷、氨基甲基曱基二正丙氧基矽烷、氨基甲基甲基二異丙氧基矽烷、氨基甲基曱基二乙醯氧基矽烷、氨基甲基乙基二甲氧基矽烷、氨基曱基乙基二乙氧基矽烷、氨基曱基乙基二正丙氧基矽烷、氨基甲基乙基二異丙氧基矽烷、氨基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、氨基曱基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、氨基甲基苯基二曱氧基矽烷、氨基曱基苯基二乙氧基矽烷、氨基曱基苯基二正丙氧基矽烷、氨基甲基苯基二異丙氧基矽烷、氨基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、氨基甲基苯基二(曱氧基乙氧基)矽烷、2-氨基乙基三甲氧基矽烷、2-氨基乙基三乙氧基矽烷、2-氨基乙基三正丙氧基矽烷、2-氨基乙基三異丙氧基矽烷、2-氨基乙基三乙醯氧基矽烷、2-氨基乙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、2-氨基乙基甲基二甲氧基矽烷、2-氨基乙基甲基二乙氧基矽烷、2-氨基乙基甲基二正丙氧基矽烷、2-氨基乙基甲基二異丙氧基矽烷、2-氨基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-氨基乙基乙基二甲氧基矽烷、2-氨基乙基乙基二乙氧基矽烷、2-氨基乙基乙基二正丙氧基矽烷、2-氨基乙基乙基二異丙氧基矽烷、2-氨基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-氨基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、2-氨基乙基苯基二曱氧基矽烷、2-氨基乙基苯基二乙氧基矽烷、2-氨基乙基苯基二正丙氧基矽烷、2-氨基乙基苯基二異丙氧基矽烷、2-氨基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2-氨基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3-氨基丙基三甲氧基矽烷、3-氨基丙基三乙氧基矽烷、3-氨基丙基三正丙氧基矽烷、3-氨基丙基三異丙氧基矽烷、3-氨基丙基三乙醯氧基矽烷、3-氨基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、3-氨基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氨基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-氨基丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-氨基丙基曱基二異丙氧基矽烷、3-氨基丙基曱基二乙醯氧基矽烷、3-氨基丙基乙基二曱氧基矽烷、3-氨基丙基乙基二乙氧基矽烷、3-氨基丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-氨基丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-氨基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-氨基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、3-氨基丙基苯基二甲氧基矽烷、3-氨基丙基苯基二乙氧基矽烷、3-氨基丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-氨基丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-氨基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-氨基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三正丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三異丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙醯氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基曱基二乙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二正丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二異丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二甲氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二乙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二正丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二異丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二甲氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二乙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二正丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二異丙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三曱氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三正丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三異丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙醯氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二曱氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二乙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二正丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二異丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二曱氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二乙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二正丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二異丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二甲氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二乙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二正丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二異丙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷等。其中，從得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、透明性、耐剝離液性方面考慮，可以優選使用羥基曱基三甲氧基矽烷、羥基乙基三甲氧基矽烷、三甲氧基曱矽烷基丙基-l-(4，-羥基苯基)丙基硫醚、三甲氧基曱矽烷基丙基-l-(2，-羥基苯基)丙基硫醚、三甲氧基甲矽烷基丙基-2-(4，-羥基苯基)丙基硫醚、三曱氧基曱矽烷基丙基-2-(2，-羥基苯基)丙基硫醚、三甲氧基曱矽烷基乙基-(4，-羥基苯基)疏醚、三甲氧基甲矽烷基丙基-(4，-羥基苯基)硫醚、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三乙氧基矽烷或氨基曱基三甲氧基矽烷。上述化合物(a3)可以單獨使用l種或2種以上組合使用。聚矽氧烷(A)可以是僅含有上述化合物(al)和(a2)的矽烷化合物的水解縮合物，或者是除了化合物(al)和(a2)之外進一步含有(al)、(a2)之外的水解性矽烷化合物的矽烷化合物(a3)的水解縮20合物。化合物(a3)優選為下述式(3)表示的矽烷化合物。SiR5gR6h(3)(式(3)中，115為碳數1~6的烷氧基或碳數6~18的芳基氧基，其中芳基氧基的氫原子的一部分或全部可以被滷原子、氰基、硝基或碳數1~6的烷基取代，116為碳數1~6的烷基、碳數2~6的鏈烯基、碳數6~18的芳基、或(甲基)丙烯醯氧基，其中芳基具有的氫原子的一部分或全部可以被卣原子、氰基、硝基或碳數1~6的烷基取代，(曱基)丙烯醯氧基可以通過亞甲基或碳數2~6的亞烷基鍵合，g為l4的整數，h為0-3的整數，其中g+h-4。)。作為上述式(3)中的R5，優選碳數1~4的烷氧基或碳數6~12的芳基氧基，例如可以舉出曱氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、苯氧基、萘氧基、4-氯苯氧基、4-氰基苯氧基、4-硝基苯氧基、4-甲苯甲醯氧基等。作為R6,優選碳數1~3的烷基、碳數2~4的鏈烯基、碳數6~12的芳基、或直接或通過亞曱基或碳數2~3的亞烷基鍵合的(甲基)丙烯醯氧基，作為其具體例，例'如可以舉出甲基、乙基、苯基、4-氯苯基、4-氰基苯基、4-硝基苯基、4-甲苯甲醯基、萘基、乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯氧基、(曱基)丙烯醯氧基曱基、2-(曱基)丙烯醯氧基乙基、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基等。作為化合物(a3)的具體例，例如可以舉出四曱氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四正丙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷之類四烷氧基矽烷；曱基三曱氧基矽烷、曱基三乙氧基矽烷、甲基三正丙氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、環己基三乙氧基矽烷之類單烷基三烷氧基矽烷；苯基三乙氧基矽烷、萘基三乙氧基矽烷、4-氯苯基三乙氧基矽烷、4-氰基苯基三乙氧基矽烷、4-硝基苯基三乙氧基矽烷、4-甲基苯基三乙氧基矽烷之類單芳基三烷氧基矽烷；苯氧基三乙氧基矽烷、萘氧基三乙氧基矽烷、4-氯苯氧基三乙氧基矽烷、4-氰基苯基三氧基乙氧基矽烷、4-硝基苯氧基三乙氧基矽烷、4-甲基苯氧基三乙氧基矽烷之類單芳基氧基三烷氧基矽烷；二曱基二曱氧基矽烷、二曱基二乙氧基矽烷、二甲基二正丙氧基矽21烷、甲基(乙基)二乙氧基矽烷、甲基(環己基)二乙氧基矽烷之類二烷基二烷氧基矽烷；甲基(苯基)二乙氧基矽烷之類單烷基單芳基二烷氧基矽烷；二苯基二乙氧基矽烷之類二芳基二烷氧基矽烷；二苯氧基二乙氧基矽烷之類二芳基氧基二烷氧基矽烷；甲基(苯氧基)二乙氧基矽烷之類單烷基單芳基氧基二烷氧基矽烷；苯基(苯氧基)二乙氧基矽烷之類單芳基單芳基氧基二烷氧基矽烷；三甲基乙氧基矽烷、三甲基正丙氧基矽烷、二甲基(乙基)乙氧基矽烷、二甲基(環己基)乙氧基矽烷之類三烷基單烷氧基矽烷；二甲基(苯基)乙氧基矽烷之類二烷基單芳基單烷氧基矽烷；曱基(二苯基)乙氧基矽烷之類單烷基二芳基單烷氧基矽烷；三苯氧基乙氧基矽烷之類三芳基氧基單烷氧基矽烷；甲基(二苯氧基)乙氧基矽烷之類單烷基二芳基氧基單烷氧基矽烷；苯基(二苯氧基)乙氧基矽烷之類單芳基二芳基氧基單烷氧基矽烷；二曱基(笨氧基)乙氧基矽烷之類二烷基單芳基氧基單烷氧基矽烷；二苯基(苯氧基)乙氧基矽烷之類二芳基單芳基氧基單烷氧基矽烷；甲基(苯基)(苯氧基)乙氧基矽烷之類單烷基單芳基單芳基氧基單烷氧基矽烷；乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三正丙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三(甲氧基乙氧基)矽烷、乙烯基甲基二甲氧基矽烷、乙烯基甲基二乙氧基矽烷、乙烯基甲基二正丙氧基矽烷、乙烯基甲基二異丙氧基矽烷、乙烯基曱基二乙醯氧基矽烷、乙烯基乙基二曱氧基矽烷、乙烯基乙基二乙氧基矽烷、乙烯基乙基二正丙氧基矽烷、乙烯基乙基二異丙氧基矽烷、乙烯基乙基二乙醯氧基矽烷、乙烯基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、乙烯基苯基二甲氧基矽烷、乙烯基苯基二乙氧基矽烷、乙烯基苯基二正丙氧基矽烷、乙烯基苯基二異丙氧基矽烷、乙烯基苯基二乙醯氧基矽烷、乙烯基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷之類含有乙烯基的烷氧基矽烷；烯丙基三甲氧基矽烷、烯丙基三乙氧基矽烷、烯丙基三正丙氧基矽烷、烯丙基三異丙氧基矽烷、烯丙基三乙醯氧基矽烷、烯丙基三(甲氧基乙氧基)矽烷、烯丙基甲基二甲氧基矽烷、烯丙基甲基二乙氧基矽烷、烯丙基甲基二正丙氧基矽烷、烯丙基甲基二異丙氧基矽烷、烯丙基甲基二乙醯氧基矽烷、烯丙基乙基二甲氧基矽烷、烯丙基乙基二乙氧基矽烷、烯丙基乙基二正丙氧基矽烷、烯丙基乙基二異丙氧基矽烷、烯丙基乙基二乙醯氧基矽烷、烯丙基乙基二(甲氧基乙氧基)矽烷、烯丙基苯基二甲氧基矽烷、烯丙基苯基二乙氧基矽烷、烯丙基苯基二正丙氧基矽烷、烯丙基苯基二異丙氧基矽烷、烯丙基苯基二乙醯氧基矽烷、烯丙基苯基二(甲氧基乙氧基)矽烷之類含有烯丙基的矽烷；(甲基)丙烯醯氧基曱基三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基三乙氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基三正丙氧基矽烷、(曱基)丙烯醯氧基曱基三異丙氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基三乙醯氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基甲基二甲氧基矽烷、(曱基)丙烯醯氧基甲基甲基二乙氧基矽烷、(曱基)丙烯醯氧基曱基曱基二正丙氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基曱基甲基二異丙氧基矽烷、(曱基)丙烯醯氧基曱基甲基二乙醯氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二甲氧基矽烷、(曱基)丙烯醯氧基曱基乙基二乙氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基曱基乙基二正丙氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二異丙氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基苯基二甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基苯基二乙氧基矽烷、(曱基)丙烯醯氧基甲基苯基二正丙氧基矽烷、(曱基)丙烯醯氧基曱基苯基二異丙氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基曱基苯基二乙醯氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基三乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基三正丙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基三異丙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基三乙醯氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基乙基曱基二曱氧基矽烷、2-(曱基)丙烯醯氧基乙基甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基甲基二正丙氧基矽烷、3-(曱基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三正丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙醯氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基曱基二曱氧基矽烷、3-(曱基)丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二正丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基曱基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3-(曱基)丙烯醯氧基丙基乙基二曱氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基乙基二乙氧基矽烷、3-(曱基)丙烯醯氧基丙基乙基二正丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基乙基二異丙氧基矽烷、3-(曱基)丙烯醯氧基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二甲氧基矽烷、3-(曱基)丙烯醯氧基丙基苯基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二正丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基苯基二乙醯氧基矽烷之類含有(甲基)丙烯醯基的矽烷等。上述化合物(a3)中，從反應性及得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、透明性、耐剝離液性方面考慮，優選使用四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、曱基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、苯基三曱氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、烯丙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷或3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷。上述化合物(a3)可以單獨使用l種，或者組合2種以上進行使用。基於由化合物(al)、(a2)及(a3)衍生的重複單元的總和，本發明中優選使用的聚矽氧烷[A]含有由化合物(al)衍生的構成單元的含量，優選為5~70重量％、特別優選為10~60重量％。使用該構成單元不足5重量％的共聚物時，在不足250'C的燒成條件下得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度及耐剝離液性有降低的傾向，另一方面，超過70重量％的共聚物存在保存穩定性惡化的傾向。本發明中優選使用的聚矽氧烷[A]中由化合物(a2)衍生的構成單元的含量基於由化合物(al)、(a2)及(a3)衍生的重複單元的總和，優選為5~70重量％、特別優選為10~60重量％。如果使用該構成單元不足5重量％的共聚物，則在不足250。C的燒成條件下得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度及耐剝離液性存在降低的傾向，另一方面，超過70重量％的共聚物有導致顯影后的殘膜率降低、或保存穩定性變惡4匕的傾向。本發明中優選使用的聚矽氧烷[A]中由化合物(a3)衍生的構成單元的含量基於由化合物(al)、(a2)及(a3)衍生的重複單元的總和，優選為10~90重量％、特別優選為20~80重量％。該構成單元不足10重量％時，有感放射線性樹脂組合物的保存穩定性降低的傾向，而該構成單元的量超過90重量％時，得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度及耐剝離液性有時不足。作為本發明中優選使用的聚矽氧烷[A]的具體例，例如可以舉出3-環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷、2-輕基乙基三甲氧基矽烷及二甲基二甲氧基矽烷的水解縮合物、2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三曱氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷及苯基三曱氧基矽烷的水解縮合物、及3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三甲氧基矽烷、三甲氧基甲矽烷基丙基-2-(4，-羥基苯基)丙基硫醚及甲基三甲氧基矽烷水解縮合物。本發明中優選使用的聚矽氧烷[A]可以通過將上述化合物(al)、(a2)及(a3)優選在溶劑中、優選在催化劑的存在下中水解及縮合而合成。作為可以用於合成聚矽氧烷[A]的溶劑，例如可以舉出醇、醚、乙二醇醚、乙二醇單烷基醚乙酸酯、二甘醇、二甘醇單烷基醚乙酸酯、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇烷基醚丙酸酯、芳香烴、酮、酯等。對於上述溶劑的具體例，可以分別舉出下述溶劑作為醇，例如有甲醇、乙醇、千基醇、2-苯基乙基醇、3-苯基-l-丙醇等；作為醚，有四氫呋喃等；作為乙二醇醚，例如有乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚等；作為乙二醇單烷基醚乙酸酯，例如有甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乙二醇單丁基醚乙酸酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯等；作為二甘醇，例如有二甘醇單甲基醚、二甘醇單乙基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基曱基醚等；作為二甘醇單烷基醚乙酸酯，例如有二甘醇單乙基醚乙酸酯等；作為丙二醇單烷基醚，例如有丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丙基醚、丙二醇單丁基醚等；作為丙二醇單烷基醚丙酸酯，例如有丙二醇單甲基醚丙酸酯、丙二醇單乙基醚丙酸酯、丙二醇單丙基醚丙酸酯、丙二醇單丁基醚丙酸酯等；作為丙二醇單烷基醚乙酸酯，例如有丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯、丙二醇單丁基醚乙酸酯等；作為芳香烴，例如有曱苯、二甲苯等；作為酮，例如有甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等；作為酯，例如有乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、輕基乙酸乙酯、輕基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-輕基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸曱酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-曱氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸曱酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-曱氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸曱酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、3-丁氧基丙酸丁酯等。上述溶劑中，優選乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷基醚或丙二醇烷基醚乙酸酯，特別優選二甘醇二甲基醚、二甘醇乙基曱基醚、丙二醇甲基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯或3-甲氧基丙酸甲酯或上迷溶劑中的2種以上的混合物。作為溶劑的使用量，優選使反應溶液中的化合物(al)、U2)及(a3)的總量達IO~50重量％的量，更優選為使總量達15~40重量％的量。用於合成聚矽氧烷[A]的水解及縮合反應優選在酸催化劑(例如鹽酸、硫酸、硝酸、甲酸、草酸、乙酸、三氟乙酸、三氟甲磺酸、酸性離子交換樹脂、各種路易斯酸等)或鹼催化劑(例如氨、伯胺類、仲胺類、叔胺類、吡啶等含氮芳香族化合物；鹼性離子交換樹脂；氫氧化鈉等氫氧化物；碳酸鉀等碳酸鹽；乙酸鈉等羧酸鹽；各種路易斯鹼等)的存在下進行。作為催化劑的使用量，相對於化合物(al)、(a2)及(a3)的總和l摩爾，優選為0.2摩爾以下，更優選為0.00001~0.1摩爾。適當設定水的使用量、反應溫度及反應時間。例如可以採用下述條件。水的使用量相對於化合物(al)中的基團R1、化合物(a2)中的基團RS及化合物(a3)中的基團RS的總量1摩爾，優選為0.1~3摩爾，更優選為0.3~2摩爾，進一步優選為0.5~1.5摩爾。反應溫度優選為40200。C,更優選為50~150°C。反應時間優選為30分鐘~24小時，更優選為l~12小時。可以一次性添加化合物(al)、(a2)及(a3)、及水，一步完成水解及縮合反應，或者也可以分步添加化合物(al)、(a2)及(a3)、及水，分幾步進行水解及縮合反應。本發明中使用的[A]成分的按聚苯乙烯換算的重均分子量(以下稱為"Mw")優選為5xl25x104,更優選為lxl33x104。如果Mw不足5xl02，則有時顯影裕度變得不充分，得到的被膜的殘膜率等降低，並且得到的層間絕緣膜或微透鏡的圖案形狀、耐熱性等差，如果超過5xl04,則感度降低，圖案形狀差。含有上述[A]成分的感放射線性樹脂組合物在顯影時不發生顯影殘留，能夠容易地形成規定圖案形狀。[B]成分本發明中使用的[B]成分是經放射線照射產生羧酸的l,2-重氮醌化合物，可以使用酚性化合物或醇性化合物(以下稱為"具有羥基的母核")或具有氨基的母核和l，2-重氮萘醌磺醯滷的縮合物。作為上述具有羥基的母核，例如可以舉出三羥基二苯酮、四羥基二苯酮、五羥基二苯酮、六羥基二苯酮、(聚羥基苯基)鏈烷及其他具有羥基的母核。作為上迷母核的具體例，可以分別舉出下述化合物作為三羥基二苯酮，例如有2，3,4-三羥基二苯酮、2，4，6-三羥基二笨酮等；作為四羥基二苯酮，有2,2，，4,4，-四羥基二苯酮、2，3，4,3，-四羥基二苯酮、2，3，4，4，-四羥基二苯酮、2，3,4，2，-四羥基-4，-甲基二苯酮、2，3，4，4，-四羥基-3，-甲氧基二苯酮等；作為五羥基二苯酮，例如有2，3，4,2，，6，-五羥基二苯酮等；作為六羥基二苯酮，例如有2，4，6,3，，4，，5，-六羥基二苯酮、3，4,5,3，，4，，5，-六羥基二苯酮等；作為(聚羥基苯基)鏈烷，例如有雙(2，4-二羥基苯基)甲烷、雙27(對羥基苯基)甲烷、三(對羥基苯基)甲烷、1，1,1-三(對羥基苯基)乙烷、雙(2,3，4-三羥基苯基)甲烷、2,2-雙(2，3,4-三輕基苯基)丙烷、1，1,3-三(2，5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷、4,4，-〔1-〔4-〔1-〔4-羥基苯基〕-l-曱基乙基〕苯基〕亞乙基〕雙酚、雙(2，5-二曱基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、3，3,3，，3，-四曱基-1，1，-螺二茚-5，6，7,5，，6，，7，-己醇、2，2，4-三甲基-7，2，，4，-三羥基黃烷等；作為其他具有羥基的母核，例如有2-甲基-2-(2，4-二羥基苯基)-4-(4-羥基苯基)-7-羥基色滿、2-[雙{(5-異丙基-4-羥基-2-甲基)苯基}甲基]、(3-U-(4-羥基苯基)-l-曱基乙基)-4，6-二羥基苯基)-1-甲基乙基]-3-(1-(3-{1-(4-羥基苯基)-l-甲基乙基)-4,6-二羥基苯基)-l-甲基乙基)苯、4,6-雙(1-(4-羥基苯基)-l-曱基乙基)-1,3-二羥基苯等。作為上述具有氨基的母核，可以舉出上迷具有羥基的母核的羥基被氨基取代形成的化合物等。上述母核中，優選2,3,4，4，-四羥基二苯酮、4，4，-U-C4-〔1-〔4-羥基苯基〕-l-曱基乙基〕苯基〕亞乙基〕雙酚。作為上述l，2-重氮萘醌磧醯囟，優選l,2-重氮萘醌磺醯氯，作為其具體例，可以舉出l,2-重氮萘醌-4-磺醯氯及l，2-重氮萘醌-5-磺醯氯，其中，優選使用l,2-重氮萘醌-5-磺醯氯。縮合反應中，1，2-重氮萘醌磺醯囟的使用量相對於酚性化合物或醇性化合物中的羥基數或具有氨基的母核的氨基數，優選為30~85摩爾％，更優選為50~70摩爾°/0。縮合反應可以採用公知的方法實施。上述[B]成分可以單獨使用，或將2種以上組合使用。[B]成分的使用比例相對於100重量份[A]成分，優選為l~25重量份，更優選為5~20重量份。其比例不足l重量份時，放射線照射部分和未照射部分對作為顯影液的鹼水溶液的溶解度之差小，有時難以形成圖案，並且得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性及耐溶劑性變得不充分。另一方面，其比例超過25重量份時，放射線照射部分對上述鹼水溶液的溶解度變得不充分，有時難以進行顯影。另外，已知添加1，2-重氮醌化合物有損得到的固化膜的光線透射率目前已知的用於形成使用丙烯酸樹脂或酚醛樹脂的層間絕緣膜或微透鏡的組合物中，如果大量添加該l，2-重氮醌化合物，則無法得到所希望的放射線感度，所以提高得到的固化膜的光線透射率的水平有P艮。但是，如上所述，本發明的感放射線性樹脂組合物能夠以比現有組合物少的[B]l,2-重氮醌化合物量實現高放射線感度，所以具有能夠以高放射線感度形成具有高光線透射率的固化膜的優點。本發明的感放射線性樹脂組合物中的[B]1，2-重氮醌化合物的使用量相對於100重量份[A]成分可以在15重量份以下。其他成分本發明的感放射線性樹脂組合物含有上述[A]成分及[B]成分作為必需成分，還可以根據需要含有[C]感熱性酸生成化合物、[D]具有至少l個烯鍵式不飽和雙鍵的聚合性化合物、[E]環氧樹脂、[F]表面活性劑、[G]粘合助劑等。上述[C]感熱性酸生成化合物可以用於提高耐熱性和硬度。作為其具體例，可以舉出鋶鹽、苯並噻唑鎮鹽(benzothiazonium)、銨鹽、鱗鹽等絲鹽。作為上述鋶鹽的具體例，可以舉出烷基鋶鹽、節基鋶鹽、二千基鋶鹽、取代苄基鋶鹽等。作為上述化合物的具體例，可以分別舉出下述化合物作為烷基鋶鹽，例如有4-乙醯苯基二甲基鋶六氟銻酸鹽、4-乙醯氧基苯基二甲基鋶六氟砷酸鹽、二曱基-4-(千基氧基羰氧基)苯基鋶六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲醯氧基)苯基鋶六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲醯氧基)苯基鋶六氟砷酸鹽、二曱基-3-氯-4-乙醯氧基苯基鋶六氟銻酸鹽等；作為千基鋶鹽，例如有千基-4-羥基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、千基-4-羥基苯基甲基鋶六氟磷酸鹽、4-乙醯氧基苯基苄基甲基鋶六氟銻酸鹽、千基-4-甲氧基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、苄基-2-曱基-4-羥基苯基曱基鋶六氟銻酸鹽、節基-3-氯-4-羥基苯基甲基鋶六氟砷酸鹽、4-甲氧基千基-4-羥基苯基曱基鋶六氟磷酸鹽等；作為二苄基鋶鹽，例如有二苄基-4-羥基苯基鋶六氟銻酸鹽、二苄基-4-羥基苯基鋶六氟磷酸鹽、4-乙醯氧基苯基二節基鋶六氟銻酸鹽、二千基-4-甲氧基苯基鋶六氟銻酸鹽、二苄基-3-氯-4-羥基苯基鋶六氟砷酸鹽、二苄基-3-曱基-4-羥基-5-叔丁基苯基鋶六氟銻酸鹽、千基-4-曱氧基千基29-4-羥基苯基鋶六氟磷酸鹽等；作為取代節基鋶鹽，例如有對氯爺基-4-羥基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、對硝基爺基-4-羥基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、對氯爺基-4-羥基苯基甲基鋶六氟磷酸鹽、對硝基千基-3-甲基-4-羥基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、3，5-二氯苄基-4-羥基苯基曱基鋶六氟銻酸鹽、鄰氯苄基-3-氯-4-羥基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽等。作為上述苯並噻唑鎮鹽的具體例，例如可以舉出3-節基苯並p塞唑鑥六氟銻酸鹽、3-爺基苯並噻唑鎮六氟磷酸鹽、3-,基苯並噻唑餘四氟硼酸鹽、3-(對甲氧基千基)苯並噻唑錼六氟銻酸鹽、3-節基-2-甲疏基苯並噻唑鎮六氟銻酸鹽、3-千基-5-氯苯並噻唑餘六氟銻酸鹽等。上述化合物中，優選使用鋶鹽及苯並噻唑銀鹽，特別優選使用4-乙醯氧基苯基二甲基鋶六氟砷酸鹽、千基-4-羥基苯基甲基鋶六氟銻酸鹽、4-乙醯氧基苯基千基甲基鋶六氟銻酸鹽、二節基-4-羥基苯基鋶六氟銻酸鹽、4-乙醯氧基苯基千基鋶六氟銻酸鹽或3-節基苯並噻唑銀六氟銻酸鹽。作為上迷化合物的市售品，例如可以舉出SunaideSI-L85、SunaideSI-L110、SunaideSI-L145、SunaideSI-L150、SunaideSI-L160(三新化學工業(林)制)等。[C]感熱性酸生成化合物的使用比例相對於100重量份[A]成分，優選為20重量份以下，更優選為5重量份以下。其使用量超過20重量份時，在塗膜形成工序中析出物析出，有時影響塗膜形成。作為上述[D]具有至少1個烯鍵式不飽和雙鍵的聚合性化合物(以下稱為"[D]成分，，)，例如可以優選舉出單官能團(甲基)丙烯酸酯、2官能團(甲基)丙烯酸酯或3官能團以上的(甲基)丙烯酸酯。作為上述單官能團(甲基)丙烯酸酯，例如可以舉出(曱基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸卡必醇酯、(甲基)丙烯酸異水片酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-輕基丙基鄰苯二甲酸酯等。作為上迷化合物的市售品，例如可以舉出AronixM-lOl、AronixM-lll、AronixM-114(以上為東亞合成(林)制)，KAYARADTC-110S、KAYARADTC-120S(以上為日本化藥(林)制)，Biscoat158、Biscoat2311(以上為大阪有機化學工業(林)制)等。作為上述2官能團(甲基)丙烯酸酯，例如可以舉出(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(曱基)丙烯酸l,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸l，9-壬二醇酯、二(曱基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙紼酸四乙二醇酯、藥二丙烯酸雙苯氧基乙醇酯、藥二(甲基？？)丙烯酸雙苯氧基乙醇酯(JapanesespecificationP.43L.〗2-13)等。作為上述化合物的市售品，例如可以舉出AronixM-210、AronixM-240、AronixM-6200(以上為東亞合成(株)制)，KAYARADHDDA、KAYARADHX-220、KAYARADR-604(以上為日本化藥(抹)制)，Biscoat260、Biscoat312、Biscoat335HP(以上為大阪有機化學工業(抹)制)等。作為上述3官能團以上的(甲基)丙烯酸酯，例如可以舉出三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三((甲基)丙烯醯氧基乙基)磷酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等，作為其市售品，例如可以舉出AronixM-309、AronixM-400、AronixM-405、AronixM-450、AronixM-7100、AronixM-8030、AronixM-8060(以上為東亞合成(林)制)，KAYARADTMPTA、KAYARADDPHA、KAYARADDPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARADDPCA-60、KAYARADDPCA-120(以上為日本化藥(林)制)，Biscoat295、Biscoat300、Biscoat360、BiscoatGPT、Biscoat3PA、Biscoat400(以上為大阪有機化學工業(林)制)等。其中，優選使用3官能團以上的(甲基)丙烯酸酯，其中特別優選三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯。上述單官能團、2官能團或3官能團以上的(甲基)丙烯酸酯可以單獨使用，或組合使用。[D]成分的使用比例相對於100重量份[A]成分，優選為50重量份以下，更優選為30重量份以下。通過按上迷比例包含[D]成分，可以提高由本發明的感放射線性樹脂組合物得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性及表面硬度等。如果其使用量超過50重量份，則在基板上形成感放射線性樹脂組合物的被膜的工序中發生膜乾裂。作為上述[E]環氧樹脂，只要不影響相溶性即可，沒有其他限定。優選為雙酚A型環氧樹脂、線型酚醛環氧樹脂、曱酚線型酚醛環氧樹脂、環狀脂肪族環氧樹脂、縮水甘油基酯型環氧樹脂、縮水甘油基胺型環氧樹脂、雜環式環氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油基酯(共)聚合形成的樹脂等。其中，特別優選雙酚A型環氧樹脂、甲酚線型盼醛環氧樹脂、縮水甘油基酯型環氧樹脂等。[E]環氧樹脂的使用比例相對於100重量份[A]成分，優選為30重量份以下。通過按該比例包含[E]環氧樹脂，可以進一步提高由本發明的感放射線性樹脂組合物得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性及表面硬度。如果其比例超過30重量份，則在基板上形成感放射線性樹脂組合物的被膜時，有時被膜的膜厚均勻性變得不充分。需要說明的是，[A]成分也可以稱為"環氧樹脂"，但是從具有鹼可溶性方面考慮，不同於[E]環氧樹脂。[E]環氧樹脂為鹼不溶性。為了進一步提高塗布性，可以在本發明的感放射線性樹脂組合物中使用上述[F]表面活性劑。作為此處可以使用的[F]表面活性劑，可以優選使用氟類表面活性劑、有機矽類表面活性劑及非離子類表面活性劑。作為氟類表面活性劑的具體例，可以舉出l,1，2，2-四氟辛基(1，1，2，2-四氟丙基)醚、1，1，2,2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(l，1，2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(1,1，2,2，3，3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(l，1,2，2-四氟丁基)醚、六丙二醇二(l，1，2,2，3,3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基磺酸鈉、1，1，2,2，3，3,9,9,10,10-十氟十二烷、1,1，2，2，3，3-六氟癸烷等，除此之外，還可以舉出氟烷基苯磺酸鈉；氟烷基氧基亞乙基醚；氟烷基碘化銨、氟烷基聚氧乙烯醚、全氟烷基聚氧化乙醇；全氟烷基烷氧基化物；氟類烷基酯等。作為其市售品，可以舉出BM-IOOO、BM-1100(以上為BMChemie社制)，MegafaceF142D、MegafaceF172、MegafaceF173、MegafaceF183、MegafaceF178、MegafaceF191、MegafaceF471(以上為大日本油墨化學工業(抹)制)，FluoradFC-170C、FC-171、FC-430、FC-431(以上為住友3M(林)制)，SURFLONS-112、SURFLONS-113、SURFLONS-Bl、SURFLONS-141、SURFLONS-145、SURFLONS-382、SURFLONSC-lOl、SURFLONSC-102、SURFLONSC-103、SURFLONSC-104、SURFLONSC-105、SURFLONSC-106(旭硝子(株)制)，F-TOPEF301、F-TOPEF303、F-TOPEF352(新秋田化成(抹)制)等。作為上述有機矽類表面活性劑，例如可以舉出以下述商品名銷售的產品DC3PA、DC7PA、FS-1265、SF-8428、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032(以上為東麗.道康寧.有機珪(抹)制),TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上為Momentive'Performance.Materials.Japan合同會社制)等。作為上述非離子類表面活性劑，例如可以使用聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂醯基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚類；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚類；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯類等；(曱基)丙烯酸類共聚物POLYFLOWNo.57、95(共榮社化學(林)制)等。上述表面活性劑可以單獨使用，或將2種以上組合使用。上述[F]表面活性劑的使用量相對於100重量份[A]成分，優選為5重量份以下，更優選為2重量份以下。如果[F]表面活性劑的使用量超過5重量份，則在基板上形成塗膜時，有時容易發生塗膜的膜乾裂。本發明的感放射線性樹脂組合物中，為了提高與基體的粘合性，可以使用[G]粘合助劑。作為上述[G]粘合助劑，優選使用官能性矽烷偶聯劑，例如可以舉出具有羧基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基等反應性取代基的矽烷偶聯劑。具體地可以舉出三甲氣基甲矽烷基苯甲酸、，甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、丫-異氰酸丙酯基三乙氧基矽烷、Y-環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷、p-(3，4-環氣環己基)乙基三甲氧基矽烷等。上迷[G]粘合助劑的使用量相對於100重量份[A]成分，優選為20重量份以下，更優選為10重量份以下。粘合助劑的量超過20重量份時，有時容易在顯影工序中發生顯影殘留。感放射線性樹脂組合物本發明的感放射線性樹脂組合物通過均勻地混合上迷[A]成分及[B]成分及上述任意添加的其他成分進行調製。本發明的感放射線性樹脂組合物優選溶解在適當的溶劑中，以溶液狀態進行使用。例如可以通過將[A]成分及[B]成分及任意添加其他成分按規定的比例進行混合，調製溶液狀態的感放射線性樹脂組合物。作為用於調製本發明的感放射線性樹脂組合物的溶劑，使用均勻地溶解[A]成分及[B]成分及任意配合的其他成分的各成分、不與各成分反應的溶劑。作為上述溶劑，可以舉出與作為用於合成優選用作[A]成分的聚矽上述溶劑相同的溶劑。上述溶劑中，從各成分的溶解性、與各成分的反應性、成膜容易性等方面考慮，優選使用醇、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、酯及二甘醇。其中，優選使用千基醇、2-苯基乙基醇、3-苯基-l-丙醇、乙二醇單丁基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基甲基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇單曱基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯或2-乙氧基丙酸乙酯或上述溶劑中的2種以上的混合物。作為本發明的感放射性樹脂組合物的溶劑，聯用高沸點溶劑時，其使用比例相對於溶劑總量優選為50重量％以下，更優選為40重量％以下，進一步優選為30重量％以下。如果高沸點溶劑的使用比例超過上述使用量，有時塗膜的膜厚均勻性、感度及殘膜率降低。將本發明的感放射線性樹脂組合物以溶液狀態進行調製時，溶劑以外的成分(即[A]成分及[B]成分及任意添加的其他成分的總量)在溶液中所佔的比例(固態成分濃度)可以根據使用目的和所希望的膜厚的值等任意地設定，優選為5~50重量°/。，更優選為10~40重量％，進一步優選為15~35重量％。由此調製的組合物溶液在使用孔徑0.2iiim左右的微孔濾器等過濾後，進行使用。形成層間絕緣膜、微透鏡下面說明使用本發明的感放射線性樹脂組合物形成本發明的層間絕緣膜或微透鏡的方法。本發明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法按下述順序包含下述工序。(1)在基板上形成本發明的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部照射放射線的工序，(3)將放射線照射後的被膜顯影的工序，(4)加熱顯影后的被膜的工序。以下詳細說明本發明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法的各工序。(1)在基板上形成本發明的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序工序(1)中，將本發明的組合物溶液塗布在基板表面上，優選進行預焙除去溶劑，形成感放射線性樹脂組合物的被膜。作為能夠使用的基板的種類，例如可以舉出玻璃基板、矽基板及在上述基板的表面形成有各種金屬的基板。作為組合物溶液的塗布方法，沒有特別限定，例如可以採用噴塗法、輥塗法、旋轉塗布法(旋塗法)、縫模塗布法、棒塗法、噴射法等適當方法，特別優選旋塗法或縫模塗布法。預焙的條件因各成分的種類、使用比例等的不同而異。例如可以在60~110'C下塗布30秒15分鐘左右。對於形成的被膜的膜厚，作為預焙後的值，形成層間絕緣膜時，例如優選為36pm，形成微透鏡時，例如優選為0.53jim。(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序工序(2)中，對如上所述地形成的被膜的至少一部照射放射線。為了對被膜的一部分照射放射線，例如可以採用經由具有規定圖案的掩模照射放射線的方法。然後，使用顯影液進行顯影處理，除去放射線的照射部分，由此形成圖案。作為此時使用的放射線，例如可以舉出紫外線、遠紫外線、X射線、帶電粒子線等。作為上述紫外線，例如可以舉出包含g線(波長436nm)、i線(波長365nn)等的放射線。作為遠紫外線，例如可以舉出KrF準分子雷射等。作為X射線，例如可以舉出同步加速放射線等。作為帶電粒子線，例如可以舉出電子束等。上述放射線中，優選紫外線，其中特別優選包含g線及i線中的一方或雙方的^t射線。作為放射線的照射量(曝光量)，在形成層間絕緣膜時，優選為50~1，500J/m2,形成微透鏡時，優選為502，000J/m2。(3)顯影放射線照射後的被膜的工序作為工序(3)的顯影處理中使用的顯影液，例如可以使用氫氧化鈉、氬氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨、乙基胺、正丙基胺、二乙基胺、二乙基氨基乙醇、二正丙基胺、三乙基胺、曱基二乙基胺、二曱基乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四曱銨、氫氧化四乙銨、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯、1，5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烷等鹼(鹼性化合物)的水溶液。另外，可以將在上述鹼的水溶液中添加適當量的甲醇、乙醇等水溶性有機溶劑或表面活性劑形成的水溶液、或溶解有本發明組合物的各種有機溶劑用作顯影液。作為顯影方法，例如可以利用液池法、浸漬法、搖動浸漬法、噴淋法等適當方法。此時的顯影時間因組合物的組成不同而異，例如可以為3530~120秒。需要說明的是，目前已知的感放射線性樹脂組合物如果顯影時間超過最佳值20~25秒左右則形成的圖案發生剝離，所以必需嚴格控制顯影時間，而本發明的感放射線性樹脂組合物即使顯影時間與最佳顯影時間相比超過時間為30秒以上，也能夠形成良好的圖案，有產品成品率方面的優點。(4)加熱顯影后的被膜的工序在如上所述地實施的工序(3)的顯影工序後，優選對形成了圖案的薄膜實施例如採用流水清洗的沖洗處理，更優選用來自高壓水銀燈等的放射線進行全面照射(後曝光)，由此對該薄膜中殘留的l,2-重氮醌化合物實施分解處理後，採用熱板、烘箱等加熱裝置對薄膜進行加熱處理(後烘處理)，由此進行該薄膜的固化處理。上迷後曝光工序中的膝光量優選為2,0005,000J/m。另外，該固化處理中的燒成溫度例如在12(TC以上不足250。C。加熱時間因加熱機器的種類不同而異，例如在熱板上進行加熱處理時，可以進行5~30分鐘，在烘箱中進行加熱處理時，可以進行30~90分鐘。此時，可以採用進行2次以上加熱工序的分步烘焙法等。需要說明的是，在基板上形成含有作為目前高耐熱的材料已知的聚矽氧烷的感光性材料的被膜時，必須進行250'C以上的高溫處理，但是使用本發明的感放射線性樹脂組合物時，可以將該處理溫度設定為不足250。C，甚至在240。C以下，更甚者為230。C以下，所以存在也能夠適用於形成顯示元件的工序的優點。由此可以在基板表面上形成與作為目標的層間絕緣膜或微透鏡對應的圖案狀薄膜。層間絕緣膜由後述的實施例可知，如上所述地形成的本發明的層間絕緣膜與基板的密合性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透射率，介電常數低，可以適用作電子部件的層間絕緣膜。微透鏡由後述的實施例可知，如上所迷地形成的本發明的微透鏡與基板的密合性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透射率和良好的熔化形狀，可以適合用作固體攝像元件的微透鏡。如圖l(a)所示，本發明的微透鏡的形狀成為半凸透鏡形狀，顯示36良好的聚光特性。實施例以下給出合成例、實施例，更具體地說明本發明，但是本發明並不限定於以下的實施例。[A]成分的合成例合成例1在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中放入33.3g2-羥基乙基三曱氧基矽烷及72.lg二曱基二甲氧基矽烷，在其中加入76.8g二甘醇甲基乙基醚，將其溶解，邊用磁力攪拌器攪拌得到的溶液，邊經30分鐘升溫到40°C。用30分鐘在其中連續添加含有1.4g草酸的43.3g離子交換水。然後，在4(TC下反應2小時後，在4(TC經l分鐘將得到的反應液減壓到10Torr(約1.33xl03Pa),保持減壓60分鐘，蒸餾除去副產物的甲醇。然後，經l小時將反應液升溫到100'C，蒸餾除去水，同時在100'C反應2小時，將由此得到的反應液冷卻到60'C，首先經30分鐘連續添加47.2g3-環氧丙氧丙基三曱氧基矽烷，然後經30分鐘連續添加含有0.4g草酸的10.8g離子交換水，在60'C下反應3小時。在減壓下，從反應液中蒸餾除去甲醇和水，添加二甘醇甲基乙基醚至固態成分濃度(聚矽氧烷在溶液中所佔的重量比例)達到40重量％,由此得到含有聚矽氧烷[A-1]的溶液。聚矽氧烷[A-1]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2,600。合成例2在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中投入39.3g3-巰基丙基三甲氧基矽烷及l19.0g苯基三甲氧基矽烷，在其中加入76.8g二甘醇甲基乙基醚，將其溶解，邊用磁力攪拌器攪拌得到的溶液，邊經30分鐘升溫至40°C。經30分鐘在其中連續添加含有1.4g草酸的43.3g離子交換水。然後，在40'C反應2小時後，在40'C經l分鐘將得到的反應液減壓至10Torr，保持減壓60分鐘，由此蒸餾除去副產物的甲醇。然後，經l小時將反應液升溫到10(TC，蒸餾除去水，同時在100'C繼續反應2小時。將由此得到的反應液冷卻到60'C,首先經30分鐘連續添加49.3徑2-(3，，4，-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷，然後經30分鐘連續添加含0.4g草酸的10.8g離子交換水，在60'C進一步反應3小時。在減壓下從反應液中蒸餾除去曱醇和水，添加二甘醇甲基乙基醚至固態成分濃度達到40重量％，得到含有聚矽氧烷[A-2]的溶液。聚矽氧烷[A-2]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2,500。合成例3在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中加入55.7g3-(3，-乙基氧雜環丁烷-3，-基)丙基三甲氧基矽烷、66.&三甲氧基甲矽烷基丙基-2-(4，-羥基苯基)丙基硫醚及40.3g甲基三曱氧基矽烷，在其中加入139.7g甲基異丁基酮將其溶解，用磁力攪拌器攪拌得到的溶液，同時升溫到6(TC。經l小時在其中連續添加含有1.0g三乙基胺的54.0g離子交換水。然後，在60。C反應3小時後，將得到的反應液冷卻到室溫。然後，用1重量％的草酸水溶液200g清洗2次，接下來用200g離子交換水清洗。在減壓下從得到的有機層中蒸餾除去醇和水，添加二甘醇乙基曱基醚至固態成分濃度達到40重量％，由此得到含有聚矽氧烷[A-3]的溶液。聚矽氧烷[A-3]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2,400。比較合成例l在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中放入88.5g甲基三甲氧基矽烷及69.4g苯基三甲氧基矽烷，在其中加入138.9g雙丙酮醇將其溶解，將得到的溶液用磁力攪拌器攪拌，同時經30分鐘連續添加含0.2g磷酸的54.0g離子交換水。然後在40。C使其反應30分鐘後，經1小時升溫至100'C，蒸餾除去甲醇和水，同時使其反應2小時。然後，加入雙丙酮醇及"丁內酯，稀釋至固態成分為35重量％、雙丙酮醇/丫-丁內酯-90/10(重量比)，得到含有聚矽氧烷[a-l]的溶液。該聚矽氧烷[a-l]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2，900。比較合成例2在裝備有冷凝管及攪拌機的燒瓶中放入8重量份2，2，-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)及220重量份二甘醇乙基曱基醚。然後放入20重量份苯乙烯、20重量份甲基丙烯酸、40重量份甲基丙烯酸縮水甘油基酯及20重量份三環[5.2丄026]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液的溫度升至70'C,將該溫度保持5小時，得到含共聚物[a-2]38的聚合物溶液。共聚物[a-2]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為7，500，分子量分布(Mw/Mn)為2.5。此處得到的聚合物溶液的固態成分濃度為31.6重量％。〈製備感放射線性樹脂組合物>實施例l混合上述合成例1中合成的含聚矽氧烷[A-1]的溶液(相當於聚矽氧烷[A-1]為100重量份(固態成分)的量)、及作為成分[B]的10重量份4，4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(l.O摩爾)和l，2-重氮萘醌-5-磺醯氯(2.0摩爾)的縮合物(B-l)，加入二甘醇乙基曱基醚至固態成分濃度達到30重量％，均勻溶解後，用口徑0.2pm的膜濾器過濾，製備感放射線性樹脂組合物的溶液(S-l)實施例2~7、比較例1~2實施例l中，作為[A]成分及[B]成分，使用表l所記載的種類、量，除此之外，與實施例l同樣地實施，調製感放射線性樹脂組合物的溶液(S-2)~(S-7)及(s-l)~(s-2)。需要說明的是，實施例2、3中，[B]成分的記栽分別表示聯用2種l，2-重氮醌化合物。另外，實施例5中除了添加[A]成分及[B]成分外，還添加[C]感熱性酸生成化合物，實施例6中除了添加[A]成分及[B]成分，還添加[E]成分。實施例8實施例7中，溶解成二甘醇乙基甲基醚/丙二醇單甲基醚乙酸酯=6/4(重量比)，使固態成分濃度達到20重量％，進而添加[F]表面活性劑，除此之外，與實施例l同樣地實施，調製感放射線性樹脂組合物的溶液(S-8)。39表ltableseeoriginaldocumentpage40表l中，成分的簡稱分別為下述含義。[B-l]:4，4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(l.O摩爾)和l，2-重氮萘醌-5-磺醯氯(2.0摩爾)的縮合物[B-2]:4，4，，4"-次乙基三(苯酚)(l.O摩爾)和l,2-重氮萘醌-5-磺醯氯(2.0摩爾)的縮合物[B-3]:2,3,4,4，-四羥基二苯酮(l.O摩爾)和l，2-重氮萘醌-5-磺酸酯(2.44摩爾)[C陽l]SunaideSI-L85(三新化學(抹)制)[E-l]Epikote154(JapanEpoxyResin(林)制)[F-l]:SH-28PA(東麗'道康寧'矽(林)制)<作為層間絕緣膜的性能評價〉實施例9~16、比4交例3~4使用如上所述地調製的感放射線性樹脂組合物，如下所述地評價作為層間絕緣膜的各種特性。〔感度評價〕在矽基板上，對於實施例9~15及比較例3~4,使用旋塗器分別塗布表2中記栽的組合物後，在10(TC下，在熱板上預焙2分鐘，由此形成膜厚4.0)am的塗膜。對於實施例16，使用縫模塗布機進行塗布，在室溫下經15秒降壓到0.5Torr，除去溶劑後，在100'C下，在熱板上預焙2分鐘，形成膜厚4.0nm的塗膜。分別經由具有規定圖案的圖案掩模，用佳能(抹)制PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)，以詠光時間為變量，將得到的塗膜曝光，然後，用2.38重量％的氫氧化四曱銨水溶液，在25。C下採用液池法顯影80秒。然後，用超純水流水清洗l分鐘，進行乾燥，在矽基板上形成圖案。確定此時完全溶解3.0vim的線與間隙(IO比I)的空間圖案所需的最小曝光量。將該最小膝光量作為感度示於表2。〔顯影裕度評價〕在矽基板上，對於實施例9~15及比較例3~4,使用旋塗器分別塗布表2中記載的組合物後，在100'C下，在熱板上預焙2分鐘，由此形成膜厚4.0)iim的塗膜。對於實施例16，使用縫模塗布機進行塗布，在室溫下經15秒降壓到0.5Torr,除去溶劑後，在10(TC下，在熱板上預焙2分鐘，形成膜厚4.0ium的塗膜。分別經由具有3.0inm的線與間隙(IO比I)的圖案的掩衝莫，使用佳能(抹)制PLA-501F膝光機(超高壓水銀燈)，以相當於上述"〔感度評價〕"中確定的感度值的爆光量對得到的塗膜進行矚光，用2.38重量％的氫氧化四甲銨水溶液，在25'C下，以顯影時間為變量，採用液池法進行顯影。然後，用超純水流水清洗l分鐘後，將其乾燥，在矽基板上形成圖案。此時，以線的線寬達到3)tim所需的顯影時間為最佳顯影時間，示於表2。另外，在超過最佳顯影時間之後繼續顯影時，測定直至3.0^im的線'圖案發生剝離的時間，作為顯影裕度示於表2。〔耐溶劑性評價〕在矽基板上，對於實施例9~15及比較例3~4，使用旋塗器分別塗布表2中記栽的組合物後，在100'C下，在熱板上預焙2分鐘，由此形成塗膜。對於實施例16，使用縫模塗布機進行塗布，在室溫下經15秒降壓到0.5Torr，除去溶劑後，在100'C下，在熱板上預焙2分鐘，形成塗膜。使用佳能(林)制PLA-501F啄光機(超高壓水銀燈)分別對得到的塗膜進行膝光，使累積照射量達到3，000J/m2,將該矽基板在清潔烘箱內於22(TC加熱1小時，由此得到膜厚約3.0nm的固化膜。測定得到的固化膜的膜厚(T1)。然後，將形成了該固化膜的矽基板在溫度被控制在70'C的二甲基亞碸中浸漬20分鐘後，測定該固化膜的浸漬後膜厚(tl)，計算浸漬導致的膜厚變化率(|U-T1|/T1)xlOO〔％〕。結果示於表2。需要說明的是，耐溶劑性評價中不需要將形成的膜圖案化，所以省略放射線照射工序及顯影工序，只進行塗膜形成工序、後曝光工序及加熱工序，用於評價。〔耐熱性評價〕與上述"〔耐溶劑性評價〕"同樣地在矽基板上形成固化膜，測定得到的固化膜的膜厚(T2)。然後，將該帶有固化膜的基板在清潔烘箱內於24(TC追加烘焙1小時後，測定該固化膜的追加烘焙後膜厚(t2)，計算追加烘焙導致的膜厚變化率(|t2-T2|/T2}xl00〔％〕。結果示於表2。〔透明性評價〕在上述"〔耐溶劑性評價〕"中，使用玻璃基板"Corning7059"(康寧公司制)代替矽基板，除此之外，同樣地在玻璃基板上形成固化膜。使用分光光度計"150-20型雙光束"((林)日立製作所制)測定400~800nm範圍內的波長下該具有固化膜的玻璃基板的光線透射率。此時的最低光線透射率的值示於表2。〔相對介電常數評價〕在研磨的SUS304制基板上，對於實施例9~15及比較例3~4，使用旋塗器分別塗布表2中記栽的組合物後，在100'C下，在熱板上預焙2分鐘，由此形成膜厚3.0^m的塗膜。對於實施例16,使用縫模塗布機進行塗布，在室溫下經15秒降壓到0.5Torr(約66.6Pa)，除去溶劑後，在IOO。C下，在熱板上預焙2分鐘，形成膜厚3.0nm的塗膜。用佳能(抹)制PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)分別對得到的塗膜進行曝光，使累積照射量達到3，000J/n^後，將各基板在清潔烘箱內於220'C下加熱1小時，由此在基板上形成固化膜。採用蒸鍍法在該固化膜上形成Pt/Pd電極圖案，製作介電常數測定用試樣。對該基板，使用橫河'惠普(抹)制HP16451B電極及HP4284A精密LCR表，採用CV法，測定頻率10kHz中的相對介電常數。結果示於表2。需要說明的是，介電常數評價時不需要將形成的膜圖案化，所以省略放射線照射工序及顯影工序，只進行塗膜形成工序、後曝光工序及加熱工序，用於評價。表2tableseeoriginaldocumentpage44〈作為微透鏡的性能評價〉實施例17~23、比4支例5~6使用如上所述地調製的感放射線性樹脂組合物，如下所述地評價作為微透鏡的各種特性。需要說明的是耐溶劑性的評價、耐熱性的評價、透明性的評價參見上述作為層間絕緣膜的性能評價中的結果。〔感度評價〕在矽基板上，使用旋塗器分別塗布表3中記載的組合物後，在100。C下，於熱板上預焙2分鐘，由此形成膜厚2.0nm的塗膜。經由具有規定圖案的圖案掩模，使用尼康(株)制NSR1755i7A縮小投影爆光機(NA=0.50、X=365nm),以膝光時間為變量，對得到的塗膜進行膝光，用2.38重量%的氫氧化四甲銨水溶液，在25'C下，採用液池法顯影l分鐘。然後，用水衝洗，將其乾燥，在矽基板上形成圖案。確定0.8pm線與間隙圖案(1比l)的空間線寬達到0.8)nm所需的最小膝光量。以該最小爆光量為感度示於表3。〔顯影裕度評價〕在矽基板上，使用旋塗器分別塗布表3中記載的組合物後，在100'C下，於熱板上預焙2分鐘，由此形成膜厚2.0pm的塗膜。經由具有規定圖案的圖案掩模，使用尼康(株)制NSR1755i7A縮小投影膝光機(NA=0.50、X=365nm),以相當於上述"[感度評價]"中確定的感度值的膝光量，對得到的塗膜進行曝光，用表3所示濃度的氫氧化四甲銨水溶液，在25。C下，採用液池法顯影l分鐘。然後，用水沖洗，將其乾燥，在矽基板上形成圖案。將0.8pm線與間隙圖案(l比l)的空間線寬達到0.8nm所需的顯影時間作為最佳顯影時間示於表3。另外，測定超過最佳顯影時間後繼續進行顯影時至寬0.8nm的圖案發生剝離的時間(顯影裕度)，作為顯影裕度示於表3。〔形成微透鏡〕在矽基板上，使用旋塗器分別塗布表3中記載的組合物後，在100'C下，於熱板上預焙2分鐘，由此形成膜厚2.0pm的塗膜。經由具有4.0vim點-2.0^n間隙圖案的圖案掩模，使用尼康(抹)制NSR1755i7A縮小投影膝光機(NA-0.50、、=365nm)，以相當於上述"[感度評價]"中確定的感度值的曝光量，對得到的塗膜進行膝光，用2.38重量％的氫氧化四甲銨水溶液，在25'C下，採用液池法顯影l分鐘。然後，用水沖洗，將其乾燥，在矽基板上形成圖案。然後，用佳能(株)制PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)進行曝光，使累積照射量達到3，000J/m2。然後，在熱板上，於160。C下加熱10分鐘後，再在230。C下加熱10分鐘，使圖案發生熔體流動，形成微透鏡。形成的微透鏡的底部(接觸基板的面)的尺寸(直徑)及剖面形狀示於表3。微透鏡底部的尺寸超過4.0jnm不足5.0iLim時，判斷為良好。其尺寸在5.0pm以上時，相鄰透鏡處於彼此接觸的狀態，並不優選。另夕卜，在圖l所示的模式圖中，剖面形狀為(a)的半凸透鏡形狀時為良好，剖面形狀為(b)的類梯形狀時為不良。需要說明的是，比較例5中熔體流動的微透鏡圖案與分別相鄰接的圖案接觸，所以無法測定底面直徑並評價剖面形狀。表3tableseeoriginaldocumentpage47本發明的感放射線性樹脂組合物即使在不足25(TC的燒成條件下，與基板的密合性也良好，具有優異的耐溶劑性及耐熱性、高透射率，能夠形成介電常數低的層間絕緣膜。本發明的感放射線性樹脂組合物的感放射線感度高，具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好的圖案形狀的顯影裕度，可以容易地形成密合性優異的圖案狀薄膜。由上述組合物形成的本發明的微透鏡與基板的密合性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，並且具有高透射率和良好的熔化形狀，可以用作固體攝像元件的微透鏡。權利要求1.感放射線性樹脂組合物，其特徵在於，含有下述成分[A]具有選自環氧乙烷基及氧雜環丁烷基中的至少1種基團、和能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團的聚矽氧烷；及[B]1，2-重氮醌化合物。2.如權利要求l所迷的感放射線性樹脂組合物，其中，[A]聚矽氧烷為含有下述物質的水解縮合物(al)具有選自環氧乙烷基及氧雜環丁烷基中的至少l種基團和水解性基團的矽烷化合物、(a2)具有能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團和水解性基團的矽烷化合物。3.如權利要求l所述的感放射線性樹脂組合物，其中，[A]聚矽氧烷中的能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團是羥基、巰基或氨基》4.如權利要求2所述的感放射線性樹脂組合物，其中，[A]聚矽氧烷中的能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團是羥基、巰基或氨基。5.用於形成層間絕緣膜的如權利要求l~4中的任一項所述的感放射線性樹脂組合物。6.層間絕緣膜的形成方法，其特徵在於，按下迷順序包含以下工序(1)在基板上形成權利要求5所述的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)將放射線照射後的被膜顯影的工序，及(4)加熱顯影后的被膜的工序。7.層間絕緣膜，其特徵在於，所述層間絕緣膜是採用權利要求6所述的方法形成的。8.用於形成微透鏡的如權利要求l~4中的任一項所述的感放射線性樹脂組合物。9.微透鏡的形成方法，其特徵在於，按下述順序包含以下工序(1)在基板上形成權利要求8所述的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)將放射線照射後的被膜顯影的工序，及(4)加熱顯影后的被膜的工序。10.微透鏡，其特徵在於，所述微透鏡是採用權利要求9所述的方法形成的。全文摘要本發明的感放射線性樹脂組合物含有[A]具有選自環氧乙烷基及氧雜環丁烷基中的至少1種基團、和能與環氧乙烷基或氧雜環丁烷基加成反應的官能團的聚矽氧烷；及[B]1，2-重氮醌化合物。上述本發明的感放射線性樹脂組合物即使在不足250℃的燒成條件下，用於形成層間絕緣膜時，也能夠形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率、低介電常數的層間絕緣膜，另外用於形成微透鏡時，能夠形成具有高透射率和良好的熔化形狀的微透鏡。文檔編號G03F7/075GK101324755SQ20081012544公開日2008年12月17日申請日期2008年6月13日優先權日2007年6月14日發明者吉田伸,花村政曉,飯島孝浩申請人:Jsr株式會社