高清晰度陰極射線管及其製造方法

2023-12-08 14:54:06 3

專利名稱：高清晰度陰極射線管及其製造方法
技術領域：
本發明總的涉及彩色陰極射線管及其製造方法，特別提供一種能減小工作時產生的亮/暗線圖形的彩色陰極射線管及其製造方法。
通常，螢光屏形成在彩色陰極射線管面板的內表面上，螢光屏具有由三種螢光層構成的三種顏色的螢光層，在其上形成有大量點，條等，並發紅、綠和藍光。用包括曝光/顯影步驟的照相印刷方法製成該螢光屏。換言之，面板的內表面塗敷光敏膜，用掩模掩蔽該塗敷光敏膜，之後，用曝光輻照面板內表面。結果，曝光穿過掩模可露出光敏膜的孔(光通孔)，由此，形成上述的點、條等。
另一方面，陰極射線管工作時的電子束與曝光處理中由曝光產生的電子束不同。因此，為了改善電子束的著屏特性，通常用以下方法。即，在曝光系統中設置校正透鏡，曝光步驟中用該校正透鏡折射曝光，因此，該曝光靠近於陰極射線管工作時的電子束實際軌道。
用這種校正透鏡形成彩色陰極射線管的螢光膜的常規方法，例如，己由1972年公開的JP-A-47-40983公開。現參見附圖，說明JP-A-47-40983公開的彩色陰極射線管的螢光膜的製造方法。
圖1是按現有技術的製造彩色陰極射線管的螢光膜所用的曝光基座的結構圖。
其中，因1所示曝光基座84從其底部依次構成諸如曝光光源81，有連續曲面的校正透鏡82(以下將稱作「連續透鏡」)和有不連續曲面的另一校正透鏡83(以下稱作「不連續透鏡」)的構件。開口部分88用於穿過曝光基座84上表面中形成的曝光光源發射的曝光。其內表面上安裝有掩模87的面板85安裝在曝光基座84上。應注意，光敏膜塗敷在面板85的內表面上。
有上述裝置的曝光基座84中，用連續透鏡82和不連續透鏡83折射從曝光光源81射出的曝光，然後穿過掩模87的孔，到達面板85的內表面，使塗敷在面板85內表面上的光敏膜86曝光。
這種情況下，設置於曝光基座84內的不連續透鏡83具有折射從曝光光源射出的曝光並使曝光光路靠近於陽極射線管的電子束軌道的功能。因而，不連續透鏡83具有極複雜的形狀。圖2是不連續透鏡83的一個實例。圖2A是展示該不連續透鏡的正視圖，圖2B是沿圖2A中A-A線剖開的不連續透鏡的截面圖，圖2C是沿圖2A中B-B線剖開的不連續透鏡的截面圖。如圖2A至2C所示，不連續透鏡83按這種方式構成，即按矩陣形設置多個光入射面83a，這些光入射面83a沿垂直方向(2)相對於水平軸(X)和垂直軸(Y)傾斜。之後，在相鄰光入射面83a的邊界按與光發射平面83c垂直的形成標高不同的平面83b。
圖3是形成圖2A至2C所示不連續透鏡83用的模具的透見圖。用於構成常規不連續透鏡的模具稱作「組合型模具」，如圖3所示，該組合型模具是用大量具有相當於不連續透鏡83的各光入射平面83a的平面123a的模塊123組合構成的。
如上所述，上述不連續透鏡83中，相鄰光入射平面83a之間的標高不同的平面83b設置成與光發射平面83c成直角。如圖3所示，由於各模塊之間標高不同的平面123a按依次垂直於模具的背面123c設置，使構成組合型模具的各模塊相互無間隙地裝配。由於常規不連續透鏡83按相對於光發射面83c成直角設置標高不同的平面83b，因此存在以下缺陷。
圖4是圖2所示不連續透鏡83的局部放大圖。曝光光源81發射的曝光穿過連續透鏡82，之後，進入不連續透鏡83的光入射(進入)平面83a並在該光入射平面83a被折射。之後，折射的曝光達到不連續透鏡83的光發射(出射)平面83d。之後，在要射出透鏡外的光發射平面83處反射該曝光，並輻射到面板85的內表面。但是，射到光入射平面83a的底部附近部分(圖4中「A」部分)的曝光將進入相鄰光入射平面83a頂部附近的其它部(圖4中部分「B」)，進入頂部附近部分的該曝光在光入射平面83a被折射。之後，在相鄰光入射平面83a之間的高度不同的平面83b折射/反射。結果，光入射平面83a底部附近的部分不能有效也利用，並會產生由不連續透鏡83發射的曝光的光通量密度減小相當於標高不同平面83b的高度的寬度「t」的區域。結果，在面板85的內表面上塗敷的光敏膜86中形成該部分。即，該部分中，相當於不連續透鏡83的標高不同平面83b的高度的寬度「t」內所進行的曝光處理不足。採用該面板85的陰極射線管工作時，曝光不足的部分會出現暗條圖形。結果，會出現陰影和局部變弱的顯示屏，因而，不能獲得具有高清晰度的高圖像質量的彩色陰極射線管。
而且，由於大量具有相當於不連續透鏡83的各光入射平面83a的123a的模塊組裝構成用於製造上述不連續透鏡的模具，當平面123a的面積和標高不同的平面123b的高度做得很小時，對精度的考慮有限，而且各模塊123相互組合時精度同樣有限。結果，不能減小用該模具製造的不連續透鏡83中的光入射面83a的面積和標高不同的平面83b的高度。可以想像用組裝型模具製造的常規不連續透鏡83中的光入射平面83a的節距限制在8mm數量級。這就不能滿足高清晰度彩色陰極射線管的需要。即，在該高清晰度彩色陰極射線管中，用400,000象素常規構成的螢光屏企圖用1,000,000以上的象素構成。
本發明的主要目的是，提供一種彩色陰極射線管及其製造方法，可使彩色陰極射線管工作時亮/暗條圖形減少。
本發明的另一目的是，減少陰極射線管的著屏誤差量。
為克服上述缺陷，按本發明的一個方案的彩色陰極射線管，其特徵是，在面板上形成其點節距小於或等於3mm的螢光點圖形的1,000,000以上的小點；當電子束輻射螢光點圖形時，電子束打到螢光點圖形上的著屏誤差小於或等於20μm。
最好通過蔭罩曝光並在用多個扁平面或多個沿X軸和Y軸方向彎曲的平面構成的校正透鏡的至少一個軸處旋轉構成螢光點圖形。
這種情況下，用多個按矩陣形排列的光入射平面構成校正透鏡，使由曝光光源發射的光進入並使進入的光沿規定方向折射；光出射平面用於使進入的光出射到該光出射平面外邊的光入射平面；在彼此相鄰的光入射平面之間設置許多標高不同的平面，之後，最好按進入與該標高不同平面相鄰的這些光入射平面中的兩組平面的兩組光是從彼此靠近的光出射平面射出的方式設置標高不同平面。
而且，用按矩陣形排列的多個光入射平面構成校正透鏡，使曝光光源發射的光進入，並使進入的光沿規定方向折射；光出射平面，用於使進入的光出射到該光出射平面外邊的光入射平面；彼此相鄰的光入射平面之間排列有大量的標高的同平面，之後，交替地設置各標高不同的平面，設置方式是，進入與每個標高不同平面相鄰的兩個光入射平面中的每一個平面的各光是從有恆定間隔的光出射平面射出。
而且，用多個按矩陣形排列的光入射平面構成校正透鏡，使從曝光光源發射的光進入，並使進入的光沿規定方向折射；光入射平面，用於使進入的光出射到該光出射平面外邊的光入射平面；彼此相鄰的光入射平面之間設置多個標高不同的平面，之後，可形成多個光入射平面中的至少一個，構成方式是，用一個該光入射平面構成頂部，而且，與該光入射平面相鄰的標高不同的平面具有經標高不同平面與該光入射平面相鄰設置的光入射平面的頂部有相同的高度。
而且，按本發明另一方案的彩色陰極射線管的製造方法的特徵是，當用多個扁平面或多個曲面構成的，並在扁平面或彼此相鄰的曲平之間規定的標高距離小於或等於5μm的方式構成的校正透鏡擺動時，通過校正透鏡的曝光經蔭罩輻射到彩色陰極射線管的面板內表面上形成的光敏膜上，使光敏膜曝光；並用曝光後的光敏膜作掩模，在面板表面上形成螢光點圖形，由此，用1000000以上的螢光點圖形的元件構成的小片構成螢光屏，使螢光點圖上的著屏誤差小於或等於20μm。
更具體地說，光由曝光光源發射，校正透鏡以不對稱模式沿縱向和橫向擺動；該校正透鏡用按矩陣形式排列的多個光入射平面構成，使由曝光光源發射的光進入，並使進入的光按規定方向折射，光出射平面，用於將進入的光出射到該光出射平面外邊的光入射平面；標高不同的平面設置於彼此相鄰的光入射平面之間，按該方式，進入彼此相鄰的光入射平面的大量進入光是從彼此鄰近的光出射平面射出的；由此，折射從曝光光源發射的光。
被校正透鏡折射的光輻射到有蔭罩的面板的內表面上，使面板內表面上塗敷的光敏膜曝光。
用另一種方法，光由曝光光源發射；從曝光光源發射的光用使入射光按恆定間隔朝規定方向出射用的校正透鏡折射，同時，該校正透鏡按不對稱模式沿縱向和橫向擺動；由擺動的校正透鏡折射的光輻射到己構成有蔭罩的面板的內表面上，使面板內表面上塗敷的光敏膜曝光。
以下將參見


本發明的優選實施例。
圖1是構成常規面板螢光膜用的曝光基座的結構示意圖；圖2A至2C是常規不連續透鏡的結構示意圖；圖3是製造常規不連續透鏡用的模具透視圖；圖4是常規不連續透鏡的局部放大圖；圖5是按本發明第1實施例的彩色陰極射線管採用的不連續透鏡的透視圖。
圖6是圖5所示不連續透鏡沿圖5中VI-VI線剖開的剖視圖7是圖6所示不連續透鏡的局部放大圖；圖8是相當於圖7的，圖5所示不連續透鏡的改型示意圖；圖9A和9B是相當於圖7的，圖5所示不連續透鏡的其它改型示意圖；圖10是構成圖5所示不連續透鏡用的模具的透視示意圖；圖11是圖10所示模具用的切割機示意圖；圖12是說明圖11所示切割加工機的切割加工工藝流程圖；圖13是相當於圖7時，說明圖12中步驟1702執行判斷的示意圖；圖14是圖10所示模具用切割加工機的示意圖；圖15是說明圖14所示切割加工機的切割加工工藝流程圖；圖16是用圖5所示不連續透鏡構成面板螢光膜用的曝光基座的結構示意圖；圖17是說明圖16所示曝光基座的不連續透鏡的擺動工作的示意圖；圖18是說明按本發明第1實施例的彩色陰極射線管及對其著屏誤差量評估方法的示意圖；圖19按本發明第2實施例的彩色陰極射線管中使用的不連續透鏡的透見示意圖；圖20是圖19所示不連續透鏡的局部放大圖；圖21是圖20所示不連續透鏡的改型說明圖；圖22是構成圖19所示不連續透鏡用的模具的切割加工工藝流程圖。
現在，參見

本發明第1實施例的彩色陰極射線管。
圖5是製造按本發明第1實施例的彩色陰極射線管用的不連續透鏡3的透視示意圖。圖6是圖5所示不連續透鏡3沿VI-VI箭頭方向剖開的剖視圖；為了清楚地說明本發明，應該了解，圖5和6所示不連續透鏡是按上/下方向彼此方向相反而展示的。
採用圖5和6所示的構成校正透鏡用的不連續透鏡。即，為了形成彩色陰極射線管的螢光膜，在曝光步驟中使曝光折射，因而，使該曝光的光路近似於彩色陰極射線管的電子束軌道。該不連續透鏡3可裝入圖1所示的現有技術所述的曝光基座84中，並能裝入圖16所示的後面將要說明的曝光基座中。
不連續透鏡3由諸如聚甲基間丙烯酸酯的高透光性光學塑料製成，和熱固性樹脂製成。如圖5和6所示，按矩陣形排列大量光入射平面3a，在相鄰的標高不同的平面3a之間設置多個標高不同的平面3b，並在該不連續透鏡3上形成標準平面3c。多個光入射平面3a具有沿高(Z)方向相對於水平(X)軸和垂直(Y)軸的各種傾斜或斜率。圖5中，在標準平面3c上確定X軸和Y軸，光入射平面3a沿Z方向相對於X軸的斜率表示為「θx」，該光入射平面3a沿Z方向相對於Y軸的斜率表示為「θy」。按預選的曲率和預定的斜率「θx」和 「θy」，按不連續透鏡3安裝在圖1所示曝光基座中時，由安裝在該曝基座中的曝光光源發射曝光，然後，進入該光入射平面3a的光從光出射平面3d沿預定方向出射的方式構成這些光入射面平面3a中的每個平面。換言之，曝光輻射進位於曝光基座中的面板內表面上的預定位置。
構成多個標高不同的平面3b，其構成方式是，當不連續透鏡3安裝在圖1所示曝光基座中時，該標高不同的平面位於與曝光光路平行的位置，曝光穿過標高不同的平面3a和與其連接的光入射平面3a之間的界面(例如圖6中「c」部分)。根據每個光入射平面3a的斜率θx和θy、和不連續透鏡3的厚度(最大和最小厚度)計算各標高不同的平面3b的高度。
下面將說明不連續透鏡3安裝在圖1所示曝光基底84中，和在面板內表面上形成光敏膜的情況下的不連續透鏡3附近的曝光光路。
圖7是圖6所示不連續透鏡3的「A」點的放大圖；不連續透鏡3安裝在圖1所示曝光基座中，並在面板內表面上形成的光敏膜被曝光時，從曝光光源發射的曝光穿過連續透鏡，之後，進入面板內表面上形成的光敏膜，在光入射表面83a被折射，之後，到達不連續透鏡3的光出射平面3d。之後，該曝光在光出射平面3d以不連續透鏡射出，之後，輻射到面板內表面上。這種情況下，進入光入射平面3a頂部附近的曝光在光入射平面3a折射，之後，在相鄰的光入射平面3a之間的標高不同的平面3b折射/反射。但是，如圖7所示，在該不連續透鏡3中，形成各個標高不同的平面3b形成方式是，這些標高不同的平面3b所處的位置與穿過標高不同平面3b和與其連接的光入射平面3a之間的界面(即，圖7中「D」部分)的曝光光路平行。結果，曝光輻射光入射平面3a底部附近的部分(即，圖7中「E」部分)，也能直接到達該光入射平面3a底部附近，而不會在相鄰的光入射平面3a的頂部附近部分(即圖7中的「D」部分)中斷。因此，能有效利用光入射平面3a底部附近的部分，並能防止從不連續透鏡3出射的曝光中出現的寬度「t」中光通量密度下降的區域。該寬度「t」相當於標高不同的平面3b的高度。而且，由於可避免在面板內表面上塗敷的光敏膜中形成其寬度t相當於不連續透鏡3的標高不同平面3b的高度的曝光不足部分，因此，能使用不連續透鏡3在面板內表面上形成曝光光敏膜，而製成有高圖像質量的高清晰度彩色陰極射線管。
應該了解，上述說明中，使製成的各標高不同平面3b與穿過不連續透鏡3中標高不同平面3b和與其相連接的光入射平面3a之間的界面的曝光光路平行。另外，可按曝光進入與該標高不同平面3b相鄰的一個光入射平面3a而且也能進入到這些光入射平面3a中的另一個的曝光，能從光出射平面3d出射，而不在其中造成間隔。
例如，如圖8所示，可使構成的這些標高不同平面中的每一個變成與進入連接該標高不同平面3d的光入射平面3a的頂部附近部分(即圖8中「F」部分)的不連續透鏡裡邊的曝光光路平行。而且，在該另一種情況下，能有效利用光入射平面3a底部附近的部分，可避免在從不連續透鏡3出射的曝光中形成其寬度t與標高不同平面3d的高度相當的光通量密度低的區域。
而且，如圖9A所示，在標高的不同平面3b的高度「U」變成大於或等於預選值時，可按圖9B所示在同一平面上設置經該標高不同平面3b而彼此相鄰設置的兩個光入射表面的頂部的方式改變光入射平面3a的形成位置。當標高不同平面3b的高度「U」大時，若使該標高不同平面3b形成為平行於曝光光路。之後，經該標高不同平面3b的相互鄰近設置的兩個光入射平面3a的位置彼此分開。換言之，標高不同平面3b與不連續透鏡3的整個表面之比增大。因此，光入射平面3a與該不連續透鏡3的整個表面之比下降。這就是說，不連續透鏡3的表面有效利用率相應地減小。這種情況下，如圖9B所示，為減小該標高不同平面3b的高度，經該標高不同平面3b而彼此相鄰設置的兩個光入射平面3a的頂部位置要做成相互重合，因此，能提高不連續透鏡的表面有效利用率。
以下將說明不連續透鏡3的製造方法。
圖10是製造不連續透鏡3用的模具透視示意圖。
如圖10所示，用以下方式製造不連續透鏡3，用諸如有高透光性的聚甲基間丙烯酸酯的光學塑料，用熱固性樹脂支承其上己形成有相應於光入射平面3a，標高不同平面3b，和不連續透鏡3的標準平面3c的平面131a，131b，131c的模具131的表面，之後，對該透鏡材料加熱和加壓。還應注意，即使用紫外線熱塑性樹脂支承模具131表面，紫外線輻射到模具131並對該紫外線熱塑性樹脂加壓，可製成不連續透鏡3、用模具131的材料構成不連續透鏡3時，可採用非鐵的軟性材料，例如，鋁合金，黃銅和銅。
以下，說明圖10所示模具的切割加工方法。
圖11是圖10所示模具的切割加工裝置的局部透視圖。
圖11所示切割加工裝置設有X-Y工作檯141，相應於切割工具的金剛石切割工具144，固定金剛石切割工具用的研磨/切割主軸145，其上安裝研磨/切割主軸145的旋轉臺142，Z-臺143和CNC(計算機數字式控制)控制裝置(未畫出)。
旋轉臺142響應從CNC控制設備發出的指令而轉動。結果，調節金剛石切割工具144的角度。旋轉臺142在安裝在X-Y工作檯141上的基座146上轉動。
X-Y工作檯141響應CNC控制裝置發出的指令沿X軸方向和Y軸方向移動。結果，金剛石工具144沿X軸方向和Y-軸方向調節。
相當於模具材料的工件133固定在Z-臺143上。Z-工作檯143響應從CNC控制裝置發出的指令沿Z軸方向調節工作133的位置。
CNC控制裝置根據該CNC控制裝置中用的存儲器中儲存的NC(數字式控制)程序控制X-Y工作檯141，Z-工作檯143，和旋轉工作檯142的工作。
切割加工裝置，如圖11所示，根據NC程序控制X-Y工作檯141，Z-工作檯143，旋轉工作檯142的工作並按照不連續透鏡3的表面形狀在工作133的表面上執行平面，即圖10中平面131a，131b，131c的切割加工。
該臺式加工裝置使X-Y工作檯沿Y軸方向移動切割工件133的表面，並使X-Y工作檯沿X軸方向連續移動切割/饋送工作133表面。之後，完成了第1列的切割加工後，切割加工裝置使Z-工作檯143沿Z軸方向移動、執行下一列切割加工。
之後，將說明圖11所示切割加工裝置執行的切割加工。
圖12是用圖11所示切割加工裝置執行切割加工的流程圖。
首先，計算不連續透鏡3中形成的各光入射平面3a的曲率和斜率「θx」「θy」，以及各標高不同平面3b的高度(步驟1701)。如上所述，各光入射平面3a的曲率和斜率θx、θy設定為當不連續透鏡3安裝在圖1所示曝光基底中時，從該曝光基座中設置的曝光光源發射曝光，之後，進入該光入射平面3a中的曝光可從光出射平面3d沿預選方向出射。即，該曝光輻射到設置於曝光基座上的面板內表面上的預定位置。並根據每個光入射平面3a的斜率θx、θy和不連續透鏡3的厚度(最大和最小厚度)計算各標高不同平面3b的高度。應該了解，以與上述現有技術和圖2所示不連續透鏡83的標高不同平面83b相鄰的方式，設各標高不同平面3b與光出射平面成直角。
之後，推算一個光入射平面3a的這個區域的尺寸(寬度)，並判斷該區域是否對面板內表面上形成的光敏膜的曝光產生有害影響(步驟1702)。該區域中，曝光不直接到達，它不能有效利用。按以下程序進行該判斷。圖13是說明執行1702的判斷說明圖；設定在步驟1701狀態下的不連續透鏡3的局部放大圖。
首先，推算這種情況下入射到光入射平面3a的曝光的入射角，即不連續透鏡3在步驟1701確定的狀態下安裝在圖1所示曝光基座中。可考慮從曝光光源發射的曝光的出射角。和在連續透鏡的曝光折射來推算入射角。
之後，計算圖13所示光入射平面3a的頂部的「f」的位置，以推算曝光穿過頂部位置「f」到達的位置「g」，該光入射平面3a鄰近重要的光入射平面3a的底部部分。之後，計算從重要的光入射平面3a的底部位置「h」到曝光穿過頂部位置「f」而到達的位置「g」確定的距離「t」。選擇該距離「t」是否小於或等於預定值。
計算的距離「t」是小於或等於預定值時，對該光入射平面3a作這樣的判斷，曝光不直接到達的區域，因而不能有效地利用，不會對面板內表面上形成的光敏膜的曝光處理產生不利影響。之後，加工工作進入步驟1704。另一方面，計算的距離「t」大於或等於預定值時，對該光入射平面3a判斷，曝光沒直接到達的區域，因而它不能有效地利用，對面板內表面上形成的光敏膜的曝光產生不利影響。之後，加工工作進行到步驟1703。在步驟1703，再設定在前述的步驟1702與重要的光入射平面3a的底部邊連接的標高不同平面3b，使其與穿過鄰近該光入射平面3a的底部邊設置的光入射平面3a的頂部位置「f」的曝光平行。
步驟1704，選擇是否進行在上述步驟1702和1703完成後確定的加工工作，以使全部光入射平面3a形成在不連續透鏡3上。這些加工工作完成後，加工工作進入步驟1705，而這些加工工作還沒完成時，加工工作再返回到前面的步驟1702。
在步聚1705，確定工作133的切割加工條件，以便將不連續透鏡3的形狀變換成工件133的表面。不連續透鏡3的形狀由在上述步驟1701至1703己確定的各光入射平面3a的曲率和斜率以及各標高不同平面3b的高度和斜率具體確定。之後，根據這些切割加工狀確定該切割加工裝置中用的NC程序。
之後，按步驟1705確定的NC程序切割工件133，以製造圖10所示模具131。
首先，X-Y工作檯141沿Y方向移動切割工件133時表面，X-Y工作檯沿X方向連續移動，切割/移送工作133的表面，同時用旋轉工作檯142改變金剛石切割工具144的高度。結果，切割出圖10所示模具131的一列平面131a。此時，圖10中，X-Y工作檯141沿X方向連續移動，並同時改變圖11中沿Y方向的位置，切割在X軸中沿Z方向的平面131a的斜率。而且，在圖10中，X-Y工作檯沿X方向連續移動，旋轉工作檯142同時轉動，切割在Y軸中沿Z中向的平面131a的斜率。應注意，圖11中，金剛石切割工具144的切割刀長最好與平面131a沿圖10中Y方向的一邊長度相同。
此後，完成一列的切割加工時(步驟1706)，Z-工作檯143沿Z軸方向移動，進行周期性移送工件的工作(步驟1707)，以進行下一列的切割加工。之後，全部列切割結束時(步驟1708)，金剛石工具144再回到原位(步驟1709)，該流程中的該加工工作完成。
之後，將說明圖10所示模具的塑性加工方法。
圖14是圖10所示模具用塑性加工裝置的一部分透視圖。
圖14所示塑性加工裝置用X工作檯1 61、Y工作檯162、固定工作133的定位臺163和起塑性加工工具作用的衝頭165、X方向角度工作檯166，Y方向角度工作檯167、Z軸移送裝置168和控制裝置169構成。
定位臺163的設置方式是，可用X工作檯161和Y工作檯162使該定位工作檯163沿X方向和Y方向移動。
衝頭165的設置方式是，用X方向角度工作檯166和Y方向角度工作檯使該衝頭繞作為轉動中心的衝頭165的加工平面沿X方向和Y方向旋轉。衝頭165用的材料，以諸如金剛、CBN的高硬度材料和超硬材料為宜。還應注意，先加工衝頭105的頂尖平面，以便工件133的表面中製成加工中規定的預選曲率。
控制裝置169使衝頭165沿上/下方向移動，衝切工件表面。結果，對工作133表面進行塑性加工。還應注意，控制裝置169具有力傳感器，用於控制和使衝頭165對工件133表面加工壓力。
控制裝置169，X方向角度工作檯166，Y方向角度工作檯167，和衝頭165安裝在可沿垂直方向(Z軸)移動的Z軸移送裝置168的下端部分上。
之後，將說明圖14所示塑性加工裝置的塑性加工工作。
圖15是說明用圖14所示塑性加工裝置進行塑性加工的工藝流程圖。應了解，由於圖15中步驟1101至1104規定的加工工作與圖12所示流程圖中步驟1701至1704相同，因此省略對這些步驟的詳細說明。
步驟1105，確定工件133的塑性加工，以使不連續透鏡3的形狀變換成工作133的表面。不連續透鏡3的該形狀由上述步驟1101至1103己確定的各光入射平面3a的曲率和斜率「θx」「θy」以及各標高不同平面3b的高度和斜率具體確定。之後，根據這些塑性加工的狀態確定該塑性加工裝置中用的塑性加工程序。
之後，按步驟1105確定的塑性加工程序對工件133塑性加工，製造圖10所示模具131。
首先，移動X工作檯161，對工件133的待加工平面定位，用X方向角度工作檯166和Y方向角度工作檯167控制衝頭165的高度，使工件133中待加工平面有預定的斜率(步驟1106)。
之後，Z軸移送裝置168使衝頭165下降，衝頭165的頂尖面給工件133的平面加壓。之後，用控制裝置169控制衝頭165的壓力，進行衝切加工。(步驟1107)。結果，進行圖10所示模具133的給定平面131a的塑性加工工作。
之後，圖10所示模具131中，移動X工作檯161，對工件133中待加工平面定位，對在步驟1107中形成的平面131a連接的標高不同平面131b進行塑性加工。此後，用X方向角度工作檯166和Y方向角度工作檯167控制衝頭165的高度，以給工件133中待處理平面形成預定斜率(步驟1108)。
之後，Z軸移送裝置168使衝頭165下降，衝頭165的頂尖面對工件133的待加工平面加壓。此後，用控制裝置169控制中頭165的加壓力，進行中切加工(步驟1109)。結果，進行標高不同平面131b的塑性加工工作。
對模具131一列的平面131a進行塑性加工工作時，圖10所示該模具131的標高不同平面131b用步驟1106至1109確定的加工工作完成加工(步驟1110)，移動Y工作檯162，以周期性移送模具(步驟1111)，進行下一列塑性加工工作。結表所有列的塑性加工工作時，(步驟1112)，衝頭165回到原位(步驟1116)，這後，完成以下的加工。
按上述切割加工方法和塑性加工方法，可在一種模具材料的表面上形成平面，這些平面相當於不連續透鏡3的變換平面(即，光入射平面3a，標高不同平面3b和基準平面3c)。如上所述，由於用一種模具材料製造形成不連續透鏡用的模具，使將相當於不連續透鏡的光入射平面的平面面積，相當於其標高不同平面的平面的高度做成小於組裝型模具的相應光入射平面的面積和標高不同平面的高度。如圖3所示現有技術所述。結果，由於不連續透鏡的光入射平面面積和標高不同平面的高度可以做得小，能精確控制製造面板的螢光膜用的曝光臺中的曝光軌跡。結果，本發明的這些加工方法能充分滿足製造高清晰度彩色陰極射線管的需要。結果，它能製造出高清晰度電視機和用作終端的高清晰度監視器。
根據申請人或發明人的實驗結果，由於用上述的切割加工方法和塑性加工方法製造模具，按本實施例的不連續透鏡的光入射平面的節距可減小到約2mm，儘管現有的不連續透鏡的節距是8mm數量級。而且，標高不同平面的高度可減小到小於或等於5μm，儘管常規的不連續透鏡的標高不同平面的高度是100μm。
而且，按本實施例，用切割加工和塑性機械加工在一種模具材料表面上形成相當於不連續透鏡形狀的平面，可在各種角度構成相當於不連續透鏡的標高不同平面的平面131b。相反，如上所述，由於在常規組裝模具中，構成模具的各功能塊無間隙地相互組裝，應垂直於模具後平面設置各功能塊之間的標高不同平面。換言之，由於採用用上述切割加工方法和塑性加工方法由一種模具材料製成的一體型模具，因此，能夠成圖5和6所示的具有相對於光出射平面傾斜的標高不同平面3b的不連續透鏡。
應該知道，除上述切割加工和塑性加工方法之外，用電火花加工方法也能製成上述的一體型模具。
之後，將說明構成採用不連續透鏡3的彩以陰極射線管的面板螢光膜所用的曝光方法。
圖16是構成採用不連續透鏡3的彩色陰極射線管的螢光膜所用曝光基座的結構示意圖。圖16所示曝光基座10中，從下向上依次設置構件曝光光源1，連續透鏡2，和不連續透鏡3。在曝光基座10的上表面中形成開口部分8，使由曝光光源發射的曝光能穿過該開口部分。而且，在曝光基座10上安裝面板5，面板5的內表面上安裝掩模7。應注意，在面板5的內表面上塗敷光敏膜6。而且，用搖擺裝置(未畫出)使不連續透鏡3沿X方向和Y方向擺動，即按垂直於頁面的方向擺動。
應該了解，圖16所示曝光基座10按圖1所示常規曝光基座84相同的方式安裝，只是有以下幾點不同。即，圖16所示曝光基座10中，用不連續透鏡，當不連續透鏡3的標高不同平面3b的高度大於或等於預定值時，用搖擺裝置(沒詳細畫出)擺動該不連續透鏡。
如上所述，不連續透鏡中，按標高不同平面3b的位置平行於穿過標高不同平面3b和與其連接的光入射平面之間的曝光光路的方式形成這些標高不同平面3b中的每一個。結果，即使不連續透鏡3用於圖1所示常規曝光基座中，也能克服上述缺陷。也就是說，能在面板5內表面上塗敷的光敏膜中形成其寬度相當於不連續透鏡3的標高不同平面3b的高度的曝光不足部分。
如上所述，各標高不同平面3b的高度與經該標高不同平面3b孤彼此相鄰設置的光入射平面3a的斜率「θx」和「θy」有關。光入射平面3a的斜率「θx」和「θy」的斜率增大時，標高不同平面3b的高度也增大。申請人或發明人證實，當該標高不同平面3b的高度增加很多時，在這種陰極射線管中會產生條形亮/暗行圖形，因此，能用使用該不連續透鏡3的常規曝光基座曝光以形成面板螢光膜。具體地說，用採用不連續透鏡3的曝光基座形成21英寸彩色陰極射線管的面板螢光膜時，若該不連續透鏡3的標高不同平面3b的高度超過40μm，之後在該21英寸彩色陰極射線管工作中產生上述的柵格式亮/暗行圖形。
為避免出現這種問題，圖16所示曝光基座10中，當用的不連續透鏡3的標高不同平面3b的高度變成大於或等於預定值時，用搖擺裝置(未畫)使該不連續透鏡3按不樹稱模式沿X方向擺動。該實施例中，不對稱搖擺模式是指沿X方向進行的搖動工作是與沿Y方向的搖動工作不對稱。由於不連續透鏡按沿X方向和Y方向不對稱模式擺動，輻射到面板內表面上的曝光輻射量在預定時間能均勻。結果，能在均勻條件下對相當於面板5內表面上塗敷的光敏膜的點和條的部分曝光。因此，在能減少陰極射線管工作的同時製成上述柵格式亮/暗行圖形。
應該了解，最好選擇不連續透鏡3沿X方向和Y方向的擺動幅度小於或等於與擺動方向平行的光入射平面3a的邊緣長度。當擺動幅度變成大於光入射平面3a的邊緣長度。當擺動幅度變成大於光入射平面3a的節距時，由於不連續透鏡的各光入射平面3a的斜率「θx」和「θy」可以有各種值，校正過的光路會相互幹擾。結果，達到光敏膜上的曝光量變得不均勻，所以使螢光圖形的形成出現波動。
根據申請人或發明人的實驗結果，如圖17所示，當不連續透鏡3的光入射平面3a沿X方向和Y方向的節距採用2mm時，該不連續透鏡按不對稱模式在2mm±1mm的擺動幅度下沿X方向和Y方向擺動，由此，構成21英寸彩色陰極射線管的面板螢光膜，與以下情況比較，在21英寸彩色陰極射線管工作時可使亮/暗行的對比度提高1/16。即，用圖1所示常規曝光基座形成21英寸彩色陰極射線管面板的螢光膜，所用的現有不連續透鏡的光入射平面沿X方向和Y方向的節距是8mm。
之後，將說明電子束輻射到按本實施例的彩色陰極射線管上用上述曝光方法在其上形成螢光點圖形時著屏誤差量的評估結果。
圖18A是按本實施例的彩色陰極射線管的剖視示意圖，其上己用上述的曝光方法形成了螢光點圖形。這種情況下，為評估本實施例的彩色陰極射線管中著屏誤差量，電子槍26發射的電子束26a輻射到面板25內表面上，由此照亮面板25內表面上形成的螢光點圖形。這種狀態下用顯微攝像機27使面板25的表面成像。之後，測試電子束到達位置和顯影照片的螢光點位置之間的位移評估著屏誤差量。
圖18B至18C是用上述評估方法獲得的照片。圖18B是用圖1所示常規不連續透鏡在面板上形成的螢光點圖形的照片。圖18C是用本發明的不連續透鏡在面板上形成的螢光點圖形的另一照片。該圖中，在孔部分表示電子束到達位置的螢光點位置之間的位移。
不連續透鏡的形狀和精度影響面板上形成的螢光點的位置和形狀。特別是，有對面板的四個角的影響比對其中心部分影響大的傾向。這是因為光入射平面的斜率θx和θy沿四個角成逐漸增大。隨斜率θx和θy的增大，標高不同平面的高度沿四個角增大。結果，螢光點的位置與電子束到達位置之間的位移沿面板四個角增大，所以，著屏誤差量增大。
因此，為減小該著屏誤差量，應減小不連續透鏡的各光入射平面的面積，因此，必須完全抑制標高不同平面的高度。考慮到該要求，由於不連續透鏡3是用上述製造方法製造的一體型模具構成的，如上所述，光入射平面3a的節距可從要求的8mm減小到本發明的2mm。因此，標高不同平面3b的高度從原來的約100μm減小到本發明的約5μm。結果，如圖18c所示，著屏誤差量可減小到約5μm。結果，如圖18c示，著屏誤差量可減小到約5μm。相反，如圖18B所示，用常規不連續透鏡在其上形成螢光點圖形的面板中的著屏誤差量大於或等於20μm。
之後，參見

按本發明第2實施例。
按本發明的第1實施例中，有效利用不連續透鏡中光入射平面底部附近部分，防止從光出射平面射出的曝光的光通量密度減小，光通量密度減小單元的寬度相當於每個預定間隔的標高不同平面的高度。與第1實施例相反，第2實施例中用的不連續透鏡中，清晰而均勻地構成其寬度相當於每個預先間隔的標高不同平面的高度的使光出射平面射出的曝光的光通量密度減小的單元。
圖19是按本發明第2實施例的彩色陰極射線管中採用的不連續透鏡的透視圖。圖20是圖19所示不連續透鏡的一部分的剖視圖，它相當於圖7，即第1實施例。
不連續透鏡3』與第1實施例採用的不連續透鏡有以下幾點不同。即，如圖20所示，連接到有關的光入射平面3』的底部的標高不同平面3』b基準平面3』c間的夾角「α」的設定方式是，距離「1」變成預定值，距離「1」定為從穿過連到該標高不同平面3』b的另一光入射平面3』a的頂部點「J」的曝光到達位置「k」到有關的首先說到的光入射平面3』a的底部位置「m」之間的長度。應注意，上述距離「1」最好比允許值長，以使該區域更清晰和更均勻，其中在其寬度相當於標高不同平面3』b的高度並有每個預選間隔的單元中曝光的光通量密度下降。
申請人或發明人證實，相對於基準平面3』c牟曝光的入射角小於或等於120度，並標高不同平面3』b與基準平面3』c之間的夾角做成120度的鈍角，之後，構成每個預定間隔的，可更清晰和更均勻地並使其中曝光的光通量密度減小的區域。如圖20所示，可以設想，上述距離「1」做得更長，而且，曝光經光入射平面3』a進入標高不同平面3』b能分散在較寬範圍。
通常，如圖20所示不連續透鏡3』的形狀可能不合適，應考慮到不連續透鏡的脫模。但是，如第1實施例所述，用切割加工和塑性加工方法用一種模具材料製造一體型模，則模具平面相對於不連續透鏡的標高不同平面的高度可減小到5μm數量級。結果，由於用有柔軟性極好的光學塑料作透鏡材料，則成品不連續透鏡容易從該模具中脫出。
現在說明不連續透鏡3』做成這種形狀的原因。即，可以更清晰和更均勻地製成其寬度相當於每個預選間隔的標高不同平面的高度的單元中，由光出射面射出的曝光是通過密度下降的區域。
不連續透鏡3』用於圖1所示常規曝光基座中進行製造面板螢光膜的曝光時，在其寬度相當於每個預選間隔的上述距離「1」的單元中形成曝光不足部分。當使用該面板的陰極射線管工作時，與現有技術比較該曝光不足部分可用暗行圖形，寬度及其對比度更均勻。
但是，像上述圖16所示第1實施例在曝光基座中用不連續透鏡3』進行構成面板螢光膜的曝光工作，可在預先時間內使均勻的曝光輻射量輻射到面板內表面上。換言之，與用常規不連續透鏡相比，在不連續透鏡3』中，能更清晰更均勻地形成其寬度相當於每個預先間隔的標高不同平面的高度的單元中光出射平面中射出的曝光的光通量密度減的區域。而且，由於不連續透鏡3』按不對模式沿X方向和Y方向擺動，可使預定時間內輻射到面板內表面上的曝光輻射量更均勻。結果，能製成有更高圖像質量的高清晰度的彩色陰極射線量。
還應注意，儘管不連續透鏡31按上述距離「1」變為恆定的方式形成了標高不同平面3』a，該標高不同平面3』b可按進入與該標高不同平面3』b相鄰設置的一個光入射平面37a的曝光，和進入另一光入射平面3a的曝光均從光出射平面3』d按恆定間隔射出的另一種方式構成。
例如，如圖21所示，在標高不同平面3」中形成幾個到幾十個刻痕，破壞了平面。所以，標高不同平面3」b上的透光性下降。結果，由於達到標高不同平面3」b的曝光可分數在該標高不同平面3」d的一個寬的範圍內，因此能使這個區域更清晰和更均勻，在該區域內，從光出射平面3』b射出的曝光的光通量密度在其寬度相當於每個預選間隔標高不同平面3」b的高度的單元內減小。
可按使從到達標高不同平面3』b的曝光的一部分的透光性減小的另一種方式構成光出射平面3』d。換言之，不連續透鏡3』的光出射平面3』d中，可用以下方式使其平面破壞。即，在曝光己進入光入射平面3』a之後的部分形成有恆定寬度的刻痕或裂縫，該曝光從標高不同平面3』b射出，然後到達與該標高不同平面3』b連接的另一光入射平面3』a，可幹擾直接到達該另一光入射平面3』a的曝光。因此，由於從該部分射出的曝光能分散開。該區域能做得更清晰和更均勻，其中，從光出射平面3』b射出的曝光的光通量密度在其寬度相當於每個所選間隔的標高不同平面的高度的單元中減小。應該懂得，不連續透鏡3』的光出射平面3』d損壞時，標高不同平面3』b的斜度不需做成與基標平面3』b成鈍角，但可以成直角或銳角。
還應注意，不連續透鏡3』的製造方法是指製造第1實施例中用的不連續透鏡3的製造方法。而且，製造不連續透鏡3』用的模具的製造方法也與第1實施例所用方法相同。現在，作為一個實例，將說明圖21所示製造不連續透鏡3』用的模具的切割方法。
圖22是製造不連續透鏡3』用的模具的製造方法的工藝流程圖。應注意，製造不連續透鏡3』用的模具切割加工裝置與圖11所示裝置相類似。
流程中，計算每個光入射平面3』的曲率和斜率「θx」，「θy」，還計算不連續透鏡3』中形成的各標高不同平面3」b的高度(步驟2001)。用圖12所示步驟1701規定的計算方法相同的方法進行本計算方法。
之後，根據步驟2001計算出的各標高不同平面3」b的高度基礎上，確定各標高不同平面3』b中形成的刻痕數和最佳加工位置(步驟2002)。
在步驟2003，為使不連續透鏡3』的形狀變換成該工件的表面，確定用作模具材料的工件的切割加工條件，該不連續透鏡3』的形狀，用各光入射平面的曲率和斜率θx和θy0，各標高不同平面3」b的角度，和步驟2001和2002設定的刻痕數，具體確定。之後在加工狀態的基礎上設定該切割加工裝置中用的NC程序。
之後，根據步驟2003設定的NC程序切割加工工件，製成模具。
首先，切割加工相當於一個光入射平面3』a(步驟2004)。之後在連到該光入射平面3』a的相當於標高不同平面3」b的另一平面中構成刻痕。(步驟2005)。之後，重複步驟2004至2005的加工，直至相當於不連續透鏡3』中一列光入射平面3』a的多個平面切割加工完成為止。本實施例中，按每個預選節距改變切割加工的進料量的方法控制X-Y工作檯，製成相當於不連續透鏡的標高不同平面3」b的平面中的這些刻痕。結果，在相當於不連續透鏡3』的標高不同平面3」b的多個平面中製成深度為約0.5μm的凹凸刻痕形。
之後，完成了一列的切割加工時(步驟2006)，周期性地移送模具(步驟2007)，之後，切割下一列。全部列的切割加工結束時(步驟2008)，切割工具回到原位(步驟2009)，完成該流程。
應該了解，本發明不限於上述實施例，可在不脫離本發明的技術範圍和精神的前提下有各種變化，改型和替換。
即，用大量極小的光入射平面構成按本發明的彩色陰極射線管中使用的不連續透鏡。該不連續透鏡用到曝光基座中用於製造面板螢光膜時，可抑制從不連續透鏡的光出射平面輻射出的曝光光通量密度在其寬度相當於每個預選間隔的標高不同平面的高度的單元中減小。
而且，在按本發明的彩色陰極射線管中用的不連續透鏡在圖16所示的裝有不連續透鏡搖擺裝置的曝光基座中的這種情況下，能構成更清晰和更均勻的區域，其中，從不連續透鏡的光出射平面輻射出的曝光光通量密度在其寬度相當於每個預選間隔的標高不同平面的高度的單元中減小。
而且，例如，不連續透鏡的光入射平面和標高不同平面均能用第1實施例的方法構成，之後，按第2實施例用構成有恆定寬度的刻痕或裂縫而破壞平面的方法構成其光出射平面。用這種改型，當用該不連續透鏡構成面板螢光膜時，可抑制陰極射線管工作時產生的亮和暗行圖形。
如上所述，按本發明，可抑制陰極射線管工作時產生的亮和暗行圖形。而且，能減小陰極射線管的電子束著屏誤差量。結果，可提供具有高清晰度和高圖像質量的電視機和終端監視器。
權利要求
1.一種彩色陰極射線管，其特徵是在面板上形成其點節距小於或等於3mm的1,000,000片以上的螢光點圖形，和電子束輻射螢光點圖形時，所述電子束在螢光點圖形上的著屏誤差小於或等於20μm。
2.按權利要求1的彩色陰極射線管，其特徵是，在由多個扁平平面或多個曲面構成的校正透鏡沿X軸和Y軸方向的至少一個軸搖擺時經掩模曝光形成所述螢光點圖形。
3.按權利要求2的彩色陰極射線管，其特徵是，按在構成所述校正透鏡的扁平單面或曲面之間彼此相鄰地設置標高不同平面的方式構成所述校正透鏡，並用所述校正透鏡對要形成的所述螢光點圖形曝光。
4.按權利要求3的彩色陰極射線管，其特徵是，所述校正透鏡具有構成按平行於所述曝光到所述校正透鏡的光入射方向形成的所述標高不同平面用的平面；用所述校正透鏡對待形成的所述螢光點圖形曝光。
5.按權利要求3的彩色陰極射線管，其特徵是，所述校正透鏡有構成所述標高不同平面的平面，該標高不同平面相對於所述校正透鏡的基準平面的傾斜角小於或等於120度；用所述校正透鏡對待形成的所述螢光點圖形曝光。
6.按權利要求3的彩色陰極射線管，其特徵是，所述校正透鏡具有使所述光的透光性減小的區域，它在平面上用均勻寬度構成，曝光從它出射；用所述校正透鏡對待形成螢光點圖形曝光。
7.按權利要求3的彩色陰極射線管、其特徵是，所述校正透鏡有形成裝有極小凹凸的所述標高不同平面的平面，它與所述校正透鏡的基準平面的傾斜角小於或等於120度；用所述校正透鏡對待形成的所述螢光點圖形曝光。
8.按權利要求2的彩色陰極射線管，其特徵是，所述校正透鏡用一體型模具形成的光學塑料製成；用所述校正透鏡對待形成的所述螢光點圖形曝光。
9.裝有按權利要求1的彩色陰極射線管的彩色顯示裝置，其特徵是，螢光點圖形用電子束輻射而發光時，電子束在所述螢光點圖形上的著屏誤差小於或等於20μm。
10.彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，用多個彼此相鄰設置的扁平平面或曲面之間設置標高差小於或等於5μm的標高不同平面，而構成的校正透鏡搖擺時，穿過所述校正透鏡的曝光徑掩模的輻射到陰極射線管面板內表面上形成的光敏膜上；並用曝光後的光敏膜作掩模，在面板表面上形成螢光點圖形；由此用1,000,000片以上的所述螢光點圖形元件構成螢光屏，所述螢光點圖形上的著屏誤差小於或等於20μm。
11.按權利要求10的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡具有構成所述標高不同平面的平面，所述標高不同平面按平行於所述曝光到所述校正透鏡光入射方向構成；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
12.按權利要求10的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡具有構成所述標高不同平面的平面，所述標高不同平面與所述校正透鏡的基準平面的斜角小於或等於120度；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
13.按權利要求10的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡有降低所述曝光的透光性的區域，該區域由從此處出射曝光的平面上的均勻寬度構成；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
14.按權利要求10的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡具有構成帶極小凹凸的所述標高不同平面的平面，它與所述校正透鏡的基準平面的斜角小於或等於120度；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
15.按權利要求10的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡用一體型模具構成的光學塑料製成；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
16.彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，搖擺用多個扁平面或多個曲面構成的校正透鏡，在曝光輻射到所述校正透鏡的曝光過程中，所述的多個扁平面或曲面使整個曝光表面上產生均勻的寬度和柵格亮/暗行的對比度，或均勻的暗行圖形寬度和對比度，所述穿過所述校正透鏡的曝光輻射到彩色陰極射線管面板的整個表面上設置的掩模上，用穿過掩模的曝光對所述面板上的光敏膜曝光；所述面板上形成螢光點圖形；由此，用1,000,000片以上的所述螢光點圖形構成的元件構成螢光屏。在所述螢光點圖形上的著屏誤差小於或等於20μm。
17.按權利要求16的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡具有構成所述標高不同平面的平面，所述標高不同平面按本行於所述曝光到所述校正透鏡的光入射方向的方式構成；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
18.按權利要求16的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡具有構成所述標高不同平面的平面，所述標高不同平面與所述校正透視鏡的基準平面的斜角小於或等於120度；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
19.按權利要求16的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡具有降低所述曝光的透光性的區域，它由曝光在此處出射的平面上的均勻寬度構成；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
20.按權利要求16的彩色陰極射線管的製造方法，其特徵是，所述校正透鏡具有構成帶極小凹凸的所述標高不同平面的平面，所述標高不同平面與所述校正透鏡的基準平面的夾角小於或等於120度；用所述校正透鏡對所述光敏膜曝光。
全文摘要
一種彩色陰極射線管及其製造方法。穿過校正透鏡經蔭罩輻射到彩色陰極射線管面板內表面上的光敏膜上的曝光對光敏膜曝光,用經曝光的光敏膜作掩模,在面板表面上形成螢光點圖形。有不連續平面的校正透鏡具有多個光入射平面,和將入射到入射平面的光出射到光出射平面,並在彼此相鄰設置的光入射平面之間設置有多個標高不同平面。按矩陣形設置多個光入射平面,曝光光源發射的光進入,使進入的光沿規定方向折射。之後,按進入與標高不同平面相鄰的兩組入射面平的兩組光從與其接近的光出射平面連續射出的形式設置多個標高不同平面。
文檔編號G02B3/08GK1182953SQ9711480
公開日1998年5月27日 申請日期1997年5月29日 優先權日1996年5月29日
發明者王英夫, 西口隆 申請人:株式會社日立製作所