一種微波薄膜衰減器的製造方法

2023-10-18 09:48:09 1

一種微波薄膜衰減器的製造方法
【專利摘要】本發明屬於衰減器【技術領域】，涉及一種微波薄膜衰減器的製造方法，包括：採用雷射切割的方法加工介質基片，預先在接地電極處形成通孔；採用真空濺射的方法實現介質基片表面與通孔內的金屬化，形成金屬化膜層結構；採用光刻工藝形成衰減器圖形；電鍍加厚導體電路；通過加熱的辦法對整片衰減器電路進行熱氧化調阻；使用探針臺對衰減器進行指標測試；使用劃切的方法分割成獨立的衰減器圖形，在衰減器的四個角上體現側面金屬化效果。本發明能夠實現精細的電路圖形，利於小型化，滿足了高頻應用的場合，且避免了單片手工包邊接地，提高了生產效率，利於量產。
【專利說明】 一種微波薄膜衰減器的製造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種微波衰減器，尤其涉及一種微波薄膜衰減器的製造方法，屬於衰減器【技術領域】。
【背景技術】
[0002]微波頻段使用的衰減器主要採用兩種傳輸線結構形式:一種採用懸帶線結構形式，主要用於程控步進衰減器、同軸固定衰減器等微波部件內；另一種採用微帶線結構，雖然可以單獨封裝成為微波模塊，但更多的應用於微波有源部件中，主要用來實現部件內部電路間的匹配、改善埠駐波比、提高部件承受功率、調節放大器增益等功能。微帶線結構的衰減器尺寸微小，要求駐波比小、衰減頻響好且相互之間指標一致性高，要求接地電極接地良好，寄生參數小，加工難度較大。
[0003]現有技術中的產品主要存在兩方面的缺陷:1，採用厚膜衰減器。由於厚膜衰減器印製工藝的限制，難以實現小型化，同時其製作不夠精細，導致高頻(> 18GHz)特性差，無法滿足微波有源部件中對衰減器元件的技術需求。例如蘇州市新誠氏電子有限公司在2012申請公開的一系列衰減片專利中，以國家專利
【發明者】馬子騰, 張猛, 劉金現 申請人:中國電子科技集團公司第四十一研究所