一種凹印設備雙張力控制結構的製作方法
2023-10-06 15:46:34 1
一種凹印設備雙張力控制結構的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種凹印設備雙張力控制結構，包括第一導向輥、第二導向輥、第三導向輥、氣缸、擺臂、第一擺輥、第二擺輥，所述氣缸的伸縮杆與擺臂上部活動聯接，擺臂頂端與凹印設備固定連接，擺臂中部設有限位支架，擺臂上部自上而下分別設置第一擺輥以及第二擺輥，位於擺臂的一側且與第一擺輥和第二擺輥的走料相適配的位置自上而下分別設置有第一導向輥、第二導向輥和第三導向輥。所述的擺臂擺動幅度a不大於30度。本實用新型在實際印刷生產中，就可以根據薄膜材料的張力要求，靈活改變料膜走料方式即可實現雙張力控制，從而能夠滿足多種材料的張力控制要求。
【專利說明】一種凹印設備雙張力控制結構
【技術領域】
[0001]本實用新型公開了一種凹印設備雙張力控制結構。
【背景技術】
[0002]目前，凹印設備張力控制系統的標準張力範圍通常會存在一定的局限性，一般可以滿足BOPP、PET等薄膜材料的張力要求，但對於PE等易拉伸變形的薄膜材料，在印刷生產中就有可能無法穩定控制張力，從而造成廢品率的增加，影響企業效益。對此，本 申請人:對現有凹印設備的張力控制系統進行了一些改造，以使其能夠滿足多種材料的張力控制要求。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的在於克服現有技術的不足，提供了一種能夠滿足多種材料的張力控制要求的凹印設備雙張力控制結構。
[0004]本實用新型解決問題採用的技術方案是:
[0005]—種凹印設備雙張力控制結構，包括第一導向棍、第二導向棍、第三導向棍、氣缸、擺臂、第一擺輥、第二擺輥，所述氣缸的伸縮杆與擺臂上部活動聯接，擺臂頂端與凹印設備固定連接，擺臂中部設有限位支架，擺臂上部自上而下分別設置第一擺輥以及第二擺輥，位於擺臂的一側且與第一擺輥和第二擺輥的走料相適配的位置自上而下分別設置有第一導向棍、第二導向棍和第三導向棍。
[0006]作為上述方案的進一步設置:所述的擺臂擺動幅度a不大於30度。
[0007]作為上述方案的進一步設置:所述的第一導向輥、第二導向輥和第三導向輥三者位於同一側。
[0008]本實用新型的有益效果是:本實用新型可根據料膜不同的走料方式來實現兩種不同的張力模式，一種張力模式標準張力範圍，另一種張力模式是低張力範圍，在實際印刷生產中，就可以根據薄膜材料的張力要求，靈活改變料膜走料方式即可實現雙張力控制，從而能夠滿足多種材料的張力控制要求。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型結構示意圖。
【具體實施方式】
[0010]以下結合附圖和具體實施例對本實用新型做進一步說明。
[0011]如圖1所示，本實用新型提供了一種凹印設備雙張力控制結構，包括第一導向輥
1、第二導向棍2、第三導向棍3、氣缸4、擺臂5、第一擺棍6、第二擺棍7,所述氣缸4的伸縮杆與擺臂5上部活動聯接，擺臂5頂端與凹印設備固定連接，擺臂5中部設有限位支架8，擺臂5上部自上而下分別設置第一擺輥6以及第二擺輥7，位於擺臂5的一側且與第一擺輥6和第二擺輥7的走料相適配的位置自上而下分別設置有第一導向輥1、第二導向輥2和第三導向棍3。
[0012]所述的擺臂5擺動幅度a不大於30度。
[0013]所述的第一導向棍1、第二導向棍2和第三導向棍3三者位於同一側。
[0014]本實用新型可根據料膜不同的走料方式來實現兩種不同的張力模式，一種張力模式是標準張力範圍，另一種張力模式是低張力範圍。在實際印刷生產中，就可以根據薄膜材料的張力要求，靈活改變料膜走料方式即可實現雙張力控制。從而能夠滿足多種材料的張力控制要求。
[0015]擺輥6所使用單圈電位器的有效檢測範圍只有330°，因此，一般將單圈電位器的轉動範圍控制在300°以內，擺輥6和單圈電位器之間的傳動比最好為1:10 ;在安裝擺臂6過程中，最好將其擺動幅度控制在30°以內，並根據這個要求來安裝好擺輥6的限位支架8位置。
[0016]以上所述僅是本實用新型的優選實施方式，應當指出，對於本【技術領域】的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以對本實用新型進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本實用新型權利要求的保護範圍內。
【權利要求】
1.一種凹印設備雙張力控制結構，其特徵在於:包括第一導向輥(I)、第二導向輥(2)、第三導向棍(3)、氣缸(4)、擺臂(5)、第一擺棍(6)、第二擺棍(7),所述氣缸(4)的伸縮杆與擺臂(5)上部活動聯接，擺臂(5)頂端與凹印設備固定連接，擺臂(5)中部設有限位支架(8)，擺臂(5)上部自上而下分別設置第一擺輥(6)以及第二擺輥(7)，位於擺臂(5)的一側且與第一擺輥(6)和第二擺輥(7)的走料相適配的位置自上而下分別設置有第一導向輥(I)、第二導向棍⑵和第三導向棍(3)。
2.根據權利要求1所述的一種凹印設備雙張力控制結構，其特徵在於:所述的擺臂(5)擺動幅度a不大於30度。
3.根據權利要求1所述的一種凹印設備雙張力控制結構，其特徵在於:所述的第一導向棍(I)、第二導向棍⑵和第三導向棍⑶三者位於同一側。
【文檔編號】B65H23/26GK203976045SQ201420301704
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年6月7日 優先權日:2014年6月7日
【發明者】沈勇峰 申請人:浙江恆力裝飾材料有限公司