具有近紅外屏蔽功能和透明性的電磁波屏蔽膜、包括該電磁波屏蔽膜的濾光片和等離子...的製作方法

2023-06-14 15:26:16

專利名稱：具有近紅外屏蔽功能和透明性的電磁波屏蔽膜、包括該電磁波屏蔽膜的濾光片和等離子 ...的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種電磁波屏蔽膜以及包括該電磁波屏蔽膜的濾光片和等離 子顯示面板，所述電磁波屏蔽膜包括粘合劑透明層，該粘合劑透明層在電磁 波屏蔽層上形成以填充電磁波屏蔽層的導電圖案的溝槽並且包含近紅外吸收 染料。
背景技術：
通常，顯示器是TV和計算機監視器的常用名稱，並且包括用於形成圖 像的具有顯示面板的顯示組件以及支撐顯示組件的外殼。
顯示組件包括用於形成圖像的CRT(陰極射線管)，顯示面板例如LCD(液 晶顯示器)和等離子顯示面板(等離子顯示面板，在下文中稱作"PDP")，以 及用於驅動顯示面板的驅動電路基片。PDP可進一步包括設在其前面的濾光 片。
濾光片設在PDP的前面，並且包括減反射膜，其防止從外部入射的光線 被反射；近紅外吸收膜，其吸收由顯示面板產生的近紅外線以防止電子設備 如遠距離控制器的故障；色彩補償膜，其包含色彩補償染料以改善色純度； 以及電磁波屏蔽膜，其屏蔽在顯示器件運行過程中由顯示面板產生的電磁波。
在圖1中所示的電磁波屏蔽膜30包括透明基板31和電磁波屏蔽層，該 電磁波屏蔽層形成在透明基板31上並且包括具有溝槽和凸起的導電圖案32。
如果將另外的功能膜，例如減反射膜、近紅外吸收膜和色彩補償膜中的 任一種粘附到在其上部具有導電圖案的電磁波屏蔽膜上，由於導電圖案，電 磁波屏蔽膜和另外的功能膜彼此粘附不充分。
另外，因為由於電磁波屏蔽膜的溝槽而形成了薄空氣層並且由於該薄空 氣層使得光線被散射，所以存在的問題是，很難獲得清晰的圖像。
為了避免上述問題，需要用粘合劑將兩層膜彼此粘附在一起並且隨後進 行透明化處理以除去薄空氣層。術語"透明化處理"是指一種避免由薄空氣層引起的光的散射造成不清
晰和起霜(frosty)的圖像的方法，這是通過向薄空氣層中充入透明樹脂以使薄 空氣層透明而實現的，從而提供清晰的圖像。
此外，已知的濾光片的問題在於，由於功能膜是分別製備的並且隨後通 過採用粘合劑成層而形成整體，所以很難進行該處理，製備成本增加，並且 很難製備薄的PDP。

發明內容
技術問題
本發明的目的是提供一種具有近紅外吸收功能和透明性的電磁波屏蔽 膜，以及包括該電磁波屏蔽膜的濾光片和PDP。 技術方案
本發明提供了一種電磁波屏蔽膜，該電磁波屏蔽膜包括透明基板；電磁 波屏蔽層，其包括在透明基板的至少一部分上形成的導電圖案；以及粘合劑 透明層，其在電磁波屏蔽層上形成以填充導電圖案的溝槽並且包含近紅外吸 收染料。
本發明提供了包括所述電磁波屏蔽膜的濾光片。
本發明提供了包括所述電磁波屏蔽膜的等離子顯示面板。
有益效果
根據本發明，包含近紅外吸收染料的粘合劑透明層在其上面形成有導電 圖案的電磁波屏蔽膜的上表面形成，以容易地進行透明化處理。
另外，由於不必形成具有近紅外吸收功能的單獨的層，所以能夠製備薄 的濾光片。
此外，由於製備工藝因顯著簡化的結構而被簡化，所以能夠提高生產率 並降低生產成本。


圖1為已知電磁波屏蔽膜的剖視圖2、 3和4為根據本發明的實施方式的電磁波屏蔽膜的剖視圖； 圖5和6為根據本發明的實施方式的電磁波屏蔽膜的剖視圖； 圖7、 8和9為根據本發明的實施方式的濾光片的剖視圖；圖10、 11和12顯示的是將根據本發明實施方式的濾光片應用於PDP的 視圖13、 14、 15、 16和17為在將濾光器置於PDP之前的濾光器的剖視圖， 其中，透明玻璃在根據本發明實施方式的濾光片上成層；
圖18和20為示例說明所測量的根據本發明實施方式的電磁波屏蔽膜耐 久性的曲線圖，該電磁波屏蔽膜包括含有近紅外吸收染料的粘合劑透明層； 以及
圖19和21為示例說明所測量的根據本發明實施方式的電磁波屏蔽膜耐 久性的曲線圖，該電磁波屏蔽膜包括含有近紅外吸收染料和色彩補償染料的 粘合劑透明層。
具體實施例方式
根據本發明的電磁波屏蔽膜包括透明基板；電磁波屏蔽層，其包括在透 明基板的至少一部分上形成的導電圖案；以及粘合劑透明層，其在電磁波屏 蔽層上形成以填充導電圖案的溝槽並且包含近紅外吸收染料。
透明基板可由任何材料製成，只要該材料具有優異的透光率即可。
例如，透明基板可由選自由聚壓克力(polyacryls)、聚氨酯、聚酯、聚環 氧化物(polyepoxys)、聚烯烴、聚碳酸酯、纖維素和玻璃組成的組中的一種或 多種製成。優選透明基板由透明PET(聚對苯二甲酸乙二酯)製成。
導電圖案可具有包括凸起和溝槽的網狀形狀。
導電圖案可由銅、銀、金、鐵、鎳、鋁或其合金製成。優選導電圖案由 銅或銀製成。
只要粘合劑可用於形成常規的粘合片或粘合劑膜，就不限制用於形成粘 合劑透明層的粘合劑類型。
用於形成粘合劑透明層的粘合劑的實例可包括壓敏粘合劑。只要粘合劑 不限制光的透過，可使用任何類型的壓敏粘合劑。
粘合劑的實例可包括選自由壓克力(acryls)、聚氨酯橡膠、聚異丁烯、 SBR(丁苯橡膠)、橡膠、聚乙烯醚、環氧化物、三聚氰胺、聚酯、酚、聚矽 氧垸及其共聚物組成的組中的粘合劑。優選使用壓克力粘合劑。
優選壓克力粘合劑的玻璃化轉變溫度(Tg)為0'C或更低。通過共聚合75-99.89重量％的包含含有l-12個碳原子的烷基的(甲基) 丙烯酸酯單體、0.1-20重量X的作為功能性單體的a， P不飽和羧酸單體以及 0.01-5重量％的具有羥基的聚合單體可以獲得壓克力粘合劑。由於對本領域 的技術人員來說，共聚合它們的方法是已知的，所以省略詳細描述及其條件。
更優選的壓克力粘合劑的實例可包括丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸羥乙 酯(HEMA)的共聚物和丙烯酸丁酯/丙烯酸(AA)的共聚物。
如果使用上述的共聚物，則和其它的壓克力粘合劑相比，可確保膜在可 見光範圍和近紅外範圍內具有優異的吸收功能，並且近紅外吸收染料被有效 地穩定。
在製備粘合劑透明層的過程中，可以進一步使用溶劑，並且可以使用常 規有機溶劑作為溶劑。
優選地，可以使用甲乙酮(MEK)、四氫呋喃(THF)、乙酸乙酯或甲苯。另 外，不限制溶劑的用量。
粘合劑透明層可進一步包含交聯劑和偶聯劑。
交聯劑的實例可包括多官能化合物，例如異氰酸酯交聯劑、環氧交聯劑、 氮丙啶交聯劑和金屬螯合物交聯劑。
更優選地，使用異氰酸酯交聯劑，並且異氰酸酯交聯劑的實例包括，但 不限於甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯和1,6-己 二異氰酸酯。
基於100重量份的粘合劑組分，交聯劑的用量可在0.01-2重量份的範圍內。
優選偶聯劑為矽垸偶聯劑。
特別地，當矽垸偶聯劑在高的溫和溼度條件下放置長時間時，矽烷偶聯
劑有助於改進粘合可靠性
矽垸偶聯劑的實例可包括乙烯基矽垸、環氧矽烷或甲基丙烯醯基矽垸。 具體地，矽垸偶聯劑的實例可包括乙烯基三甲氧基矽垸、乙烯基三乙氧
基矽烷、Y-環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽
烷及其混合物。
基於100重量份的粘合劑組分，矽烷偶聯劑的用量可在0.01-2重量份的 範圍內。
粘合劑透明層可進一步包括添加劑。添加劑的實例可包括選自抗氧化劑，例如酚和磷(phosphori);阻燃劑， 例如滷素和磷酸；紫外吸收劑，例如矽酸、苯甲酮、苯並三唑和氰基丙烯酸 脂；以及例如烯化氧的抗靜電劑中的一種或多種。
基於100重量份的粘合劑組分，添加劑的用量可在0.01-10重量份的範圍內。
粘合劑透明層的近紅外吸收染料的實例可包括選自由金屬配合物染料、 酞菁染料、萘酞菁染料(naphthalocyanine dye)、分子間金屬配合物型花青染料 和二亞銨染料(diimmoniumdye)組成的組中的一種或多種。
在它們中間，優選使用金屬配合物染料和酞菁染料，因為其具有在粘合 劑中的優異耐久性和所需要的近紅外吸收功能。
金屬配合物染料可為由如下通式1或2表示的化合物
formula see original document page 14
其中，R,至R4彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；硝基； 氰基；羥基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基；用滷素原 子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2芳基；用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6垸氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.2芳氧 基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用滷素原子、
氰基或硝基取代或未取代的<:6.2。芳基氨基；用滷素原子、氰基或硝基取代或
未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.2o
芳基硫基，
Yi至Y4各自獨立地為S或0，以及
M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子，
formula see original document page 14
其中，R5和R6彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；硝基; 氰基；羥基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.20芳基；用滷素原子、氰基或硝基取代或
未取代的Cw6垸氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-20芳氧 基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用滷素原子、 氰基或硝基取代或未取代的C6-20芳基氨基；用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.20 芳基硫基，
^至Y4各自獨立地為S或0，以及 M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子。 金屬配合物染料具有所期望的在粘合劑中的耐久性和最大化的在近紅外 範圍內的吸收能力，並且在可見光範圍內稍微吸收光。 酞菁染料可為由如下通式3表示的化合物formula see original document page 15其中，R7至Ru)彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羥基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的CM6
垸基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的(:6.2。芳基；用滷素原子、氰
基或硝基取代或未取代的Cw6垸氧基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6-2o芳氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基; 用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2芳基氨基；用滷素原子、氰基 或硝基取代或未取代的C,—16烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的(36.2芳基硫基，以及
M'選自選自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、釕(Ru)、銣(Rb)、鈀(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti組成的組中的二價金屬原子；選自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl 和Ru-Cl組成的組中的l-取代的三價金屬原子；選自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2組成的組中的2-取代的四價 金屬原子；以及選自由VO、 MnO和TiO組成的組中的氧合金屬原子中。
萘酞菁染料可為由如下通式4表示的化合物
其中，Rh至Rm彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羥基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cl16 烷基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2o芳基；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6^芳氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基； 用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.2芳基氨基；用滷素原子、氰基 或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的(36.2芳基硫基，以及
M'選自選自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、釕(Ru)、銣(Rb)、鈀(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti組成的組中的二價金屬原子；選自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl 和Ru-Cl組成的組中的l-取代的三價金屬原子；選自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2組成的組中的2-取代的四價 金屬原子；以及選自由VO、 MnO和TiO組成的組中的氧合金屬原子中。
分子間金屬配合物型花青染料可為由如下通式5、 6或7表示的化合物[通式5]formula see original document page 17
其中，Ri5和R,6彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直鏈或支鏈CL3o烷基；用滷素原子、氰基或硝基取 代或未取代的CL8烷氧基;或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30
芳基，
&至Xs彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；硝基；羧基；苯氧基羰 基；羧酸酯基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的d.s烷基；用滷素 原子、氰基或硝基取代或未取代的CL8垸氧基；或者用滷素原子、氰基或硝 基取代或未取代的C6-30芳基，以及
M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子， [通式6]formula see original document page 17
其中，R15、 R16、 Xi至Xs和M與通式5中的定義相同， [通式7]formula see original document page 17其中，R15、 R16、 Xi至Xs和M與通式5中的定義相同。 二亞銨染料可為由如下通式8表示的化合物 [通式8]
21
一R22
其中，Rn至R24彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羥基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的 烷基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2芳基；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取
代的0).2芳氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基;
用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的(:6.2。芳基氨基；用滷素原子、氰基
或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或
未取代的(:6.2芳基硫基，
R25至R28各自獨立地為氫原子；卣素原子；氰基；硝基；羧基；用滷素 原子、氰基或硝基取代或未取代的烷基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代 或未取代的垸氧基，以及
Z為有機酸單價陰離子、有機酸二價陰離子或無機酸單價陰離子。 有機酸單價陰離子的實例可包括有機羧酸離子、有機磺酸離子和有機硼 酸離子。
有機羧酸離子的實例可包括乙酸根離子、乳酸根離子、三氟乙酸根離子、 丙酸根離子、苯甲酸根離子、草酸根離子、琥珀酸根離子和硬脂酸根離子。
有機磺酸離子的實例可包括甲磺酸根離子、甲苯磺酸根離子、萘磺酸根 離子、氯代苯磺酸根離子、硝基苯磺酸根離子、十二烷基苯磺酸根離子、苯 磺酸根離子、乙磺酸根離子和三氟代甲磺酸根離子。
有機硼酸離子的實例可包括四苯硼酸根離子和丁基三苯基硼酸根離子。有機酸二價陰離子的實例可包括萘-l,5-二磺酸、萘-l,6-二磺酸和萘二磺
酸衍生物。
無機酸單價陰離子的實例可包括滷化物離子。
滷化物離子的實例可包括氟離子、氯離子、溴離子、碘離子、硫氰酸根 離子、六氟銻酸根離子、高氯酸根離子、高碘酸根離子、硝酸根離子、四氟 硼酸根離子、六氟磷酸根離子、鉬酸根離子、鎢酸根離子、鈦酸根離子、釩 酸根離子、磷酸根離子和硼酸根離子。
基於100重量份的粘合劑，近紅外吸收染料的添加量可為0.01-10重量份。 粘合劑透明層可進一步包含氖削減染料(neon-cut dye)作為色彩補償染料。
色彩補償染料的實例可包括選自由分子中含有金屬配合物的卟啉染料和 分子間金屬配合物型花青染料組成的組中的一種或多種。
分子中含有金屬配合物的卟啉色彩補償染料可為由如下通式9表示的化 合物
其中，R29至R36彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；用滷 素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基；用滷素原子、氰基或硝基取 代或未取代的Cw6垸氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代並且用氟 取代的Cw6烷氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cm。芳基； 用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C2.2。芳氧基；或者用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代並且具有一個或多個氮原子的五元環，以及
M"選自選自由氫原子、氧原子、滷素原子、Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、釕(Ru)、 銣(Rb)、鈀(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti組成的組中的二價金屬原子；選自 由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl和Ru-Cl組成的組中的1-取代的三價金屬原子；選自由SiCl2、GaCl2、TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、Ge(OH)2、Mn(OH)2和Sn(OH)2 組成的組中的2-取代的四價金屬原子；以及選自由VO、 MnO和TiO組成的
組中的氧合金屬原子中。
分子間金屬配合物型花青色彩補償染料可為由通式10或11表示的化合
物
其中，R37和R38彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直鏈或支鏈C,^烷基；用滷素原子、氰基或硝基取 代或未取代的d-8垸氧基;或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6_30 芳基，
X6至Xh)彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素基團；硝基；羧基; 苯氧基羰基；羧酸酯基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C^烷基;
用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cj.8烷氧基；或者Q-30芳基，以及
M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子， [通式11]
其中，Rw和R4(,彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直鏈或支鏈Ci.3o垸基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的CL8烷氧基;或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，以及
M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子。
基於100重量份的粘合劑，色彩補償染料的添加量可為0.005-10重量份。
粘合劑透明層的粘合強度在180。的剝離角和300mm/min的剝離速度下 為2N/25mm或更高，並且優選在180。的剝離角和300mm/min的剝離速度下 為4N/25mm或更高。
如果粘合強度在180。的剝離角和300mm/min的剝離速度下小於 2N/25mm，則可能產生氣泡或者發生層間的剝離，從而降低耐久性。
如上所述，根據本發明，關於具有透明基板和形成在透明基板上的導電 圖案的電磁波屏蔽膜，將含有近紅外吸收染料的粘合劑塗敷在其上面形成有 導電圖案的電磁波屏蔽層的上表面，從而通過填充導電圖案的溝槽而使電磁 波屏蔽層的上表面平坦。接著，進行透明化處理以在電磁波屏蔽層的上表面 上形成粘合劑透明層。
當形成粘合劑透明層時，透明樹脂填充溝槽，結果溝槽的內部變得透明。 這樣，能夠避免產生不清晰和輕微起霜的圖像(由於槽內存在的空氣造成的光 的散射而引起的)。因此，能夠確保得到清晰的圖像。
在塗敷含有近紅外吸收染料的粘合劑之後，可向其施加預定的壓力以進 行透明化處理。壓力可由相關領域的技術人員根據粘合劑的類型和用量以及 其它工藝條件來確定。
製備根據本發明的具有近紅外吸收功能的粘合劑透明層的方法並不限於此。
在製備好根據本發明的含有近紅外吸收染料的塗漬溶液之後，用不同的 方法將塗漬溶液塗敷到平坦基板的至少一面上，然後乾燥以形成具有近紅外 吸收功能的粘合劑層。暴露的表面可用剝離片覆蓋。或者，可將溶液塗敷到 剝離片的剝離表面上，然後乾燥以形成具有近紅外吸收功能的粘合劑層。
具體地，將添加的染料和粘合劑彼此混合，以預定的用量將交聯劑和偶 聯劑加入其中以製備塗漬溶液，可將塗漬溶液塗敷到剝離膜和透明基板上並 固化以形成粘合劑層。形成的塗層的厚度大於5 nm並且優選為10 nm或更大。塗敷方法的實 例包括噴塗法、輥塗法、棒塗法、旋塗法、凹版印刷塗敷法(gmvure coating method)禾卩舌lj塗法(blade coating method)。
可將製備好的具有近紅外吸收功能的粘合劑透明層附到具有導電圖案的 電磁波屏蔽層上以製備所期望的根據本發明的電磁波屏蔽膜。
在下文中，參照附圖將詳細描述本發明。但是，本發明可以多種不同形 式體現並且不應被限制於此。
如圖2所示，粘合劑層20填充在透明基板31上形成的導電圖案32的溝 槽中，並且進行透明化處理，以使粘合劑層具有與導電圖案32的凸起的上表 面相同的高度，從而提供給電磁波屏蔽膜透明性。
如圖3所示，在根據本發明的透明化處理中，將含有近紅外吸收染料的 粘合劑塗敷到電磁波屏蔽膜的整個上表面上。
關於這一點，含有近紅外吸收染料的粘合劑填充導電圖案32的溝槽，以 使粘合劑層具有與導電圖案32的凸起的上表面相同的高度。
因此，如圖3所示，粘合劑透明層20在包括透明基板31和導電圖案32 的電磁波屏蔽層上形成。
另外，在根據本發明的透明化處理中，如圖4所示，將含有近紅外吸收 染料和色彩補償染料，特別是氖削減染料的粘合劑塗敷到電磁波屏蔽膜的整 個上表面上。
關於這一點，含有近紅外吸收染料和色彩補償染料的粘合劑填充導電圖 案32的溝槽，以使粘合劑層具有與導電圖案32的凸起的上表面相同的高度。
因此，如圖4所示，由含有近紅外吸收染料和色彩補償染料的粘合劑制 成的粘合劑透明層20在包括透明基板31和導電圖案32的電磁波屏蔽層上形 成。
如果形成粘合劑透明層20以使粘合劑透明層20具有與電磁波屏蔽層的 凸起的上表面相同的高度，則可以無框架地蝕刻電磁波屏蔽層的整個表面以 僅形成導電圖案32。或者，導電圖案32和框架均形成，那麼在這種情況下， 在粘合劑透明層上可進一步提供接地單元(earthunit)。
通過將導電膠帶附在粘合劑透明層20上表面的周圍，或者通過將導電漿 料塗敷在粘合劑透明層20上表面的周圍，可以形成接地單元。導電膠帶可為其上應用了金屬，例如鎳、銅、鋁和金的織物，導電漿料 可通過將銀粉或銅粉分散到聚合物粘合劑和溶劑中而獲得。
如果形成粘合劑透明層20以使粘合劑透明層20具有與導電圖案32的凸 起的上表面相同的高度，則優選粘合劑透明層20在導電圖案32的凸起的上 表面上形成的厚度在5至30 ,的範圍內，以使電流在接地(earth)和電磁波 屏蔽層的周圍之間理想地流動。
為了改進電流的流動，可以向粘合劑透明層20添加導電顆粒。 導電顆粒的實例可包括金屬粉例如銀或銅、炭黑和碳納米管(CNT)。 如圖5和圖6所示，在使用上述方法製備的電磁波屏蔽膜的粘合劑透明 層20上可設有具有其它功能的剝離膜、透明膜或者層31'。
另外，可將具有其它功能的層或者粘合劑層20'添加到電磁波屏蔽膜透明 基板31的下表面上。在這種情況下，在透明基板31的下表面上形成的粘合 劑層20'上可設有具有其它功能的剝離膜、透明膜或者層。
如果圖5的粘合劑透明層20是由吸收近紅外線的粘合劑製成的層，則添 加的粘合劑層20'可為由含有色彩補償染料，特別是氖削減染料的粘合劑製成 的層。
如果圖6的粘合劑透明層20是由含有近紅外吸收染料和色彩補償染料的 粘合劑製成的層，則粘合劑層20'可為由常規粘合劑製成的層。
同時，本發明提供了包括上述電磁波屏蔽膜的濾光片。
本發明的濾光片可進一歩包括在上述電磁波屏蔽膜的上表面和下表面中 的至少一個表面上形成的另外的功能膜。
功能膜可為圖7的減反射膜40、用於改進電磁波屏蔽膜的色彩補償功能 的色彩補償膜、振動減緩膜(shock relaxation film)或對比度改進膜。
功能膜可設在根據本發明的電磁波屏蔽膜的粘合劑透明層20的上表面 或者在透明基板31的下表面上形成的粘合劑層20'的下表面上。
濾光片的實例包括圖4的濾光片。濾光片可進一步包括在電磁波屏蔽膜 的上表面成層的減反射膜40和在電磁波屏蔽膜的下表面上成層的包含色彩 補償染料的粘合劑層20'，所述電磁波屏蔽膜包括具有透明性和近紅外吸收功 能的粘合劑透明層20。另外，圖8的濾光片可進一步包括在電磁波屏蔽膜的上表面成層的減反
射膜40和在電磁波屏蔽膜的下表面上成層的粘合劑層20'，所述電磁波屏蔽 膜包括具有透明性、近紅外吸收功能和色彩補償功能的粘合劑透明層20。
此外，圖9的濾光片可包括具有導電圖案32的電磁波屏蔽層和具有透明 性、近紅外吸收功能和色彩補償功能的粘合劑透明層20，所述導電圖案32 在設置在減反射膜40下表面上的透明基板31的下表面上。
同時，本發明提供了包括具有電磁波屏蔽膜的濾光片的PDP。
例如，如圖10和圖11所示，PDP10可被附在圖7和圖8中所示的濾光 片的粘合劑層20'的下表面上。
例如，如圖12所示，PDP10可被附在圖9中所示的濾光片的粘合劑透 明層20上。
可選擇地，在將透明玻璃基板附在根據本發明的濾光片上之後，可將形 成的濾光器附在PDP上，以使透明玻璃基板置於濾光片和PDP之間。
也就是說，如圖13和圖14所示，透明玻璃基板50可被附在圖7和圖8 所示的粘合劑層20'的下表面上，並隨後將其附在PDP上。
另外，如圖15所示，透明玻璃基板50可被附在圖9所示的濾光片的粘 合劑透明層20的下表面上，並隨後將其附在PDP上。
此外，如圖16和圖17所示，如果必要，在透明玻璃基板50的上表面或 下表面上可成層單獨的功能膜。
實施例
根據下面的實施例可以獲得對本發明更好的理解，這些實施例是用於示 例的，但不應被理解為限制本發明。
通過採用下述方法製備根據本發明的電磁波屏蔽膜，該電磁波屏蔽膜包 括具有近紅外吸收功能的粘合劑透明層。吸收近紅外線的粘合劑透明層的物 理性質的測試條件如下。
膜的製備
1.塗漬溶液的製備在實施例中，通過採用丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸
羥乙酯(HEMA)的共聚物或丙烯酸丁酯/丙烯酸(AA)的共聚物作為粘合劑樹脂 來彼此混合近紅外吸收染料或近紅外吸收染料和色彩補償染料或氖削減染 料，以便製備用於製造吸收近紅外線的粘合劑膜的塗漬溶液。2. 塗敷將塗漬溶液塗敷到剝離基板上至25pm的厚度並在12(rC下幹 燥3分鐘以層壓剝離基板和塗層。
3. 老化常溫下進行老化7天。 耐久性的測試條件
在將製備好的粘合劑膜應用到電磁波屏蔽膜上以進行透明化處理之後， 一高溫條件膜在80'C下放置500小時之前和之後，根據波長比較各自
的透光度。
一高的溫度和溼度條件膜在65"C的溫度和96%的溼度(朋)下放置500 小時之前和之後，根據波長比較各自的透光度。 實施例1
將69 g的含有溶於乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸羥乙酯 (HEMA)的共聚物溶液、0.06 g基於金屬配合物的V-63(Epolin， INC)、 0.14 g 的基於酞菁的906B(日本催化劑)、0.037 g異氰酸酯交聯劑和0.048 g矽垸偶 聯劑加入到31 g甲乙酮(MEK)中，隨後彼此混合以製備塗漬溶液。
將塗漬溶液塗敷到剝離基板膜上至25 )im的厚度，並且用剝離基板的另 一面層壓剝離基板以製備吸收近紅外線的粘合劑膜。
將製備好的膜應用在電磁波屏蔽膜上以進行透明化處理，並且在高溫(80 。C)和高的溫度和溼度(65T:，相對溼度96%)的條件下貯存500小時，然後 測量透光度。結果在圖18中得以描述。在根據本發明的包括近紅外吸收粘合 劑透明層的電磁波屏蔽膜的耐久性測試之前和之後進行評價。在高溫下進行 貯存之後在可見光範圍內的透光度變化為0.6%，而近紅外透光度的變化在 850 nm處為1.6%，在950 nm處為1.3%。在高溫和高溼度下進行貯存之後 在可見光範圍內的透光度變化為0.6。％ ，而近紅外透光度的變化在850 nm處 為0.5%，在950nm處為1.1%。
實施例2
將69 g的含有溶於乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸羥乙酯 (HEMA)的共聚物溶液、0.06 g基於金屬配合物的V-63(Epolin, INC)、 0.14 g 的基於酞菁的906B(日本催化劑)、0.014 g卟啉PD-319(三井公司)、0.037 g 異氰酸酯交聯劑和0.048 g矽垸偶聯劑加入到31 g甲乙酮(MEK)中，隨後彼
此混合以製備塗漬溶液。將塗漬溶液塗敷到剝離基板膜上至25 pm的厚度，並且用剝離基板的另 一面層壓剝離基板以製備吸收近紅外線的粘合劑膜。
將製備的膜應用於電磁波屏蔽膜上以進行透明化處理，並且在高溫(8(TC) 和高的溫度和溼度(65。C，相對溼度96%)的條件下貯存500小時，然後測 量透光度。結果在圖19中得以描述。在根據本發明的包括近紅外吸收和色彩 補償粘合劑透明層的電磁波屏蔽膜的耐久性測試之前和之後進行評價。在高 溫下進行貯存之後在可見光範圍內的透光度變化為0.5% ，而近紅外透光度的 變化在850nm處為1.7%，在950 nm處為0.4% 。在高溫和高溼度下進行貯 存之後在可見光範圍內的透光度變化為0.5%，而近紅外透光度的變化在850 nm處為0.9X，在950 nm處為0.4% 。
實施例3
將69 g的含有溶於乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/丙烯酸(AA)的共聚物溶 液、0.06 g基於金屬配合物的EP4445 (Epolin， INC)、 0.14 g的基於酞菁的 910B(日本催化齊lJ)、0.137 g異氰酸酯交聯劑和0.021 g矽烷偶聯劑加入到31 g 甲乙酮(MEK)中，隨後彼此混合以製備塗漬溶液。
將塗漬溶液塗敷到剝離基板膜上至25 pm的厚度，並且用剝離基板的另 一面層壓剝離基板以製備吸收近紅外線的粘合劑膜。
將製備的膜應用於電磁波屏蔽膜上以進行透明化處理，並且在高溫(8(TC) 和高的溫度和溼度(65。C，相對溼度96%)的條件下貯存500小時，然後測 量透光度。結果在圖20中得以描述。在根據本發明的包括近紅外吸收粘合劑 透明層的電磁波屏蔽膜的耐久性測試之前和之後進行評價。在高溫下進行貯 存之後在可見光範圍內的透光度變化為0.5%，而近紅外透光度的變化在850 nm處為0.8X，在950 nm處為0.1 % 。在高溫和高溼度下進行貯存之後在可 見光範圍內的透光度變化為1.3%，而近紅外透光度的變化在850nm處為1.9 %，在950nm處為0.3%。
實施例4
將69 g的含有溶於乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/丙烯酸(AA)的共聚物溶 液、0.06 g基於金屬配合物的EP4445 (Epolin, INC)、 0.14 g的基於酞菁的 910B(日本催化劑)、0.015 g卟啉PD-319(三井公司)、0.137 g異氰酸酯交聯劑 禾口 0.021 g矽烷偶聯劑加入到31 g甲乙酮(MEK)中，隨後彼此混合以製備塗 漬溶液。將塗漬溶液塗敷到剝離基板膜上至25 pm的厚度，並且用剝離基板的另 一面層壓剝離基板以製備吸收近紅外線的粘合劑膜。
將製備的膜應用於電磁波屏蔽膜上以進行透明化處理，並且在高溫(8(TC) 和高的溫度和溼度(65t:，相對溼度96%)的條件下貯存500小時，然後測 量透光度。結果在圖21中得以描述。在根據本發明的包括近紅外吸收粘合劑 透明層的電磁波屏蔽膜的耐久性測試之前和之後進行評價。在高溫下進行貯 存之後在可見光範圍內的透光度變化為1.1%，而近紅外透光度的變化在850 nm處為1.0X，在950nm處為0.3%。在高溫和高溼度下進行貯存之後在可 見光範圍內的透光度變化為1.6%，而近紅外透光度的變化在850nm處為1.6 %，在950畫處為0.6%。
權利要求
1、一種電磁波屏蔽膜，包括透明基板；電磁波屏蔽層，其包括在所述透明基板的至少一部分上形成的導電圖案；以及粘合劑透明層，其在所述電磁波屏蔽層上形成以填充導電圖案的溝槽並且包含近紅外吸收染料。
2、 根據權利要求l所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述導電圖案具有網狀 形狀。
3、 根據權利要求1所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述導電圖案由銅、銀、 金、鐵、鎳、鋁或其合金製成。
4、 根據權利要求1所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述粘合劑透明層包含 選自由壓克力、聚氨酯橡膠、聚異丁烯、SBR(丁苯橡膠)、橡膠、聚乙烯醚、 環氧化物、三聚氰胺、聚酯、酚、聚矽氧烷及其共聚物組成的組中的粘合劑。
5、 根據權利要求l所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述粘合劑透明層進一 步包含選自交聯劑、偶聯劑、抗氧化劑、阻燃劑、紫外吸收劑和抗靜電劑中 的一種或多種。
6、 根據權利要求l所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述近紅外吸收染料為 選自由金屬配合物染料、酞菁染料、萘酞菁染料、分子間金屬配合物型花青 染料和二亞銨染料組成的組中的一種或多種。
7、 根據權利要求6所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述金屬配合物染料為 由通式1或2表示的化合物[通式1]formula see original document page 2其中，Ri至R4彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；硝基； 氰基；羥基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的d—16垸基；用滷素原 子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2o芳基；用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6烷氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的<36.2。芳氧 基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用卣素原子、 氰基或硝基取代或未取代的C6-2。芳基氨基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C, 芳基硫基，Yj至Y4各自獨立地為S或0，以及M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子，[通式2]其中，R5和R6彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；硝基； 氰基；羥基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基；用滷素原 子、氰基或硝基取代或未取代的C6-20芳基；用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6垸氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6々o芳氧 基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用滷素原子、 氰基或硝基取代或未取代的(:6.2芳基氨基；用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6垸基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.2o 芳基硫基，Yi至Y4各自獨立地為S或O，以及 M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子。
8、根據權利要求6所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述酞菁染料為由通式 3表示的化合物 [通式3]其中，R7至Ru)彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羥基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取代的a16，、烷基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的06.2芳基；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6-2o芳氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基;用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的(:6.2芳基氨基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cmo芳基硫基，以及M'選自選自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、釕(Ru)、銣(Rb)、鈀(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti組成的組中的二價金屬原子；選自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl 和Ru-Cl組成的組中的l-取代的三價金屬原子；選自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2組成的組中的2-取代的四價 金屬原子；以及選自由VO、 MnO和TiO組成的組中的氧合金屬原子中。
9、根據權利要求6所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述萘酞菁染料為由通 式4表示的化合物formula see original document page 4其中，Ru至Rm彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羥基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cl16 烷基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.2。芳基；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6垸氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6^芳氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基; 用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的q-2o芳基氨基；用滷素原子、氰基 或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的06.2芳基硫基，以及M'選自選自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、釕(Ru)、銣(Rb)、鈀(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti組成的組中的二價金屬原子；選自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl[通式4]和Ru-Cl組成的組中的l-取代的三價金屬原子；選自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2組成的組中的2-取代的四價 金屬原子；以及選自由VO、 MnO和TiO組成的組中的氧合金屬原子中。
10、根據權利要求6所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述花青染料為由通 式5、 6或7表示的化合物[通式5]formula see original document page 5其中，Ri5和R^彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直鏈或支鏈CL3o垸基；用滷素原子、氰基或硝基取 代或未取代的d.s垸氧基;或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，&至X5彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；硝基；羧基；苯氧基羰 基；羧酸酯基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的d.s烷基；用滷素 原子、氰基或硝基取代或未取代的d-8烷氧基；或者用滷素原子、氰基或硝 基取代或未取代的<:6.3。芳基，以及M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子， [通式6]formula see original document page 5其中，R^至R,6、 Xi至Xs和M與通式5中的定義相同，[通式7]其中，1115至1116、 Xi至Xs和M與通式5中的定義相同。
11、根據權利要求6所述的電磁波屏蔽膜，其中所述二亞銨染料可為由 通式8表示的化合物 [通式8]其中，Rn至R24彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羥基；用囪素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cl16 烷基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2芳基；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2芳氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基; 用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2o芳基氨基；用滷素原子、氰基 或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代或 未取代的(^6.2。芳基硫基，R25至R28各自獨立地為氫原子；滷素原子；氰基；硝基；羧基；用滷素 原子、氰基或硝基取代或未取代的垸基；或者用滷素原子、氰基或硝基取代 或未取代的垸氧基，以及Z為有機酸單價陰離子、有機酸二價陰離子或無機酸單價陰離子。
12、 根據權利要求l所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述粘合劑透明層進一步包括色彩補償染料。
13、 根據權利要求12所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述色彩補償染料為 氖削減染料。
14、 根據權利要求12所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述色彩補償染料為 選自由分子內金屬配合物型卟啉染料和分子間金屬配合物型花青染料組成的 組中的一種或多種。
15、 根據權利要求14所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述分子內金屬配合 物型卟啉染料為由通式9表示的化合物[通式9]其中，R29至R36彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素原子；用滷 素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基；用滷素原子、氰基或硝基取 代或未取代的Cw6垸氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代並且用氟 取代的Cw6垸氧基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C2.2。芳基； 用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C2-2o芳氧基；或者用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代並且具有一個或多個氮原子的五元環，以及M"選自選自由氫原子、氧原子、滷素原子、Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、釕 (Ru)、銣(Rb)、鈀(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti組成的組中的二價金屬原子； 選自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl和Ru-Cl組成的組中的1-取代的三價金 屬原子；選自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2 和Sn(OH)2組成的組中的2-取代的四價金屬原子；以及選自由VO、 MnO和 TiO組成的組中的氧合金屬原子中。
16、根據權利要求14所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述分子間金屬配合 物型花青染料為由通式IO或11表示的化合物[通式10]formula see original document page 8其中，R37和R38彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；用滷素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直鏈或支鏈CL30垸基；用滷素原子、氰基或硝基取 代或未取代的CL8烷氧基;或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，X6至Xk)彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；滷素基團；硝基；羧基; 苯氧基羰基；羧酸酯基；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的d-8烷基; 用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的CL8垸氧基；或者(^6.3芳基，以及M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子，[通式11]formula see original document page 8其中，R39和R4。彼此相同或不同，並獨立地為氫原子；用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的直鏈或支鏈CL30垸基；用滷素原子、氰基或硝基取 代或未取代的C,-8垸氧基;或者用滷素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，以及M為選自由Ni、 Cu、 Pt和Pd組成的組中的金屬原子。
17、根據權利要求l所述的電磁波屏蔽膜，其中，基於所述導電圖案最 上表面，所述粘合劑透明層的厚度在5至30pm的範圍內。
18、 根據權利要求l所述的電磁波屏蔽膜，其中，所述粘合劑透明層的 粘合強度在180。的剝離角和300mm/min的剝離速度下為2N/25mm或更高。
19、 根據權利要求l所述的電磁波屏蔽膜，其進一步包括設在所述透明 基板下表面的粘合劑層。
20、 一種濾光片，其包括根據權利要求1至19中任一項所述的電磁波屏 蔽膜。
21、 根據權利要求20所述濾光片，其進一步包括設在所述電磁波屏蔽膜 的上表面和下表面中的至少一個表面上的功能膜。
22、 根據權利要求21所述濾光片，其中，所述功能膜包括選自減反射膜、 色彩補償膜、振動減緩膜和對比度改進膜中的一種或多種膜。
23、 一種等離子顯示面板，其包括根據權利要求1至19中任一項所述的 電磁波屏蔽膜。
全文摘要
本發明提供了一種電磁波屏蔽膜以及包括該電磁波屏蔽膜的濾光片和等離子顯示面板，所述電磁波屏蔽膜包括透明基板；電磁波屏蔽層，其包括在所述透明基板的至少一部分上形成的導電圖案；以及粘合劑透明層，其在電磁波屏蔽層上形成以填充導電圖案的溝槽並且包含近紅外吸收染料。
文檔編號H05K9/00GK101530018SQ200780039678
公開日2009年9月9日 申請日期2007年10月25日 優先權日2006年10月25日
發明者崔玹碩, 樸相炫, 李修林, 李淵權, 金正鬥 申請人:Lg化學株式會社