一種雷射加熱式電場退火爐的製作方法

2024-03-20 01:31:05 1

專利名稱：一種雷射加熱式電場退火爐的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及退火爐領域，尤其涉及到一種雷射加熱式電場退火爐。
背景技術：
退火是一種將樣品置於高溫一段時間後，再慢慢冷卻的熱處理過程。退火可以改善樣品的組織形貌。在多種物理場的作用下，退火往往能改善材料的性能，如:在電場的作用下退火，能夠改變電介質的介電性能。如何在有限的空間內實現電場下的退火是一個重要的技術問題。

實用新型內容本實用新型提供一種雷射加熱式電場退火爐，能夠在有限的空間裡，集中加熱、施加電場，很好的實現電場作用下的退火。本實用新型所採取的技術方案為，一種雷射加熱式電場退火爐，包括爐罩、樣品臺、右電極、左電極、雷射源，其中，樣品臺採用絕緣材料製成，樣品臺安裝於爐罩內，右電極和左電極固定在樣品臺上構成平行板電容器，雷射源位於爐
罩上方。樣品放於右電極和左電極構成的平行板電容器內，通過外接電源，能夠施加電場，雷射源發射的雷射照射到樣品上，即可實現有有限空間裡的高溫加熱。本實用新型結構簡單，能夠在有限的空間裡，同時施加電場和熱，在電場作用下退火的介電材料領域具有很好的應用價值。

圖1為本實用 新型的結構示意圖。圖中:1爐罩、2樣品臺、3右電極、4左電極、5雷射源、6雷射。
具體實施方式
以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步詳細描述。圖1為本實用新型的結構示意圖，爐罩1、樣品臺2、右電極3、左電極4、雷射源5、雷射6，其中，樣品臺2採用絕緣材料製成，樣品臺2安裝於爐罩I內，右電極3和左電極4固定在樣品臺2上構成平行板電容器,雷射源5位於爐罩I上方。樣品放於右電極3和左電極4構成的平行板電容器內，通過外接電源，能夠施加電場，雷射源5發射的雷射6照射到樣品上，即可實現有有限空間裡的高溫加熱。本實用新型結構簡單，能夠在有限的空間裡，同時施加電場和熱，在電場作用下退火的介電材料領域具有很好的應用價值。
權利要求1.一種雷射加熱式電場退火爐，包括爐罩、樣品臺、右電極、左電極、雷射源，其特徵在於:所述的樣品臺採用絕緣材料製成，樣品臺安裝於爐罩內，右電極和左電極固定在樣品臺上構成平行板電容器，雷射源位於 爐罩上方。
專利摘要本實用新型提供一種雷射加熱式電場退火爐，包括爐罩、樣品臺、右電極、左電極、雷射源，其中，樣品臺採用絕緣材料製成，樣品臺安裝於爐罩內，右電極和左電極固定在樣品臺上構成平行板電容器，雷射源位於爐罩上方。樣品放於右電極和左電極構成的平行板電容器內，通過外接電源，能夠施加電場，雷射源發射的雷射照射到樣品上，即可實現有有限空間裡的高溫加熱。本實用新型結構簡單，能夠在有限的空間裡，同時施加電場和熱，在電場作用下退火的介電材料領域具有很好的應用價值。
文檔編號G01N1/44GK203148759SQ20132008286
公開日2013年8月21日 申請日期2013年2月22日 優先權日2013年2月22日
發明者胡雨航 申請人:胡雨航