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盤驅動裝置的製作方法

2023-07-24 22:58:16 1

專利名稱:盤驅動裝置的製作方法
技術領域:
本發明涉及一種盤驅動裝置,能對盤形記錄媒體進行記錄和重放操作。
對於盤形記錄媒體,已開發出光碟、磁-光碟(MO盤)、相位變化盤(PC盤)等。
然而,各種領域所用的光碟,諸如CD(緻密盤)等其厚度要求為1.2mm,近年來又要求縮小盤的尺寸,稱為HS(超存儲)盤的磁光碟其厚度要求為0.8mm,適用於多媒體的DVD(數字多用途盤/數字視盤)厚度要求為0.6mm。此外,0.1mm或0.01mm的盤形記錄媒體的開發正在進行之中。
然而,如果盤形記錄媒體的厚度做得小於1.2mm,則隨著粘到盤表面上的灰塵或其它類似物的影響的增加,會產生這樣一個問題,即盤驅動裝置難以進行準確的記錄和重放操作。
參照

圖1A和1B以及圖2,下面將解釋用傳統盤驅動裝置進行重放時盤的厚度和粘到盤上的灰塵的影響造成的讀錯誤。
圖1示出了驅動裝置在有一定大小的灰塵粘到盤表面上時獲得的再現RF信號的波形,圖1A示出了當有一定大小灰塵粘到厚度為1.2mm的盤表面時獲得的再現RF信號的波形。在這種情況下,雖然由於粘到盤表面上的灰塵的影響,再現的RF信號的電平有些減弱,但電平下降的程度不足以在盤驅動裝置中產生讀錯誤。
另一方面,圖1B示出了盤驅動裝置在有與圖1A所示相同大小的灰塵粘到厚度為例如0.6mm的盤表面上時獲得的再現RF信號的波形。在這種情況下,由於從盤驅動裝置入射到盤上的光束的橫截面變小,所以,當有如圖1所示相同大小的灰塵等物粘到盤表面時,每個單位面積的比例變大,由於粘到盤表面上的灰塵的影響,盤驅動裝置獲得的再現RF信號的電平在短時間內陡峭地下降,結果,出現盤驅動裝置很可能產生讀錯誤的情形。
圖2示出了盤的厚度與粘到盤上的灰塵大小之間的關係,以及盤驅動裝置的出錯增加量。順便指出,在圖2中,假設盤驅動裝置獲得的再現RF信號的電平下降到沒有灰塵等物被粘時的正常電平的55%或更小時為誤差電平。還有,該誤差電平只不過是一個例子,還假設一個盤驅動裝置系統的誤差電平與另一個的不同。
從圖2中可以看出,即使當粘到盤表面的灰塵的尺寸小,當盤的厚度從1.2mm減小到0.60mm,0.30mm,0.15mm和0.02mm時,更可能產生讀錯誤。
為了防止在盤的厚度減小時,粘到盤表面的灰塵等物的影響使盤驅動裝置獲得的再現RF信號電平出現下降,想到為盤驅動裝置提供自動增益控制(AGC)電路,以把盤驅動裝置獲得的再現RF信號放大到一預定電平。
然而,這也會產生問題,即如果盤驅動裝置設置有AGC電路,把再現RF信號放大到預定電平,則AGC電路同樣也放大了放大器噪聲,和包含在再現RF信號中的噪聲,使載波噪聲(C/N)比變差。
此外,在盤驅動裝置記錄操作期間,也難以校正AGC電路的記錄電平。
因此,本發明已嘗試解決這些問題,其目的在於提供一種即使盤形記錄媒體變薄,也能準確地進行記錄和重放操作的盤驅動裝置,它不受粘到盤形記錄媒體表面上的灰塵等的影響。
為了實現上述目的,對於進行記錄、重放或刪除盤形記錄媒體的盤驅動裝置,設置第一光束裝置,形成進行記錄、重放或刪除盤形記錄媒體的第一光點;第二光束裝置,在第一光點前的掃描位置上形成第二光點,以檢測盤形記錄媒體的表面狀態;盤狀態檢測裝置,根據第二光束裝置的反射光的接收信息,檢測盤形記錄媒體的表面狀態;以及電平控制裝置,根據盤狀態檢測裝置檢測到的盤形記錄媒體的表面狀態,以在第一光點和第二光點掃描盤形記錄媒體的時間差,經校正地控制第一光束裝置的雷射輸出電平。
此外,對於第二光束裝置反射光的接收信息,使用對應於盤形記錄媒體上形成的磁場信息的信息或盤形記錄媒體的的光量的信息之一。
此外,電平控制裝置還設置有一轉換表,以保證記錄、重放或刪除操作的第一光束裝置的雷射輸出電平為最佳電平。
而且,第一光束裝置和第二光束裝置由一個雷射束髮射源和從該雷射束髮射源分出雷射束的光譜裝置組成。
當第一光束裝置的雷射輸出受到電平控制裝置經過校正的控制時,由盤狀態檢測裝置進行檢測電平的校正,或者停止盤狀態檢測裝置。
根據本發明,由於在進行記錄、重放或刪除盤形記錄媒體的第一光束裝置的第一光點前的位置上提供一個形成第二光點以檢測盤形記錄媒體的表面狀態的第二光束裝置,並且根據該第二光束裝置的反射光的接收信息檢測盤形記錄媒體的表面狀態,所以可以在通過盤狀態檢測裝置檢測的盤形記錄媒體上的某一位置時,校正控制第一光束裝置的雷射輸出,達到一預定的電平(例如,即使粘有灰塵等也足以進行滿意的操作的電平)。
圖1A和1B是有一定大小的灰塵粘到盤表面上時盤驅動裝置獲得的再現RF信號的波形圖。
圖2是盤的厚度與粘到盤表面的灰塵大小之間的關係以及與盤驅動裝置內的誤差之間的關係。
圖3是以這種方式實現的盤驅動裝置的框圖。
圖4是以這種方式實現的光檢拾裝置4發射的光點在光道上的結構圖。
圖5A和5B是以這種方式實現的盤驅動裝置電平檢測部分的結構框圖。
圖6A和6B是以這種方式實現的盤驅動裝置在記錄操作期間前光束產生的MO信號的波形圖。
圖7A和7B是以這種方式實現的盤驅動裝置在記錄操作期間前光束產生的RF信號的波形圖。
圖8A和8B是以這種方式實現的盤驅動裝置在重放操作期間前光束產生MO信號的波形圖。
圖9A和9B是以這種方式實現的盤驅動裝置在重放操作期間前光束產生的RF信號的波形圖。
圖10是以這種方式實現的盤驅動裝置前光束與主光束之間間距D的示意圖。
圖11是以這種方式實現的盤驅動裝置在重放期間前光束獲得的校正電平L與主光束的最佳讀取功率之間的關係圖。
圖12A和12B是用以這種方式實現的盤驅動裝置重放PC盤時前光束產生的RF信號的波形圖。
圖3示出了一種盤驅動裝置的框圖,作為實現本發明一種方式。
圖1中所示的盤1是磁-光碟(MO盤),該盤1由主軸電動機2以預定的轉數旋轉驅動。由主軸控制部分3對主軸電動機2的轉速進行伺服控制。例如,主軸控制部分3利用主軸電動機的FG脈衝(與轉速同步的頻率信號)或類似信號等檢測主軸電動機2的轉速,同時提供控制器6的基準速度信息SK,並把基準速度信息SK與主軸電動機2的轉速進行比較,根據該誤差信息,對主軸電動機2進行加速或減速,從而以所需要的轉速實現盤旋轉操作。
來自光檢拾裝置4的雷射束照射旋轉的盤1。以這種方式實現的盤驅動裝置的光檢拾裝置4設置有兩個雷射束4a1和4a2,以發射例如進行記錄和重放盤1的主光束和在該主光束前面的前光束。雷射束源4a1和4a2由二極體、雷射耦合器等組成。在這些元件之間還設置具有各種透鏡的光學系統4b、這兩雷射源4a1和4a2的分束器等、構成雷射束輸出端的物鏡4c、檢測前光束反射光的檢測器4d、檢測主光束反射光的檢測器4e,以及保持物鏡4c在循跡方向和聚焦方向上可移動的雙軸機構4f。
由雷射控制部分5對光檢拾裝置4的雷射束源4a1和4a2輸出的雷射進行通/斷和輸出電平控制。
如圖4所示,通過該光檢拾裝置4,用兩束光束(主光束B1和前光束B2)照射盤上的光道T。
順便提一下,前光束B2不需要處於完全的循跡狀態,而是可以偏移光道中心。
當該盤驅動裝置通過其接口部分17連接到主計算機90時,當控制器6從主計算機90接收到記錄請求和重放請求時,進行數據記錄/重放操作。
在記錄期間,由主計算機90提供要記錄的數據以及記錄請求。接口部分17把記錄數據DREC提供給編碼器18,進行所需要的編碼處理。
假設盤驅動裝置的記錄系統例如為雷射選通磁場調製系統,在這種記錄系統下,在記錄期間控制器6控制雷射控制部分5,以使雷射輸出發射成預定電平的脈衝形式的主光束髮射光,而在以這種方式實現的盤驅動裝置的控制器6還用雷射檢測部分32檢測雷射束源4a2發射的前光束(下面描述),根據檢測結果,對雷射束源4a1發射的雷射輸出進行校正控制,作為預定電平的主光束。對於校正雷射控制部分5輸出的雷射的方法,可以簡單地增加雷射輸出功率或延長脈衝寬度來實現。
把編碼器18編碼的記錄數據提供給磁頭驅動器19,磁頭驅動器19根據磁頭20的記錄數據施加N或S極磁場。從而把記錄數據作為磁場信息記錄在盤1上。
假設光檢拾裝置4進行數據讀取的位置可在徑向上移動。雖然沒有具體圖示,但可以提供一種滑軌機構,使整個光檢拾裝置4可在盤的徑向上移動,這使讀取位置可以移動較大距離,同時,利用雙軸機構4f在盤的徑向上移動物鏡4c。因此,循跡伺服操作實現了讀取位置的微小移動。
順便提一下,不用滑軌機構移動光檢拾裝置4,也可以提供一種機構以滑動盤1與主軸電動機2。
此外,雙軸機構4f在離開盤1的方向上移動物鏡4c實現雷射點的聚焦控制。
作為光檢拾裝置4的檢測器4d和4e提供的包括例如具有四分光接收區的四分檢測器、相對於磁場克爾效應極化的每個分量,檢測磁場數據的檢測器,並獲得信號作為光電數據。
輸出從檢測器43的每個光接收區接收到的光能信號S1,這裡假設是對應於接收到的主光束的光能的電流信號,把這些信號提供給I/V轉換矩陣放大器7。I/V轉換矩陣放大器7除了對接收到的光能信號S1進行電流/電壓轉換之外,還對從每個光接收區接收到的光能信號S1進行運算處理,產生一些必要的信號,包括對應於磁場數據的信號、對應於位數據(例如盤1伺服區域以及其它地方內提供的相位位信號)的信號,推挽信號和聚焦誤差信號FE。
把作為有關聚焦狀態誤差的信息的聚焦誤差信號FE提供給伺服控制器8。伺服控制器8裝備有聚焦相位補償電路、聚焦驅動器等,作為聚焦系統的處理部分,它根據聚焦誤差信號FE產生聚焦信號,並把它施加到雙軸機構4f的聚焦線圈上。從而構成使物鏡4c就聚焦在聚焦點上的聚焦伺服系統。
I/V轉換矩陣放大器7輸出一個信號S2,用於產生伺服時鐘SCK和數據時鐘DCK。該信號S2為例如從盤1的伺服區得到的信號。
由箝位電路9除去了所述信號S2的低頻波動,並由A/D轉換器10轉換成數位訊號S3。
把該信號S3提供給控制器6、PLL電路11和循跡誤差產生部分15。
PLL電路11通過根據信號S3和振蕩輸出之間的相位誤差控制內部振蕩器的振蕩頻率並執行預定的分頻,產生伺服時鐘SCK。伺服時鐘SCK用於A/D轉換器10的取樣時鐘,同時,提供給定時控制器16。PLL電路11還通過頻分伺服時鐘SCK產生數據時鐘,並把該數據時鐘提供給定時控制器16和雷射控制部分5。它也用作A/D轉換器13的取樣時鐘。
定時控制器16根據伺服時鐘SCK和數據時鐘DCK產生各部分所需的定時信號。
例如,在其中,它產生取得用於三相循跡操作的伺服位的取樣定時Ps和數據檢測部分14進行解碼操作的同步定時DSY。
PLL電路11、定時控制器16和循跡誤差發生部分15在所謂三相循跡控制下,產生循跡誤差信號TE,並把它提供給伺服控制器8。
把I/V轉換矩陣放大器7輸出的光磁區讀取信號用作數據取出、推挽信號等作為信號S4。箝位電路12除去該信號S4中MO信號的低頻波動,由A/D轉換器13轉換成數位訊號。
此外,把信號S5提供給數據檢測部分(即解碼器)14。在數據檢測部分14中,根據同步定時DSY進行數據解碼處理,從而獲得再現數據DPE,該同步定時DSY由定時控制器16根據數據時鐘DCK產生。例如,進行波形均衡處理、相對於記錄格式的調製處理的解調處理、誤差校正處理等,以對再現數據DPE進行解碼。
把這些再現數據DPE通過接口部分17提供給主計算機90。
另一方面,光檢拾裝置4的檢測器4d的每個光接收區輸出接收到的光能信號SS1,假設該光能信號SS1為對應於前光束的接收光能的電流信號,把這些信號提供給I/V轉換矩陣放大器31。I/V轉換矩陣放大器31除了對接收到的光能信號SS1進行電流/電壓轉換之外,還對每個光接收區的接收光能信號SS1進行預定的運算處理,產生必要的信號,包括對應於磁場數據的信號、對應於位數據的信號和推挽信號。
在本說明書中,為便於描述I/V轉換矩陣放大器31和7輸出的信號,把磁克爾效應檢測系統獲得的信號稱為MO信號,把反射的光能檢測系統獲得的信號稱為RF信號,而與它們在盤上的源出處的數據無關(相位位數據或光磁數據)。
電平檢測部分31檢測前光束的I/V轉換矩陣放大器產生的推挽信號的MO信號和RF信號的輸出電平,並把它們輸出至控制器6。
圖5A和5B示出了電平檢測部分32的結構,其中,例如,電平檢測部分32檢測I/V轉換矩陣放大器31提供的RF信號的電平,如圖5A所示,還設置了低通濾波電路41,以除去包含在RF信號中的噪聲。
或者,例如,電平檢測部分32檢測I/V轉換矩陣放大器31提供的MO信號電平,如圖5B所示還設置有低通濾波電路41,以除去包含在MO信號內的噪聲,以及設置有AM解碼器42,檢測MO信號的包絡。
圖6A和6B示出了I/V矩陣放大器31在記錄操作期間,根據光檢拾裝置4的雷射源4a2發射的前光束反射得到的反射光產生的MO信號的波形,盤1在以這種方式實現的盤驅動裝置中,圖6A示出了沒有灰塵粘到盤1上時的MO信號波形,圖6B示出了有灰塵等粘到盤1時的MO信號波形。
在記錄操作時,觀察到沒有灰塵粘到盤1上時I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號,如圖6A所示,在盤1無記錄區的磁場位以箭頭方向(+方向)磁化,這是因為利用盤1無記錄區反射的光的克爾效應。
另一方面,在記錄操作期間,觀察到有灰塵等物粘到盤1上時I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號由於有灰塵等粘到盤1表面上而減小到如圖6B所示的電平L2。
因此,在記錄期間,通過檢測I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號的電平,可以估計盤的狀態,是否有灰塵、汙點等粘到盤1上。
此外,圖7A和7B示出了在記錄操作操作期間,I/V矩陣放大器31根據光檢拾裝置4的雷射源4a2發射的前光束反射得到的反射光產生的RF信號的波形。圖7A示出了沒有灰塵等物粘到盤1上時的RF信號波形,圖7B示出了有灰塵等物粘到盤1上時的RF信號波形。
在記錄操作期間,觀察到盤1上沒有粘有灰塵等物時I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號有如圖7A所示參照雷射源4a2的雷射二極體(LD)發射的雷射輸出的關斷電平的恆定電平L1。
另一方面,在記錄操作期間,觀察到盤1上粘有灰塵等物時I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號,由於盤1表面上粘有灰塵等物減小到如圖7B所示的參照雷射二極體(LD)發射的關斷電平的電平L2。
因此,在記錄期間,通過檢測I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號的電平,可以估計盤的狀態,是否有灰塵、汙點等粘到盤1上。
下面,圖8A和8B示出了在重放操作期間,在以這種方式實現的盤驅動裝置內,I/V矩陣放大器31根據光檢拾裝置4的雷射源4a2發射的前光束反射得到的反射光產生的MO信號的波形,圖8A示出了盤1上沒有粘有灰塵等物時的MO信號,圖8B示出了盤1上粘有灰塵等物時的MO信號。
在重放操作期間,觀察到盤1上沒有粘有灰塵等物時I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號有如圖8A所示幅度的電平。
另一方面,觀察到盤1上粘有灰塵等物時I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號由於盤1上粘有灰塵等物減小到如圖8B所示幅度的電平L2。
因此,在重放操作期間,通過檢測I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號的電平,也可以估計盤的狀態,盤1上是否粘有灰塵或汙點。
此外,圖9A和9B示出了在重放操作期間,I/V矩陣放大器31根據光檢拾裝置4的雷射源4a2發射的前光束髮射得到的反射光產生的RF信號的波形,圖9A示出了盤1上沒有粘有灰塵等物時的RF信號的波形,圖9B示出了盤1上粘有灰塵等物時的RF信號波形。
在重放操作期間,I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號顯示出與上述圖7相似的波形,這是由於與盤1上存儲或不存儲磁場位無關,而觀察到在盤1上沒有粘有灰塵等物時RF信號為如圖9A所示的恆定電平。
另一方面,觀察到盤1上粘有灰塵等物時I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號由於受到盤1表面上粘有灰塵等的影響而減小到如圖9B所示的電平L2。
因此,在重放操作期間,通過檢測I/V轉換矩陣放大器31產生RF信號的電平,也可以估計出盤狀態,盤1上是否粘有灰塵等物。
因此,在以這種方式實現的盤驅動裝置中,I/V轉換矩陣放大器31根據光檢拾裝置4發射的前光束的反射光產生MO信號和RF信號,並把該產生的MO信號或RF信號提供給電平檢測部分32。電平檢測部分32檢測MO信號或RF信號的電平,並把它作為檢測信號SS2提供給控制器6。並根據電平檢測部分32的檢測信號SS2進行設置,校正作為光檢拾裝置4的雷射源4a1的主光束髮射的雷射束的輸出功率電平,這由雷射控制部分5控制。
因此,由於I/V轉換矩陣放大器7從主光束產生MO信號的電平在盤1表面上粘有灰塵等物時也下降,所以在主光束通過盤1上粘有灰塵等的區域時,設置成把雷射源4a1發射的主光束的雷射輸出功率電平向上校正一預定電平。
與在控制器6內前光束和主光束之間時間校正的方法一樣,例如,可以在以這種實現方式製造盤驅動裝置時,利用專用盤,通過基準點,事先測量圖10所示的前光束與主光束之間的間距D,以及存儲在存儲器等中。例如在盤驅動裝置的旋轉控制線速度保持恆定的CLV系統中,因為線密度是恆定的,所以可以使前光束與主光束之間的間距D容易地轉換成校正時間。
或者,在例如盤驅動裝置的旋轉控制通過角速度在每個區都保持恆定的區域CAV系統中,由於能得到進行寫或重放的盤區域的地址和該盤區域的線密度,也能容易地把前光束與主光束之間的間距轉換成校正時間。
順便提一下,即使正在使用盤驅動裝置,通過例如利用裝盤1的時間或空白時間,也可以測量光檢拾裝置4主光束和前光束之間的間隔,在這種情況下,可以改善準確度。
控制器6校正雷射控制部分5的另一種方法是根據盤1上沒有粘有灰塵等物時檢測到的MO信號或RF信號而獲得的電平L1以及有灰塵等物粘到盤1上時獲得的電平L2,確定校正電平L(L=L2/L1),利用該校正電平L校正發射成記錄期間的光檢拾裝置4的主光束的記錄雷射輸出功率、在記錄操作之前進行的從盤1上刪除數據的雷射輸出功率,以及發射成在重放期間光檢拾裝置4的主光束的重放雷射輸出功率,以使它們達到預定的電平。
因此,如果盤驅動裝置屬於例如模擬類型的,則在控制器6內設置延時線等類似裝置,利用該延時線可以實現時間校正,同時根據校正電平L可以校正控制光檢測器4的雷射輸出功率的雷射控制部分5。
或者,如果盤驅動裝置是屬於例如數字類型的,則能以時鐘基對校正電平L進行取樣,並延遲延時時間D,以校正雷射控制部分5。
然而,由於在記錄或重放期間必須把每個盤驅動裝置優化到相對於盤驅動裝置的前光束產生的校正電平L的發射成光檢拾裝置4的雷射源4a1的主光束的雷射輸出功率電平,所以,基本上要求事先測量每個盤驅動裝置的校正電平L與雷射輸出電平的校正量之間的關係,並在控制器6內提供校正電平L與雷射輸出電平的校正量之間的關係,作為轉換表。
圖11示出了在重放期間前光束獲得的校正電平與某一盤驅動裝置系統內最佳的讀取功率之間的關係。如果,例如在實際測量時發現收集電平L高於X1時沒有出現讀誤差,則控制器6可以驅動雷射控制部分5從校正電平變成小於X1時開始校正讀取功率。
或者,如果例如即使在校正電平L變成小於X2時校正讀取功率,也可以預期沒有改善誤差率,則也可以省去校正讀功率。
因此,在以這種方式實現的盤驅動裝置中,設置成利用前光束檢測盤1的MO信號或RF信號的電平,利用主光束通過對應於前光束檢測到的校正電平的區域時的定時,校正記錄或重放期間主光束髮射的雷射輸出功率。因而,如果有灰塵等物粘到盤1表面上,就可以根據粘到盤1上的灰塵等物的程度實時校正雷射輸出電平,僅在粘有灰塵的附近提升主光束的雷射輸出功率進行校正,就可以防止灰塵等物引起寫誤出錯或讀出錯。
順便提一下,在這種實現方式中,光檢拾裝置4設置有能獨立發射前光束和主光束的雷射源4a1和4a2以及分別檢測前光束和主光束反射光的檢測器4d和4e,但光檢拾裝置4並不必須具有獨立的雷射輸出功能以輸出前光束,它可以例如用光柵等裝置分割主光束的光點,如果光學系統是屬於形成子光束的類型,則用該子光點作為前光束。因此,該子光束可以在所謂三點系統(three-spot system)的循跡控制時進行循跡伺服。
然而,在這種設置有光柵的光學系統中,由於它用子點作為前光束,如果根據前光束的電平檢測結果校正主光束的雷射輸出功率,則前光束的雷射輸出功率也因而改變了,所以必須根據對應於主光束的雷射輸出功率的校正的前光束的反射光校正I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號或RF信號的電平。因此,當根據如圖11所示的最佳功率比校正光檢拾裝置4的讀取功率時,控制器6把雷射控制部分5驅動成根據子點的反射光校正I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號或RF信號的電平(1/最佳功率比)。
順便提一下,由於盤1上粘附的灰塵等物沒有嚴重到足以引起讀出錯或寫出錯,所以在校正讀功率時,控制器6可以停止用子光點進行電平檢測。
此外,當從以這種方式實現的I/V轉換矩陣放大器31產生的MO信號或RF信號的電平獲得校正電平時,例如可以產生I/V轉換矩陣放大器的推挽信號,根據推挽信號檢測校正電平。
此外,雖然前面參照在盤驅動裝置內在MO盤上記錄或重放操作描述了以這種方式來實現,但也可以把類似的校正應用於相位改變盤(PV盤)和ROM盤。
圖12A和12B示出了在重放PC盤時,I/V矩陣放大器根據光檢拾裝置4發射的前光束的反射光產生的RF信號的波形,圖12A示出了沒有灰塵等物粘到PC盤上時的RF信號波形,圖12B示出了有灰塵等物粘到PC盤上時的RF信號波形。
在重放操作期間,觀察到沒有灰塵等物粘到PC盤上時,I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號具有如圖12A所示的電平幅度L1。
另一方面,觀察到當有灰塵等物粘到PC盤上時I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號由於受到粘到PC盤表面上的灰塵等物的影響幅度電平減小到如圖12B所示的L2。
或者,在記錄操作時,觀察到在沒有灰塵等物粘到PC盤上時I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號具有與上面如圖5所示在MO盤記錄時的RF信號相似的波形。
因此,對於PC盤,通過檢測I/V轉換矩陣放大器31產生的RF信號的幅度電平,也可以估計出盤狀態,即是否有灰塵等物粘到盤1上。
此外,當用本盤驅動裝置重放ROM盤時,觀察到I/V轉換矩陣放大器31根據光檢拾裝置4發射的前光束產生的RF信號的波形與上述的圖12所示的波形相似。
因此,在以這種實現方式中,當重放ROM盤或記錄或重放PC盤時,在MO盤的情況下,可以根據所粘灰塵等物的程度實時校正雷射輸出電平,防止灰塵的影響,引起寫出錯或讀出錯。
此外,在這種實現方式中,在對盤1進行刪除操作時,由於通過檢測前光束獲得的RF信號或MO信號的電平,可以估計盤的狀態,即盤1上是否粘有灰塵或汙點,因此,如果有灰塵等物粘到盤1上,通過提升刪除盤1上的磁場數據的雷射輸出電平,可以防止灰塵等物的影響,引起錯誤刪除。
如至此所描述的,盤驅動裝置根據本發明設置有第二光束裝置以在對盤形記錄媒體進行記錄、重放或刪除操作的第一光束裝置的第一光點前的位置上形成第二光點,以檢測盤形記錄媒體表面狀態,並且可以根據該第二光束裝置的光接收輸出檢測出盤形記錄媒體的表面狀態,所以可以校正第一光束裝置的雷射輸出,使之在通過盤狀態檢測裝置檢測到的盤形記錄媒體的某一位置上時達到與表面狀態一致的電平,以進行準確的記錄和重放操作,而不受粘到盤形記錄媒體表面的灰塵等物的影響。
尤其是在盤形記錄媒體的厚度變薄,灰塵等的影響變大時,本發明更加適用。
而且,當假設第二光束裝置的光接收信息為對應於盤形記錄媒體上形成的磁場信息的信息或對應於盤形記錄媒體反射得到的反射光能信息的信息時,能以簡單的結構來實現。
此外,通過為電平控制裝置設置轉換表,使第一光束裝置的雷射輸出在記錄、重放或刪除操作期間分別保持在最佳電平上,這樣可以容易地實現最佳電平的正確控制。
另一個優點是,如果第一光束裝置和第二光束裝置由一個雷射束髮射源和把該雷射發射源的雷射束分成第一和第二光點的光譜裝置組成,則不需要提供獨立的雷射輸出功能,以檢測盤形記錄媒體的表面狀態,所以能以簡單的結構來實現。
本發明能以其它具體的形式來實現而不脫離其精神或實質特徵。因此,本發明並不受到這些所有方面的限制,本發明的範圍由所附權利要求來指出,而不是前面的描述,因此所有落入權利要求等效手段和範圍內的變化都包括在其內。
權利要求
1.一種對盤形記錄媒體進行記錄、重放或刪除的盤驅動裝置,包含第一光束裝置,形成進行記錄、重放或刪除盤形記錄媒體的第一光點;第二光束裝置,在所述第一光點前的掃描位置上形成第二光點,以檢測盤形記錄媒體的表面狀態;盤狀態檢測裝置,根據第二光束裝置的反射光的接收信息,檢測盤形記錄媒體的表面狀態;以及電平控制裝置,根據盤狀態檢測裝置檢測到的盤形記錄媒體的表面狀態,以在所述第一光點和所述第二光點掃描盤形記錄媒體的時間差,校正所述第一光束裝置的雷射輸出電平。
2.如權利要求1所述的盤驅動裝置,其特徵在於,關於所述第二光束裝置的反射光的接收信息為對應於盤形記錄媒體上形成的磁場信息的信息。
3.如權利要求1所述的盤驅動裝置,其特徵在於,關於所述第二光束裝置的反射光的接收信息為盤形記錄媒體反射的光量的信息。
4.如權利要求1所述的盤驅動裝置,其特徵在於,所述電平控制裝置具有轉換表,用於顯示對應於所述表面狀態的雷射輸出電平的補償量,以保證所述第一光束裝置的雷射輸出在記錄、重放或刪除操作時都為最佳的電平。
5.如權利要求1所述的盤驅動裝置,其特徵在於,所述第一光束裝置和所述第二光束裝置每個都包含一個雷射束髮射源和從該雷射束髮射源分離出雷射束的光譜裝置。
6.如權利要求5所述的盤驅動裝置,其特徵在於,還包含在所述電平控制裝置校正控制所述第一光束裝置的雷射輸出時,補償所述盤狀態檢測裝置的檢測電平的裝置。
7.如權利要求5所述的盤驅動裝置,其特徵在於,還包含在所述電平控制裝置校正控制所述第一光束裝置的雷射輸出時停止所述盤狀態檢測裝置的檢測工作的裝置。
全文摘要
光檢測裝置設置有對盤進行記錄或重放的主光束和位置在主光束前的,用於檢測盤的表面狀態的前光束;根據該前光束的光接收信息(MO信號或RF信號)檢測盤表面狀態;控制成,在主光束通過檢測到有灰塵等物粘到盤上的位置時,使主光束的雷射輸出功率達到一電平值,在該電平上,即使粘附有灰塵等物也可以進行滿意的操作,以能進行準確的記錄和重放操作,而不會受到盤形記錄媒體表面上粘附的灰塵等物的影響,即使盤形記錄媒體的厚度變薄。
文檔編號G11B11/105GK1202693SQ9810890
公開日1998年12月23日 申請日期1998年5月15日 優先權日1997年5月16日
發明者渡辺哲 申請人:索尼株式會社

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