觸控裝置及其形成方法

2023-12-07 17:12:41

觸控裝置及其形成方法
【專利摘要】一種觸控裝置，包括：蓋板，具有可視區及位於可視區側邊的遮蔽區，遮蔽區包括第一區域、第二區域以及第三區域；第一遮蔽層，設置於蓋板的表面且位於第一區域及第二區域內，其中第一遮蔽層具有一平整表面；信號引線層，位於第一區域內且設置於第一遮蔽層的平整表面上；以及第二遮蔽層，至少位於靠近蓋板邊緣的第三區域內，其中，第二遮蔽層的粘度大於第一遮蔽層的粘度。本發明另提供一種觸控裝置的形成方法。採用本發明的觸控裝置，可避免遮蔽層採用黑色光阻等粘性較低的材料時，形成於蓋板邊緣的遮蔽層表面產生不平整的問題。
【專利說明】觸控裝置及其形成方法
【技術領域】
[0001]本發明系有關於觸控技術，且特別是有關於一種觸控裝置及其形成方法。
【背景技術】
[0002]近年來，觸控裝置已經被大量應用在各種電子產品中，例如手機、個人數位助理(PDA)或掌上型個人電腦等。隨著應用的需求，近年來已發展出一種薄型化設計的觸控裝置，由於此種薄型化觸控裝置具有輕薄的優點，逐漸受到使用者的青睞。
[0003]請參考第I圖，為一薄型化觸控裝置的剖面示意圖，此薄型化觸控裝置由保護外蓋10、遮蔽層20與觸控元件30所組成，其中，遮蔽層20與觸控元件30皆直接形成於保護外蓋10的一側，而保護外蓋10的另一側則供使用者觸摸以輸入訊息或操控電子產品。
[0004]上述的薄型化觸控裝置中，遮蔽層20是由低黏度(粘度約3 - 50cps)的遮光材料所形成，由第I圖可看出遮蔽層20的表面是由一平整表面202與一突起表面204所構成的不平整表面。遮蔽層20之所以會有不平整的表面產生是因為低黏度遮蔽材料在一開始塗布時即會因表面張力的物理現象而在靠近保護外蓋10的邊緣形成不平整的突起表面，使得後續固化成型的遮蔽層20也不會具有一個平整的表面。
[0005]而遮蔽層20的不平整表面會影響後續觸控元件30的形成品質，進而降低薄型化觸控裝置的產品良率。

【發明內容】

[0006]依據本發明的實施例，在觸控裝置中分別形成具低黏度的第一遮蔽層及具高黏度的第二遮蔽層，讓第二遮蔽層的高粘度特性在靠近保護蓋板邊緣的地方仍能維持平整的表面，以減少後續對形成觸控元件的影響，進而提高觸控裝置的產品良率。
[0007]本發明一實施例提供一種觸控裝置，包括:一蓋板，具有一可視區及一位於該可視區側邊的遮蔽區，該遮蔽區從該可視區往該蓋板邊緣的方向依序劃分的區域包括一第一區域、一第二區域以及一第三區域；一第一遮蔽層，設置於該蓋板的表面且位於該第一區域及該第二區域內，其中該第一遮蔽層具有一平整表面；一信號引線層，位於該第一區域內且設置於該第一遮蔽層的該平整表面上；以及
[0008]一第二遮蔽層，至少位於靠近該蓋板邊緣的該第三區域內，其中，該第二遮蔽層的粘度大於該第一遮蔽層的粘度。
[0009]本發明另一實施例提供一種觸控裝置的形成方法，包括:提供一蓋板，該蓋板具有一可視區及一位於該可視區側邊的遮蔽區，該遮蔽區從該可視區往該蓋板邊緣的方向依序劃分的區域包括一第一區域、一第二區域以及一第三區域；形成一第一遮蔽層於該蓋板的表面且位於該第一區域及該第二區域內，其中該第一遮蔽層具有一平整表面；形成一信號引線層於該第一區域內且設置於該第一遮蔽層的該平整表面上；以及形成一第二遮蔽層於至少靠近該蓋板邊緣的該第三區域內，其中，該第二遮蔽層的粘度大於該第一遮蔽層的粘度。[0010]本發明通過第一遮蔽層內縮的設計，可避免第一遮蔽層採用黑色光阻材料等粘性較低的材料時，形成於蓋板邊緣的第一遮蔽層表面產生不平整的問題。
[0011]為讓本發明的上述和其他目的、特徵、和優點能更明顯易懂，下文特舉出較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下:
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1顯示為一傳統薄型化觸控裝置的剖面示意圖。
[0013]圖2a顯示在本發明一實施例中觸控裝置100的剖面圖。
[0014]圖2b則顯示圖2a中蓋板110的上視示意圖。
[0015]圖3顯示本發明一實施例中電極部的上視圖。
[0016]圖4a至圖4g顯示第一遮蔽層120在第二區域II內可能的圖案。
[0017]圖5顯示在本發明另一實施例中的觸控裝置的剖面圖。
[0018]圖6顯示在本發明又一實施例中的觸控裝置的剖面圖。
[0019]圖7顯示在本發明一實施例中的觸控裝置的方法流程圖。
[0020]圖8至圖12 顯示依照圖7的方法形成觸控裝置的各階段剖面圖或上視圖。
[0021]【主要元件符號說明】
[0022]V—可視區
[0023]M —遮蔽區
[0024]I —第一區域
[0025]II —第二區域
[0026]III —第三區域
[0027]100,400,500 —觸控裝置
[0028]110、510—蓋板
[0029]130,530 —感測層
[0030]131、531—電極部
[0031]131X、531X_ 第一電極
[0032]13IY-第二電極
[0033]131Z、531Z —連接部
[0034]133,533 —跨接部
[0035]140、540 —導電部
[0036]150、550 —信號引線層
[0037]160,560 —保護層
[0038]170,570 —第二遮蔽層
[0039]602、604、606、608 —步驟
【具體實施方式】
[0040]以下依本發明的不同特徵舉出數個不同的實施例。本發明中特定的元件及安排係為了簡化，但本發明並不以這些實施例為限。舉例而言，於第二元件上形成第一元件的描述可包括第一元件與第二元件直接接觸的實施例，亦包括具有額外的元件形成在第一元件與第二元件之間、使得第一元件與第二元件並未直接接觸的實施例。此外，為簡明起見，本發明在不同例子中以重複的元件符號及/或字母表示，但不代表所述各實施例及/或結構間具有特定的關係。
[0041]參照第2a與2b圖，其中第2a圖顯示在本發明一實施例中觸控裝置100的剖面圖，第2b圖則顯示圖2a中蓋板110的上視示意圖。觸控裝置100包含蓋板110、第一遮蔽層120、信號引線層150與第二遮蔽層170，其中，蓋板110具有可視區V及位於可視區V側邊的遮蔽區M，遮蔽區M從可視區V往蓋板110邊緣的方向依序劃分的區域包括第一區域1、第二區域II以及第三區域III ;第一遮蔽層120則設置於蓋板110的表面且位於第一區域I及第二區域II內，其中第一遮蔽層120具有一平整表面；信號引線層150位於第一區域I內且設置於第一遮蔽層120的平整表面上；以及第二遮蔽層170，至少位於靠近蓋板110邊緣的第三區域III內，其中，第二遮蔽層170的粘度大於第一遮蔽層120的黏度。
[0042]如第2a圖所示，觸控裝置100更包括電性連接信號引線層150的感測層130，感測層130是設置於蓋板110的表面上且位於蓋板110的可視區V範圍內。
[0043]在本實施例中，觸控裝置100更包括導電部140，導電部140用以電性連接感測層130與信號引線層150。在其它實施例中，感測層130亦可直接與信號引線層150電性連接，即觸控裝置100可不包括導電部140。
[0044]在本實施例中，觸控裝置100更包括保護層160，其中保護層160的一面在第三區域III是設置在蓋板110的表面上，在第二區域II是設置在第一遮蔽層120的平整表面上，在第一區域I是設置在信號引線層150上，而保護層160的另一面則承載第二遮蔽層170。
[0045]在一實施例中，第一遮蔽層120與第二遮蔽層170的顏色相同。在另一實施例中，第一遮蔽層120與第二遮蔽層170的顏色不同。
[0046]請再參考第2a圖與第2b圖，以下將更詳細地說明本發明的技術方案。
[0047]在本實施例中，遮蔽區M更進一步是圍繞著可視區V的周邊，遮蔽區M的第一區域I是圍繞可視區V，第二區域II圍繞第一區域I，且第三區域III圍繞第二區域II。不難理解，第一區域1、第二區域I1、第三區域III可不限定於第2b圖所示的形狀。
[0048]在一實施例中，第二區域II的寬度介於1.5mm至3.5mm，第三區域III的寬度介於0.25mm至0.5_。然而，本領域具通常知識者應可了解遮蔽區M的第一區域1、第二區域
I1、第三區域III的寬度也可視裝置需要調整為其它寬度，並非以此為限。
[0049]前述設置於蓋板110的表面且位於第一區域I及第二區域II內的第一遮蔽層120是具有一平整表面。要說明的是，本發明所描述的平整表面，係為區別於先前技術中遮蔽層邊緣具有明顯的不平整表面(如明顯突起)，亦即本發明所描述的平整表面，並不限定於如第2a圖所繪示的沿水平方向具同一厚度的理想情況，第一遮蔽層120的平整表面亦可包含厚度漸變等情況，例如導電部140爬坡位置的第一遮蔽層120可為平滑的弧面狀，其將有利於導電部140在該位置的爬坡，避免導電部140可能存在爬坡斷裂的問題。
[0050]在本實施例中，位於第二區域II內的第一遮蔽層120具有漸變圖案。第4a至4g圖顯示第一遮蔽層120在第二區域II內可能的圖案。如第4a至4g圖所示，第一遮蔽層120在第二區域II內的漸變的圖案可有各種不同的形狀及樣式。在一些實施例中，漸變的圖案包括複數個相同或相異的圖形、符號、文字、數字、或前述之組合。在另一實施例中，漸變的圖案包括複數個陣列式排列的孔洞。在又一實施例中，漸變的圖案包括複數個三角形、圓形、矩形、或前述之組合。
[0051]在本實施例中，如第2a圖所示，感測層130包含一電極部131、複數絕緣部132、複數跨接部133。更具體地，請同時參考第3圖，第3圖繪示了一種可應用於本發明的電極部的上視圖。電極部131包含複數個排列成列的第一電極131X，複數個排列成行的第二電極131Y，以及連接相鄰的第二電極131Y的複數連接部131Z。複數跨接部133可用以連接在同一列上且相鄰的第一電極131X。複數絕緣部132可設置於連接部131Z與跨接部133之間，用以電性絕緣連接部131Z和跨接部133。
[0052]需說明的，儘管第I圖與第3圖的第一電極131X等元件的數量不同，但不難理解，第I圖與第3圖僅為示例，並不用以限定實際第一電極131X等元件的數量和樣態，且第一電極131X和第二電極131Y的形狀亦不限定於圖示中的菱形或三角形形狀。另應注意的是，第2a圖所示的感測層130僅為舉例說明之用，在本發明其他實施例中也可具有其它圖案及形式的感測層，本發明的範疇並非以此為限。
[0053]在本實施例中，觸控裝置100還包含用以電性連接信號引線層150和第一電極131X的導電部140。其中，導電部140可與跨接部133在同一製程步驟中以相同材料形成，即兩者可一體化形成，但兩者亦可採用不同的材料。在另一實施例中，信號引線層150可直接電性連接第一電極131X。
[0054]信號引線層150位於第一區域I內且設置於第一遮蔽層120的平整表面上，且與感測層130電性連接，藉由信號引線層150，可將第一電極131X感應的電性變化傳送至信號處理器(未繪示)。另外，排列成行的第二電極131Y也可藉由另一信號引線層(未繪出)傳送其感應的電信號變化。需說明的是，信號引線層150與導電部140可僅形成於第一遮蔽層120的一側，即單邊引線的方式。第I圖所示的為雙邊引線方式，連接同一軸向的信號引線層150可通過並聯的形式連接至信號處理器(圖未示)，當觸控裝置尺寸較大時，通過雙邊引線的方式有利於減輕信號衰減的問題。
[0055]在一實施例中，第二遮蔽層170可僅位於靠近蓋板110邊緣的第三區域III內。
[0056]在一實施例中，第二遮蔽層170的設置範圍可更包括第二區域II，即第二遮蔽層170位於第二區域II和第三區域III內。
[0057]在一較佳實施例中，如第2a圖所示，第二遮蔽層170的設置範圍更包括第二區域II與第一區域I，即第二遮蔽層170可由遮蔽區M的第一區域I延伸至第二區域II及第三區域III，使得第二遮蔽層170的範圍涵蓋整個遮蔽區M。
[0058]第二遮蔽層170位於信號引線層150上且位於遮蔽區M內，可使遮蔽區M的遮光效果更佳。此外，由於第一遮蔽層120僅設置於遮蔽區M的第一區域I及第二區域II而未延伸進入第三區域III，因此可避免位於蓋板110的邊緣的第一遮蔽層120，因物理因素而出現的不平整表面影響觸控裝置的良率。
[0059]由於第一遮蔽層120與第二遮蔽層170不同時形成且兩者材料選擇上存在差異，故當兩者採用相同或相近的顏色，不可避免地，還是容易察覺到兩者之間存在色差，本發明藉由第一遮蔽層120的漸變圖案，使得第一遮蔽層120及第二遮蔽層170之間交界的部分(亦即蓋板110的第二區域II)具有良好的過渡區。相對顏色直接過渡存在的突兀感，漸變圖案使得相近顏色之間的過渡存在層次感，盡而可使肉眼不容易察覺到第一遮蔽層120、第二遮蔽層170之間的色差，同時能達到較佳的遮蔽效果。[0060]另，當第一遮蔽層120與第二遮蔽層170採用不相同的顏色時，將使得觸控裝置100的遮蔽區M具有複合顏色和圖案，進而可滿足觸控裝置100遮蔽區M顏色和圖案多樣化的需求。
[0061]以下，將詳述觸控裝置100各組成元件的其它特性。
[0062]蓋板110可採用透明絕緣材料，如玻璃材質或PET等塑膠材質。蓋板110可為硬質基板或可撓式基板。蓋板110可為平面形狀、曲面形狀，或前述之組合，更具體地，蓋板110例如為2.5D玻璃。
[0063]第一遮蔽層120系主要由樹脂、顏料、感光劑和溶劑組成的有色光阻材料，且其粘度可小於150cps,例如介於3cps至50cps,或者介於60cps至IOOcps。在一較佳實施例中，第一遮蔽層120採用黑色光阻材料,其粘度可介於3cps至50cps。
[0064]電極部131採用透明導電材料,例如為奈米銀絲(Silver Nano-Wire, SNW)、碳奈米管(Carbon nanotube, CNT)、石墨烯(Graphene)以及氧化金屬(ΙΤ0、ΑΖ0…)等。在一實施例中，電極部131為高溫形成的銦錫氧化物(ITO)層，其形成溫度可介於300°C至350°C，通過高溫形成的銦錫氧化物(ITO)層的透光性較好。
[0065]跨接部133可為銀、鋁等金屬材料、銦錫氧化物(ITO)透明導電材料，或前述之組合。且較佳地，導電部140與跨接部133相同的透明導電材料，例如銦錫氧化物(ITO)等透明導電材料，如此可避免信號引線層150採用金屬等材料時，直接電性連接感測層130，造成信號引線層150可視的問題。
[0066]絕緣部132採用絕緣材料，例如為光阻，其可利用曝光與顯影製程形成。在一實施例中，絕緣部132為有機或無機的絕緣材料,例如為聚亞醯胺(polyimide)、環氧樹脂等材料。
[0067]信號引線層150的材料例如為銀、鋁等金屬材料、銦錫氧化物(ITO)等透明導電材料，或前述之組合。較佳地，信號引線層150採用金屬材料，金屬材料具有較佳的導電性。
[0068]在一實施例中，當電極部131採用銦錫氧化物(ITO)材料，其形成溫度可介於300°C至350°C ;跨接部132A亦可採用銦錫氧化物(ITO)材料，其形成溫度可介於20°C至30°C。高溫(可介於30(TC至350°C )形成的銦錫氧化物(ITO)和低溫(可介於20°C至30°C)形成的銦錫氧化物(ITO)，在採用微影蝕刻工藝形成圖案化形狀時，所用的蝕刻液不同，亦即在形成跨接部133時，並不會破壞已形成的電極部131。
[0069]保護層160可採用透明絕緣材料，例如為光阻或二氧化矽。在一實施例中，當保護層160採用透明光阻材料時，其厚度可為1500nm至2000nm。在另一實施例中，當保護層160採用二氧化娃材料時,其厚度可為IOnm至30nm。保護層160的材料和厚度可根據不同產品需求作調整，並不限定於以上材料及厚度。
[0070]第二遮蔽層170可與第一遮蔽層120具有不同的粘度，且較佳地，第二遮蔽層170採用粘度較高的材料(例如可介於3500cps-12000cps，更具體地，可為4000cps、6000cps或7500cps),以便較好地控制第二遮蔽層170的表面平整度。第二遮蔽層170可為有色油墨材料(例如黑色油墨材料)，其可由顏料、連結料和助劑所組成，且粘度可達上萬cps，其可通過印刷方式形成。較佳地，第一遮蔽層120與第二遮蔽層170採用相同或相近的顏色。
[0071] 需說明的是，由於觸控裝置100形成過程中可能存在高溫步驟(如電極部131採用高溫形成的銦錫氧化物、以及形成過程可能存在烘烤等步驟)，且感測層130、信號引線層150等組件通常採用微影蝕刻的工藝形成，因此第一遮蔽層120採用可通過微影蝕刻工藝處理的光阻材料，可確保在形成第二遮蔽層170之前，觸控裝置100可在相同或相近的環境條件(包括溫度、溼度、真空度等)下進行，進而可提高效率。
[0072]第5圖顯示在本發明另一實施例中的觸控裝置的剖面圖。第5圖與第I圖所示觸控裝置的差別在於，在第5圖中，第二遮蔽層170系直接形成於信號引線層150上，而後再形成保護層160。更具體地，在本實施例中，第二遮蔽層170在第三區域III是設置在蓋板110的表面上；第二遮蔽層170在第二區域II是設置在第一遮蔽層120的平整表面上；第二遮蔽層170在第一區域I是設置在信號引線層150上。本實施例觸控裝置400的其它特性可與前一實施例相同，此處不再贅述。
[0073]第6圖顯示在本發明又一實施例中的觸控裝置的剖面圖。第6圖與第I圖所示觸控裝置100的差別在於感測層530的結構。在第6圖中，在可視區V中先形成跨接部533及絕緣部532，而後再形成電極部531和導電部540。請復參考第I圖和第3圖，與第I圖電極部131相似，電極部531包含複數個排列成列的第一電極531X，複數個排列成行的第二電極(圖6未繪示)，以及連接相鄰的第二電極的複數連接部531Z。複數跨接部533，用以連接相鄰在同一列上的第一電極531X。複數絕緣部532，設置於連接部531Z與跨接部533之間，用以電性絕緣連接部53IZ和跨接部533。
[0074]跨接部533可為銀、鋁等金屬材料、銦錫氧化物(ITO)等透明導電材料，或前述之組合。在一實施例中，跨接部533為高溫形成的銦錫氧化物(ITO)層，其形成溫度可介於300 °C 至 350 °C。
[0075]感測層 530採用透明導電材料,例如為奈米銀絲(Silver Nano-Wire, SNW)、碳奈米管(Carbon nanotube, CNT)、石墨烯(Graphene)以及氧化金屬(ΙΤ0、ΑΖ0…)等。
[0076]在一實施例中，當跨接部533採用高溫(可介於300至350°C )形成的銦錫氧化物(ITO)材料時，電極部531可採用低溫(可介於20°C至30°C )形成的銦錫氧化物(ITO)材料。
[0077]相似於第I圖，在此實施例中，信號引線層550系藉由導電部540與第一電極531X產生電性連接，且較佳地，導電部540與電極部531採用相同的材料(如銦錫氧化物材料)，且兩者同時形成。
[0078]在信號引線層550上設置有保護層560，且在保護層560上設置有第二遮蔽層570，且第二遮蔽層570位於遮蔽區M中。本實施例觸控裝置500的其它特性可與圖1所繪示的實施例相同，此處不再贅述。
[0079]此外，不難理解，在另一實施例中，觸控裝置可具有類似第6圖所示的感測層結構，然而其第二遮蔽層可直接形成於信號引線層上，而後再形成保護層(類似第5圖的結構)。
[0080]第7圖顯示形成本發明觸控裝置的方法流程圖。第8至12圖則顯示依照第7圖的方法形成觸控裝置的各階段剖面圖或上視圖。參照第7圖，在步驟602中，提供一蓋板，該蓋板具有一可視區及一位於該可視區側邊的遮蔽區，該遮蔽區從該可視區往該蓋板邊緣的方向依序劃分的區域包括一第一區域、一第二區域以及一第三區域；在步驟604中，形成一第一遮蔽層於該蓋板的表面且位於該第一區域及該第二區域內，其中該第一遮蔽層具有一平整表面；在步驟606中，形成一信號引線層於該第一區域內且設置於該第一遮蔽層的該平整表面上；以及在步驟608中，形成一第二遮蔽層於至少靠近該蓋板邊緣的該第三區域內，其中，該第二遮蔽層的粘度大於該第一遮蔽層的粘度。
[0081]在本發明的觸控裝置的形成方法中，更包括形成一電性連接該信號引線層的感測層，該感測層是形成於該蓋板的表面上且位於該蓋板的該可視區範圍內。以下將結合第8圖至第12圖進行詳述。
[0082]參照第7、8圖，在步驟602中，提供蓋板110，蓋板110具有可視區V及位於可視區V側邊的遮蔽區M，遮蔽區M從可視區往蓋板110邊緣的方向依序劃分的區域包括第一區域
1、第二區域II以及第三區域III。請復參考第2b圖，在一實施例中，遮蔽區M更進一步是圍繞著可視區V的周邊，遮蔽區M的第一區域I是圍繞可視區I，第二區域II圍繞第一區域I，且第三區域III圍繞第二區域II。
[0083]蓋板110可採用透明絕緣材料，如玻璃材質或PET等塑膠材質。蓋板110可為硬質基板或可擾式基板。蓋板110可為平面形狀、曲面形狀，或前述之組合，更具體地，在一實施例中，蓋板HO例如為2.5D玻璃或3D玻璃。
[0084]第二區域II的寬度可介於1.5mm至3.5mm,第三區域III的寬度可介於0.25mm至
0.5_。然而，本領域具通常知識者應可了解遮蔽區132的第一區域1、第二區域I1、第三區域III的寬度也可視裝置需要調整為其它寬度，並非以此為限。另，第一區域1、第二區域
I1、第三區域III亦不限定於圖2所示的形狀。
[0085]參照第3、7、9圖，在步驟602與步驟604之間，可先在可視區V內的蓋板110上形成電極部131，其中，電極部131包含複數個排列成列的第一電極131X，複數個排列成行的第二電極131Y，以及連接相鄰的第二電極131Y的複數連接部131Z。電極部131採用透明導電材料，例如為奈米銀絲(Silver Nano-ffire, SNW)、碳奈米管(Carbon nanotube, CNT)、石墨烯(Graphene)以及氧化金屬(ITO、AZ0..)等。電極部131的形成方法例如為全面性的沉積透明導電材料層，而後再利用微影、蝕刻製程將透明導電材料層圖案化，以形成電極部131。上述沉積的方法例如為濺鍍(sputtering)，或其他已知的沉積方法。在一實施例中，電極部131採用銦錫氧化物(ITO)材料，其形成溫度可介於300至350°C。
[0086]而後，參照第10圖，在步驟604中在遮蔽區M的第一區域I及第二區域II內形成第一遮蔽層120，其中，位於第二區域II內的第一遮蔽層120具有漸變圖案(圖中未顯示，請參照第4a至4g圖)。在一些實施例中，漸變的圖案包括複數個相同或相異的圖形、符號、文字、數字、或前述之組合。在另一實施例中，漸變的圖案包括複數個陣列式排列的孔洞。在又一實施例中，漸變的圖案包括複數個三角形、圓形、矩形、或前述之組合。第一遮蔽層120系主要由樹脂、顏料、感光劑和溶劑組成的有色光阻材料，且其粘度可小於150cps，例如介於3cps至50cps,或者介於60cps於lOOcps。在一較佳實施例中，第一遮蔽層120採用黑色光阻材料，其粘度可介於3至50cps。形成第一遮蔽層漸變的圖案的方法例如為微影、蝕亥IJ，或者可為任何已知或未來發展的圖案化方法。
[0087]繼續參照第11圖，在步驟604與步驟606之間，在電極部131的各連接部131Z上方形成絕緣部132。絕緣部132可採用絕緣材料，例如為光阻，其可利用微影或印刷製程將此絕緣材料圖案化，形成絕緣部132。在一實施例中，絕緣部132為有機或無機的絕緣材料，例如為聚亞醯胺(polyimide)、環氧樹脂等材料。
[0088]然後，在絕緣部132上形成跨接部133。此外，可同時在第一遮蔽層120上形成與感測層130電性連接的導電部140。跨接部133可為銀、鋁等金屬材料、銦錫氧化物(ITO)等透明導電材料，或前述之組合。且較佳地，跨接部133與導電部140採用銦錫氧化物(ITO)等透明導電材料，如此可使避免信號引線層150採用金屬等材料時，直接電性連接電極部131，造成信號引線層150可視的問題。形成跨接部133和導電部140可採用微影與蝕刻製程或者印刷製程。
[0089]在一實施例中，當電極部131採用銦錫氧化物(ITO)材料時，其形成溫度可介於300°C至350°C ;跨接部132A亦可採用銦錫氧化物(ITO)材料，其形成溫度介於20°C至30°C，但並不以此為限。高溫形成的銦錫氧化物(ITO)和低溫形成的銦錫氧化物(ITO)，在採用微影蝕刻工藝形成圖案化形狀時，所用的蝕刻液不同，亦即在形成跨接部133和導電部140時，並不會破壞已形成的電極部131。至此，感測層130形成，其組成元件前已詳述，故此處不再贅述。
[0090]另不難理解，在另一實施例中，當感測層採用如第6圖所示的結構時，電極部531可採用銦錫氧化物(ITO)材料，其形成溫度可介於20°C至30°C ;跨接部533亦可採用銦錫氧化物材料，其形成溫度可介於300°C至350°C，且較佳地，導電部540亦採用銦錫氧化物(ITO)材料，其可與電極部531同時形成。
[0091]參照第11圖，在步驟606中，在第一遮蔽層120上形成信號引線層150，信號引線層150與電極部131可藉由導電部140電性連接。在另一實施例中，可不形成導電部140，即可直接將信號引線層150與電極部131電性連接。信號引線層150的材料例如為銀、鋁等金屬材料、銦錫氧化物(ITO)等透明導電材料，或前述之組合。較佳地，信號引線層150金屬材料，這些材料具有較佳的導電性。信號引線層150可藉由為影與蝕刻製程或者印刷製程形成。在另一較佳實施例中，若跨接部133與信號引線層150採用相同材料，如皆為金屬材料，則跨接部133可與信號引線層150在步驟606中同時完成。
[0092]參照第11圖，在步驟606與步驟608之間，本發明的觸控裝置的形成方法，更包括在信號引線層150形成之後形成保護層150。更具體地，參照第11圖，保護層160的一面在第三區域III是設置在蓋板110的表面上，在第二區域II是設置在第一遮蔽層120的平整表面上，在第一區域I是設置在信號引線層150上，而保護層160的另一面則用以承載後續形成的第二遮蔽層170 (如第12圖所示)。保護層160可採用透明絕緣材料，例如為光阻或二氧化矽。在一實施例中，當保護層160採用透明光阻材料時，其厚度可為1500nm至2000nm。在另一實施例中，當保護層160採用二氧化娃材料時,其厚度可為IOnm至30nm。保護層160的材料和厚度可根據不同產品需求作調整，並不限定於以上材料及厚度。
[0093]參照第12圖，在步驟608中，在位於遮蔽區M內的保護層160上形成第二遮蔽層170。
[0094]在一實施例中，第二遮蔽層170可僅位於靠近蓋板110邊緣的第三區域III內。
[0095]在一實施例中，第二遮蔽層170的設置範圍可更包括第二區域II，即第二遮蔽層170位於第二區域II和第三區域III內。
[0096]在一較佳實施例中，如第12圖所示，第二遮蔽層170的設置範圍更包括第二區域II與第一區域I，即第二遮蔽層170可由遮蔽區M的第一區域I延伸至第二區域II及第三區域III，使得第二遮蔽層170的範圍涵蓋整個遮蔽區M。
[0097]在上述實施例中，是在信號引線層150形成之後形成保護層160，而在保護層160形成之後再形成第二遮蔽層170。應注意的是，在另一實施例中，如第5圖所繪示，第二遮蔽層170是在信號引線層150形成之後形成，而後再形成保護層160，在此實施例中，第二遮蔽層170在第三區域III是設置在蓋板110的表面上，而在另一較佳實施例中，第二遮蔽層170的形成範圍可更包括第二區域II與第一區域I，第二遮蔽層170在第二區域II是設置在第一遮蔽層120的平整表面上；第二遮蔽層170在第一區域I是設置在信號引線層150上。
[0098]在一實施例中，第二遮蔽層170可與第一遮蔽層120具有不同的粘度，且較佳地，第二遮蔽層170採用粘度較高的材料(例如可介於3500cps-12000cps，更具體地，可為4000cps、6000cps或7500cps)，以便較好地控制第二遮蔽層170的表面平整度。在一較佳的實施例中，第二遮蔽層170可為有色油墨材料(較佳地如黑色油墨)，其可由顏料、連結料和助劑所組成，且粘度可達上萬cps，其可通過印刷方式形成。較佳地，第一遮蔽層120與第二遮蔽層170採用相同或相近的顏色。
[0099]一般而言，在形成觸控裝置的遮蔽層時，需將光阻塗布至蓋板(例如為玻璃)邊緣。然而，由於光阻液體與玻璃邊緣的物理影響，造成觸控裝置的遮蔽層在基板邊緣容易出現偏薄、偏厚、缺失等不平整的現象。然而，在本發明一實施例的觸控裝置中，可利用二次塗布技術而避免上述問題。在第一次塗布後，可移除遮蔽區的邊緣的不平整部分(即第一遮蔽層採用內縮的設計)，而留下具平整表面的第一遮蔽層，在平整表面上可形成具有漸變區域及正常區域的第一遮蔽層(例如為黑色光阻層)。而後，再利用與第一遮蔽層顏色相近或相同的塗料進行第二次塗布，而形成完全覆蓋遮蔽區或僅覆蓋部分遮蔽區的第二遮蔽層(例如為黑色油墨層)。藉此，可避免觸控裝置的邊緣會有偏薄、偏厚、缺失等不平整的現象。應注意的是，若僅為重複塗布顏色相同或相近的塗料，雖然在蓋板的塗布面的顏色一致，但不可避免，肉眼可察覺出色差(類似於常見顏料在不同時間點塗布，會出現色差的情況)。因此，在本發明的實施例中，藉由在第一遮蔽層及第二遮蔽層的交界處的漸變的圖案，可讓第一、第二遮蔽層的顏色交錯，使得其色差能夠有良好的過渡，而達到肉眼不容易分辨的程度。另，當第一遮蔽層與第二遮蔽層採用不相同的顏色時，藉由在第一遮蔽層及第二遮蔽層的交界處的漸變的圖案，將使得觸控裝置的遮蔽區具有複合顏色和圖案，進而可滿足觸控裝置遮蔽區顏色和圖案多樣化的需求。
[0100]雖然本發明已以數個較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬【技術領域】中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作任意的更動與潤飾，因此本發明的保護範圍當視權利要求書所界定者為準。
【權利要求】
1.一種觸控裝置，其特徵在於，包括: 一蓋板，具有一可視區及一位於該可視區側邊的遮蔽區，該遮蔽區從該可視區往該蓋板邊緣的方向依序劃分的區域包括一第一區域、一第二區域以及一第三區域； 一第一遮蔽層，設置於該蓋板的表面且位於該第一區域及該第二區域內，其中該第一遮蔽層具有一平整表面； 一信號引線層，位於該第一區域內且設置於該第一遮蔽層的該平整表面上；以及一第二遮蔽層，至少位於靠近該蓋板邊緣的該第三區域內，其中，該第二遮蔽層的粘度大於該第一遮蔽層的粘度。
2.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該第一遮蔽層的粘度介於3cps至50cps,該第二遮蔽層的粘度介於3500cps — 12000cps。
3.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該第一遮蔽層系一光阻層，該第二遮蔽層系一油墨層。
4.根據權利要求1 所述的觸控裝置，其特徵在於，該第一遮蔽層與該第二遮蔽層的顏色相同。
5.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該第一遮蔽層與該第二遮蔽層的顏色不同。
6.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該遮蔽區的該第二區域的寬度介於1.5mm 至 3.5mm。
7.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該遮蔽區的該第三區域的寬度介於0.25mm 至 0.5mm。
8.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該遮蔽區更進一步是圍繞著該可視區的周邊，該遮蔽區的該第一區域是圍繞該可視區，該第二區域圍繞該第一區域，且該第三區域圍繞該第二區域。
9.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該第二遮蔽層的設置範圍更包括該第二區域。
10.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，位於該第二區域內的該第一遮蔽層具有一漸變圖案。
11.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，該第二遮蔽層的設置範圍更包括該第二區域與該第一區域，其中: 該第二遮蔽層在該第三區域是設置在該蓋板的表面上； 該第二遮蔽層在該第二區域是設置在該第一遮蔽層的該平整表面上；以及 該第二遮蔽層在該第一區域是設置在該信號引線層上。
12.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，更包括一保護層，其中該保護層的一面在該第三區域是設置在該蓋板的表面上，在該第二區域是設置在該第一遮蔽層的該平整表面上，在該第一區域是設置在該信號引線層上，而該保護層的另一面則承載該第二遮蔽層。
13.根據權利要求1所述的觸控裝置，其特徵在於，更包括一電性連接該信號引線層的感測層，該感測層是設置於該蓋板的表面上且位於該蓋板的該可視區範圍內。
14.根據權利要求13所述的觸控裝置，其特徵在於，該感測層包含:一電極部，包含複數個排列成列的第一電極、複數個排列成行的第二電極，以及複數個連接相鄰該第二電極的連接部； 複數跨接部，用以連接在同一列上且相鄰的該第一電極；以及 複數絕緣部，設置於該連接部與該跨接部之間。
15.根據權利要求13所述的觸控裝置，其特徵在於，更包含一導電部，該導電部用以電性連接該感測層與該信號引線層。
16.一種觸控裝置的形成方法，其特徵在於，包括: 提供一蓋板，該蓋板具有一可視區及一位於該可視區側邊的遮蔽區，該遮蔽區從該可視區往該蓋板邊緣的方向依序劃分的區域包括一第一區域、一第二區域以及一第三區域；形成一第一遮蔽層於該蓋板的表面且位於該第一區域及該第二區域內，其中該第一遮蔽層具有一平整表面； 形成一信號引線層於該第一區域內且設置於該第一遮蔽層的該平整表面上；以及形成一第二遮蔽層於至少靠近該蓋板邊緣的該第三區域內，其中，該第二遮蔽層的粘度大於該第一遮蔽層的粘度。
17.根據權利要求16所述的觸控裝置的形成方法，其特徵在於，該第二遮蔽層的形成範圍更包括該第二區域。
18.根據權利要求17所述的觸控裝置的形成方法，其特徵在於，位於該第二區域內的該第一遮蔽層具有一漸 變圖案。
19.根據權利要求16所述的觸控裝置的形成方法，其特徵在於，該第二遮蔽層是在該信號引線層形成之後形成，而該第二遮蔽層的形成範圍更包括該第二區域與該第一區域，其中: 該第二遮蔽層在該第三區域是形成在該蓋板的表面上； 該第二遮蔽層在該第二區域是形成在該第一遮蔽層的該平整表面上；以及 該第二遮蔽層在該第一區域是形成在該信號引線層上。
20.根據權利要求16所述的觸控裝置的形成方法，其特徵在於，更包括在該信號引線層形成之後形成一保護層，而在該保護層形成之後形成該第二遮蔽層，其中該保護層在該第三區域是形成在該蓋板的表面上，在該第二區域是形成在該第一遮蔽層的該平整表面上，在該第一區域是形成在該信號引線層上。
21.根據權利要求16所述的觸控裝置的形成方法，其特徵在於，更包括形成一電性連接該信號引線層的感測層，該感測層是形成於該蓋板的表面上且位於該蓋板的該可視區範圍內。
【文檔編號】G06F3/041GK103995609SQ201310051706
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2013年2月17日 優先權日:2013年2月17日
【發明者】李裕文, 阮克銘, 紀賀勳, 林奉銘, 許賢斌, 唐傳代 申請人:宸鴻科技(廈門)有限公司