X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法
2023-11-01 04:34:12 2
X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法
【專利摘要】本發明是一種X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，在對X螢光光譜儀分光室內表面的可視油汙、水汽進行清理擦除後實施，其特徵在於包括以下步驟：對分光室進行加溫烘烤使殘留的油汙水分揮發出來；將分子篩置入分子篩儲存盒並使分子篩儲存盒進入分光室對揮發出來的油汙水分進行吸附；進行X螢光光譜儀分光室負壓脈衝氣流吹掃油汙、水汽；使各分光器輪流交替真空洩漏,通過脈衝負壓吹掃氣流進行清除；以及使通過脈衝負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽排出，以完成分光室內汙染的徹底清除。本發明方法清除光譜儀分光室內部油汙水汽效率高、清除徹底，使分析測試數據穩定，運行可靠；操作方法掌握容易，使用中不會對分光系統造成損壞。
【專利說明】X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種理化檢測裝置，具體說有關一種X螢光光譜儀的清潔方法。
【背景技術】
[0002]X螢光光譜儀擔負著進廠原料如鐵礦石和各類輔料的品位測試、冶煉所需的燒結礦等爐料的成分分析、進行高爐鐵水各化學元素的成分分析、各類成品板材鍍層厚度的測試，以及承擔大量科研項目中試樣的測試分析任務，因此X螢光光譜儀是現代冶金企業重要的理化檢測儀器設備。
[0003]X螢光光譜儀分光系統結構複雜內部形狀不規則、涉及部件多，出現油汙水汽汙染清理困難，作業效率低下針對性差，很難徹底清除，由於油汙水汽殘留的存在嚴重影響了分析檢測數據的準確性。在維護時雖然能對分光系統內表面可視油汙水汽進行常規清理，但在之後很長的一段時間內沉集在分光器犄角旮旯無法解體清理的油汙、水汽會逐漸揮發出來，汙染樣品造成分析檢測數據的異常，尤其是硫、磷、矽等元素化學含量分析受影響尤甚。分光系統油汙清理效率低、速度慢，且清洗效果不徹底。不可能對大型精密的X射線電子光學系統進行分解清洗，由於缺少系統性和針對性的分光系統油汙清理方法，不能有效地指導X螢光光譜儀分光系統的點檢維護作業，檢修時間長、效果差造成不必要的時間損失，造成分光室的二次汙染，增加停機時間降低了儀器運行的有效運行率。
[0004]分光室內的油汙中硫、磷、矽等元素的含量較高，雖然經過常規清理，但殘留在分光室內的剩餘油汙在X射線熱輻射的作用下，揮發出來並汙染進入分光室的待測樣品，由於這些汙染物的幹擾使硫、磷、矽等輕元素含量測量不準，如在未徹底進行分光室清理時，測量鐵水樣品誤差極大。
[0005]X螢光光譜儀分光系統的X射線管由於老化或其質量缺陷會造成鈹窗破裂，引起高壓絕緣油進入分光系統，使光譜儀分光室和真空管道內部汙染；另外，真空系統中的真空泵在長期運行後，其中的真空泵油也會對真空分光室造成擴散汙染。此時X螢光光譜儀就無法正常使用，因此需要對所述的汙染進行清除。X射線管的最大輸出功率受陽極元素熔點和導熱度的限制，陽極產生的熱量要用流動的水進行冷卻。由於冷卻水管的劣化破裂等因素，水汽不可避免進入真空分光室而引起汙染。為了防止上述故障引起X螢光光譜儀分光系統的汙染，就需要對分光室內表面的油汙、水汽進行常規清理擦除後，還需在保證設備的完整性不進行解體的情況下，對分光室內表面殘餘的油汙和水汽高效快速地予以清除。
[0006]在發明名稱為「真空管道清潔裝置及系統」的中國專利申請公開第CN201020210793.7號介紹了一種真空管道清潔裝置及系統，其中真空管道清潔裝置包括:至少二個清潔杆、至少一個毛刷頭以及牽引裝置；所述清潔杆之間以配合結構活動連接並構成清潔杆組；所述毛刷頭設置在至少一個清潔杆上；所述牽引裝置設置在所述清潔杆組的兩端。適用於清潔彎曲連接處較多的真空管道，用牽引裝置來回拉動清潔杆來清理真空管道。該專利申請涉及機械硬體管道清潔裝置，並不涉及X螢光光譜儀分光室內殘留油汙水汽的清除。
[0007]在發明名稱為「真空管線清潔分離系統」的中國專利申請公開第CN200780037472.2號介紹了一種真空管線清潔分離系統，其用於從真空排除物中除去液體物質和碎屑以及提供不含汙染物的真空返回，利用真空排出管線與輸入真空物流誘發的循環旋轉的氣旋分離液體和碎屑，使液體和碎屑落到底部排出到收集室，而清潔的真空流引向清潔的真空出口孔。該專利申請涉及真空管線清潔分離系統，也並不涉及X螢光光譜儀分光室內殘留油汙水汽的清除。
【發明內容】
[0008]本發明的目的是提供一種X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，可高效快速地徹底清除X螢光光譜儀真空分光室內表面殘餘的油汙和水汽，以避免引起X螢光光譜儀分光系統的汙染。
[0009]本發明的一種X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，在對X螢光光譜儀分光室內表面的可視油汙、水汽進行清理擦除後實施，其特徵在於包括以下步驟:對分光室進行加溫烘烤使殘留的油汙水分揮發出來；將分子篩置入分子篩儲存盒並使分子篩儲存盒進入分光室對揮發出來的油汙水分進行吸附；進行X螢光光譜儀分光室負壓脈衝氣流吹掃油汙、水汽；使各分光器輪流交替真空洩漏，通過脈衝負壓吹掃氣流進行清除；以及使通過脈衝負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽排出，以完成分光室內汙染的徹底清除。
[0010]其中，對分光室進行加溫烘烤是開啟X射線並維持一定功率的熱輻射和分光系統恆溫加熱。
[0011]其中，所述分子篩儲存盒包括上蓋和容器主體，所述分子篩儲存盒的外形符合X螢光光譜儀樣品系統尺寸，並且分子篩儲存盒上下四周均有壓力釋放孔。
[0012]其中，在所述分子篩儲存盒的上蓋安裝有小於分子篩顆粒目數的金屬網罩。
[0013]其中，所述對揮發出來的油汙水分進行吸附的步驟包括將裝有分子篩的儲存盒通過樣品搬送系統送入X螢光光譜儀樣品室進行真空預抽，以及待到真空度正常後打開分光室光閘，以使儲存盒內的分子篩對分光室中殘留的油汙蒸汽和水汽分子進行有效吸附。
[0014]其中，儲存盒內的分子篩對分光室中殘留的油汙蒸汽和水汽分子進行吸附後再由原路退出，以此往復完成吸附作業。
[0015]其中，在分光器的通道上加設有氣流洩漏口並加裝控制電磁閥，電磁閥通過自封閉快速接頭與分光器連接；電磁閥不通電時一直處於關閉狀態，使分光室保持真空度；進行X螢光光譜儀分光室負壓脈衝氣流吹掃油汙、水汽的步驟，是在維持著高真空度的負壓狀態下；當進行分光室汙染清除時，由脈衝信號發生器產生可調節的周期脈衝信號推動放大電路，產生脈衝電壓並驅動電磁閥以一定的周期頻率開閉，以形成分光室的分光器真空洩漏，以對電磁閥開通周期的調節控制形成脈衝氣流，以形成負壓脈衝氣流通道，從而形成負壓脈衝吹掃氣流。
[0016]其中，通過脈衝負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽是沿著真空管道排出到真空泵外面，以完成分光室內汙染的清除。
[0017]其中X螢光光譜儀真空分光室殘留油汙水汽的清除方法的技術參數設置成:分光系統啟動恆溫加熱功能，使分光室保持35±1°C ;X射線功率維持在600W，保持分光室內的熱輻射；使用納X型分子篩進行吸附；分光系統分光室內維持30±2Pa壓力的真空洩漏量；電磁閥開閉動作頻率為0.2?1Hz。
[0018]本發明的有益效果是:本發明方法清除光譜儀分光室內部油汙水汽效率高、清除徹底，運用本方法不必對光譜儀分光室的拆卸分解和重新安裝，作業時間縮短效率高，尤其避免了重新安裝分光室、分光通道帶來的電子光學系統的精密調整，這種調整工作多為設備製造廠的工程師在專業設備支持下方能進行。本發明方法可適用於不同型號的X螢光光譜儀，適用範圍廣；操作方法掌握容易、上手快，使用中不會對分光系統造成損壞，油汙水汽徹底清除後X螢光光譜儀硫、磷、矽等元素分析測試數據穩定，運行可靠。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0019]圖1是本發明一個實施例的光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法的流程圖；
[0020]圖2是本發明方法所採用的裝載分子篩的防飛濺功能的分子篩儲存盒的主視半剖視圖；
[0021]圖3是圖2的俯視圖；
[0022]圖4是分子篩儲存盒進入X螢光光譜儀分光室進行吸附油汙、水氣示意圖；
[0023]圖5是X螢光光譜儀分光器交替負壓脈衝氣流吹掃示意圖；
[0024]圖6是改裝增加的負壓脈衝氣流產生控制裝置的示意圖。
【具體實施方式】
[0025]為讓本發明的上述目的、特徵和優點能更明顯易懂，以下結合附圖對本發明的【具體實施方式】作詳細說明。首先需要說明的是，本發明並不限於下述【具體實施方式】，本領域的技術人員應該從下述實施方式所體現的精神來理解本發明，各技術術語可以基於本發明的精神實質來作最寬泛的理解。圖中相同或相似的構件採用相同的附圖標記表示。
[0026]現結合附圖具體說明本發明的一個實施例的一種X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法(以下簡稱清除方法)。該方法在對X螢光光譜儀分光室內表面的可視油汙、水汽進行清理擦除後實施，如圖1所示，包括以下步驟:
[0027]p1:對分光室進行加溫烘烤使油汙水分揮發出來；
[0028]P2:將分子篩置入分子篩儲存盒並使分子篩儲存盒進入分光室對揮發出來的油汙水分進行吸附(見圖2至圖4);
[0029]P3:從分光器真空洩漏口處，通過自封閉快速插拔接頭接入氣體洩漏電磁閥管路，在外部脈衝信號發生器和驅動電路的控制下，洩漏有規律的負壓脈衝吹掃氣流對分光室進行油汙水汽吹掃清除(見圖5和圖6)；
[0030]P4:使各分光器輪流交替真空洩漏(使分光室內真空度為30Pa左右)，通過脈衝負壓吹掃氣流進行清除；
[0031]P5:使通過脈衝負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽沿著真空管道排出到真空泵外面，完成分光室內汙染的徹底清除。
[0032]現結合圖2至圖6詳細說明上述各步驟。
[0033]經過對X螢光光譜儀分光室6內表面可視油汙、水汽進行清理擦除後，還有油汙、水汽殘留，經過上述各步驟進行進一步清理。
[0034]在Pl步驟中，首先，開啟X螢光光譜儀的X射線管7使X射線維持一定功率並打分光系統開恆溫加熱功能，對分光室6起到烘烤作用，在熱輻射的作用下分光室6內部殘留的油汙、水分及時揮發出來，以便於進行吸附和吹掃。
[0035]在P2步驟中，如圖4所示，將裝有分子篩(未圖示)的分子篩儲存盒11 (如圖2、3所示)通過樣品搬送系統13送入X螢光光譜儀樣品室12進行真空預抽，待到真空度正常後打開分光室光閘(快門)10，儲存盒11內的分子篩對分光室6中殘留的油汙蒸汽和水汽分子進行有效吸附。
[0036]在P3步驟中，進行X螢光光譜儀分光室6負壓脈衝氣流吹掃油汙、水汽，當吹掃氣流以間歇脈衝形式在分光室6內運動時可以得到很好的油汙水分清除效果。X螢光光譜儀分光室6處於良好的密封形態,平時都維持著高真空度,例如5Pa以下,相對分光室6的外部大氣環境就形成了負壓狀態，利用這一負壓的氣體動能，如圖5和圖6所示，分光器6上洩漏電磁閥21在脈衝信號發生器17和驅動電路控制下以一定的周期頻率開閉，人為造成分光室6的分光器8真空洩漏，形成負壓脈衝吹掃氣流，對分光室6進行清掃去汙染。
[0037]在P4步驟中，為了防止真空泵14、15的工作負荷過大引起故障，採用各分光器8輪流交替真空洩漏，例如使分光室6內真空度為30Pa左右，形成負壓脈衝吹掃氣流，此時也要開啟X射線和恆溫加熱功能保持一定的熱輻射，讓發揮出來的油氣、水汽被氣流吹走。
[0038]在步驟5中，使通過脈衝負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽沿著真空管道16排出到真空泵14、15外面，完成分光室6內汙染的徹底清除。
[0039]其中，開啟X射線並維持一定功率(如30KV，20mA ;相當於600W功率的熱輻射)和分光系統恆溫加熱功能，起到烘烤作用，在熱輻射的作用下分光室6內部殘留的油汙、水分及時揮發出來，進行吸附和吹掃。
[0040]其中，用分子篩在X螢光光譜儀分光室6中對殘餘油汙、水汽進行吸附去除，分光室6由於抽真空始終處於負壓狀態，分子篩進入分光室6要經過由大氣到真空環境的變化，吸附完畢後又要從真空到大氣環境的轉換。本方法將適量的分子篩放入專門設計的金屬材質的分子篩儲存盒11中。分子篩儲存盒11包括上蓋2和容器主體3，所述分子篩儲存盒11的外形符合X螢光光譜儀樣品系統尺寸，並且分子篩儲存盒11四周和底部均有壓力釋放孔
4、5，進入真空環境後儲存盒內氣體能快速平穩排出達到內外壓力平衡，以防止分子篩進入真空環境後壓力驟減四處飛濺造成二次汙染；同時在上蓋2安裝有小於分子篩顆粒目數的金屬網罩I以對分子篩約束再放入儲存盒的容器主體3內，使用時將儲存盒11通過樣品搬送系統13送入X螢光光譜儀樣品室12進行真空預抽，待到真空度正常後打開分光室光閘(快門)10，儲存盒11內的分子篩對分光室6中殘留的油汙蒸汽和水汽分子進行有效吸附，吸附後再由原路退出，以此往復完成吸附作業。這樣的方法避免了人工對分光室6放大氣，打開分光室6去放置分子篩再抽真空,吸附後分光室6放大氣打開分光室6取出分子篩這種冗長繁雜的手工作業方式。
[0041]其中，經過吸附後分光室6殘留油汙、水汽已減少，但尚未徹底清除，使用負壓脈衝氣流吹掃。對X螢光光譜儀分光系統的分光器通道進行適當改造，如圖6所示，改裝增加的負壓脈衝氣流產生控制裝置，包括:在分光器通道上增加氣流洩漏控制電磁閥21，電磁閥通過自封閉快速接頭與連接氣管23、快速接口 24與與分光器8的分光器洩漏快速接口 9連接，電磁閥21不通電時一直處於關閉狀態，使分光室6保持良好的真空度，當進行分光室汙染清除時，由脈衝信號發生器17產生可調節的周期脈衝信號，去推動放大電路例如信號放大器18，產生脈衝電壓並通過繼電器19驅動電磁閥21，由於電磁閥21的周期開閉造成間歇狀態的真空洩漏，在分光器6內形成負壓脈衝氣流,氣流由分光器8外向分光室6內部流動，吹掃受汙染的分光室6內表面，經過連續吹掃後汙染油氣和水汽分子被氣流帶走，並通過真空管道16經真空泵14、15排除，最終達到不拆卸分解分光系統而清潔分光室內部汙染的目的。
[0042]其中，分光室6的各分光器8的通道8a、8b交替吹氣:由於X螢光光譜儀真空系統中真空泵抽氣能力有限，且真空規(一般為皮拉尼規)在低真空環境下工作時，極易使其鉬絲燒毀開路，無法觀察分光室真空狀態，因此使用每個分光器8的通道8a、8b輪流交替吹氣，保持分光室6相對高真空環境，減輕真空泵14、15的工作負荷、防止真空規在低真空環境下損壞。
[0043]試驗過程:在X螢光光譜儀分光室被油汙、水汽汙染後，經分光室內部初步清理後運用本方法對分光室殘留油汙、水汽進行徹底清除，對殘留物清理、去除使用分子篩吸附和負壓吹掃組合方法。
[0044]本發明的油汙水汽的清除方法技術參數設置如下:
[0045]I)分光系統啟動恆溫加熱功能，使分光室保持35± 1°C ；
[0046]2) X射線功率維持在600W (30KV，20mA)，保持分光室內的熱輻射；
[0047]3)使用納X型分子篩進行吸附；
[0048]4)分光系統分光室內維持30±2Pa壓力的真空洩漏量；
[0049]5)電磁閥開閉動作頻率為0.2?1Hz。
[0050]與其他技術相比本發明方法有如下優點:
[0051]⑴以X螢光光譜儀適當的X射線功率和分光系統的恆溫加熱功能使分光室6內產生熱量，在熱輻射的烘烤作用下加快了分光室內殘餘油汙、水汽分子的揮發，為分子篩吸附和負壓吹掃氣流的應用創造了良好條件。
[0052]⑵分子篩吸附:分子篩具有高強度，熱穩定性好，比表面積大，吸附性強的優點，如鈉X型分子篩(X晶結構型鈉型)能吸附臨界直徑1A以下的油氣和水汽分子，其外形呈顆粒狀有比較高的機械強度，進入真空環境後分子篩顆粒不會因為壓力突然變化而破裂；同時分子篩進入分光室6後在X射線照射下隨著溫度的升高能保持物理化學性能的穩定。將適量的分子篩放入專門設計的金屬儲存盒11中，分子篩儲存盒11外形符合X螢光光譜儀樣品系統尺寸便於輸送，為了防止分子篩進入真空環境後壓力驟減四處飛濺造成二次汙染，儲存盒上下四周均有壓力釋放孔4、5，進入真空環境後儲存盒內氣體能快速平穩排出達到內外壓力平衡；同時用小於分子篩顆粒目數的金屬網罩I對分子篩放置約束再放入儲存盒11內，使用時將分子篩儲存盒11通過樣品搬送系統13送入X螢光光譜儀樣品室12進行真空預抽，待到真空度正常後打開分光室快門10，儲存盒11內的分子篩對分光室中殘留的油汙蒸汽和水汽分子進行有效吸附。
[0053]⑶分光器8負壓吹掃:正常狀態下X突光光譜儀的分光室6外部是大氣狀態,而分光室6內是始終處於真空環境，即用真空泵14、15通過管道16對分光室6進行連續抽氣，以保持分光室6內有5Pa壓力以下的真空度。如果適當造成人為真空洩漏利用內外壓力差形成負壓氣流通道，對分光室內殘留的油汙和水汽進行連續氣流吹掃，可以最終去除油汙和水汽殘留。對X螢光光譜儀分光系統的分光器通道進行適當改造，在分光器通道上增加氣流洩漏口並加裝控制電磁閥21，平時不加電時電磁閥一直處於關閉狀態，當進行分光室汙染清除時，以脈衝信號發生器17和驅動電路通過對電磁閥開通周期的調節控制形成脈衝氣流通過(使分光室真空度人為調整到20?30Pa壓力的真空度)，即形成負壓脈衝氣流通道，氣流由分光器外向分光室內部流動，吹掃受汙染的分光室內表面，經過連續吹掃後汙染油氣和水汽分子被氣流帶走，並通過真空管道16經真空泵14、15排除，最終達到不拆卸分解分光系統而清潔分光室內部汙染的目的。綜上所述，本發明方法清除光譜儀分光室內部油汙水汽效率高、清除徹底，運用本方法不必對光譜儀分光室的拆卸分解和重新安裝，作業時間縮短效率高，尤其避免了重新安裝分光室、分光通道帶來的電子光學系統的精密調整，這種調整工作多為設備製造廠的工程師在專業設備支持下方能進行。本發明方法可適用於不同型號的X螢光光譜儀，適用範圍廣；操作方法掌握容易、上手快，使用中不會對分光系統造成損壞，油汙水汽徹底清除後X螢光光譜儀硫、磷、矽等元素分析測試數據穩定，運行可靠。
[0054]油汙水汽清除前後的X螢光光譜儀測量效果對比(見表一)，以英國標樣局生鐵標樣SCRM 652/4在MXF-2300 X螢光光譜儀上連續10次測量化學含量為例(X射線管電壓40KV,管電流60mA，積分時間40秒):
[0055]表一:X螢光光譜儀對比表
[0056]__清除前清除後元素名稱他Si% _P%m% 矽Si% _P%硫8%
第 I 次酒量0.93 0.0700.1360.910.0690.132
第 2 次測 iit1,01 0.0780.1420.910.0690.132
第 3 次測童1.09 0.0810.1490.91__前後0.132
第 4 次測1,17__0.0820.154__(X91__0.0680.133
第 5 次測量1.20 0.0900.1660.910.0690.133
第 6次涵讀1,26 0.1000.1690.910.0680.133
第 7 次酒量1.29 0.1070.1760.910.0690.133
第 8次酒量 1.35__0.1110.189__091__0.0690.133
第 9 次測量 1.47__0.1160.195__091__0.0690.132
第 10 次測1.55 0.1190.2030.910.0690.133
M
平均值1.3230.09540.16790.91__0.0680.132
標準偏差0.194750.01746 0,022900.0000 0.0004210.000516
變動係數14.72%18.30%13.64%0.0000% 0.61284%0.38944%:判定結論不合I#不合I#不合格合I# 合格合格
[0057]綜上所述，通過恆溫加熱，使分光室產生熱量以利用熱輻射作用將X螢光光譜儀分光室內殘留油汙水汽揮發；利用分子篩儲存盒11將分子篩放入分光室6，通過真空預抽和開啟分光室光閘10進行吸附殘留油氣和水汽分子；在分光真空系統中形成適當的真空洩露量，形成吹掃氣流連續帶走分光室6、真空管道16的殘留油汙、水汽，並通過真空泵14、15排洩口排除。為了保持分光室相對高真空環境，減輕真空泵的工作負荷、防止真空規在低真空環境下損壞，採取各通道交替吹掃方式。
[0058]現說明本發明的方法的一個應用實例如下。
[0059]煉鋼爐前快分試驗室MXF2300 X螢光光譜儀因X射線管質量缺陷鈹窗破裂，引起高壓絕緣油和冷卻水進入分光室和真空管路，造成分光器和真空管道內部嚴重汙染。對受汙染的分光室和真空管道內表面進行了常規清潔和擦除後，儀器運行後隨著分光室溫度升高，在分光室恆溫加熱功能和X射線熱輻射作用下，沉集在分光器犄角旮旯無法直接清除的殘餘油汙、水汽逐漸揮發出來，汙染樣品造成爐前鐵水樣品分析時矽、磷和硫等輕元素檢測數據出現異常波動，無法滿足爐前的分析檢測要求。在保證設備的完整性不進行解體的情況下，首先採用熱輻射下分子篩吸附法，再對分光室中21個元素通道分光器進行輪流交替負壓脈衝氣流吹掃法，終於高效快速地清除殘餘的絕緣油油汙和水汽，保證了爐前試驗室X螢光光譜儀穩定運行。
[0060]本發明滿足了 X螢光光譜儀分光系統被汙染後，在保證設備的完整性不進行解體的情況下，不損壞分光系統電子光學器件和X射線光路的空間幾何位置，高效、徹底地清除分光室和真空管道殘留油汙、水汽，防止被測量樣品汙染，保證X螢光光譜儀分析數據尤其是輕元素數據的穩定、可靠。本發明方法適應範圍廣，適合不同類型的X螢光光譜儀上，有廣泛的應用推廣價值。
[0061]應理解，在閱讀了本發明的上述講授內容之後，本領域技術人員可以對本發明作各種改動或修改，這些等價形式同樣落於本申請所附權利要求書所限定的範圍。
【權利要求】
1.一種X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，在對X螢光光譜儀分光室內表面的可視油汙、水汽進行清理擦除後實施，其特徵在於包括以下步驟:對分光室進行加溫烘烤使殘留的油汙水分揮發出來；將分子篩置入分子篩儲存盒並使分子篩儲存盒進入分光室對揮發出來的油汙水分進行吸附；進行X螢光光譜儀分光室負壓脈衝氣流吹掃油汙、水汽；使各分光器輪流交替真空洩漏，通過脈衝負壓吹掃氣流進行清除；以及使通過脈衝負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽排出，以完成分光室內汙染的徹底清除。
2.根據權利要求1所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，對分光室進行加溫烘烤是開啟X射線並維持所要求功率的熱輻射和分光系統恆溫加熱。
3.根據權利要求1所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，所述分子篩儲存盒包括上蓋和容器主體，所述分子篩儲存盒的外形符合X螢光光譜儀樣品系統尺寸，並且分子篩儲存盒上下四周均有壓力釋放孔。
4.根據權利要求3所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，在所述分子篩儲存盒的上蓋安裝有小於分子篩顆粒目數的金屬網罩。
5.根據權利要求1所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，所述對揮發出來的油汙水分進行吸附的步驟包括將裝有分子篩的儲存盒通過樣品搬送系統送入X螢光光譜儀樣品室進行真空預抽，以及待到真空度正常後打開分光室光閘，以使儲存盒內的分子篩對分光室中殘留的油汙蒸汽和水汽分子進行有效吸附。
6.根據權利要求6所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，儲存盒內的分子篩對分光室中殘留的油汙蒸汽和水汽分子進行吸附後再由原路退出，以此往復完成吸附作業。
7.根據權利要求1所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，在分光器的通道上加設有氣流洩漏口並加裝控制電磁閥，電磁閥通過自封閉快速接頭與分光器連接；電磁閥不通電時一直處於關閉狀態，使分光室保持真空度；進行X螢光光譜儀分光室負壓脈衝氣流吹掃油汙、水汽的步驟，是在維持著高真空度的負壓狀態下；當進行分光室汙染清除時，由脈衝信號發生器產生可調節的周期脈衝信號推動放大電路，產生脈衝電壓並驅動電磁閥以一定的周期頻率開閉，以形成分光室的分光器真空洩漏，以對電磁閥開通周期的調節控制形成脈衝氣流，以形成負壓脈衝氣流通道，從而形成負壓脈衝吹掃氣流。
8.根據權利要求1所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，通過脈衝負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽是沿著真空管道排出到真空泵外面，以完成分光室內汙染的清除。
9.根據權利要求1至8之任一項所述的X螢光光譜儀真空分光室的殘留油汙水汽的清除方法，其特徵在於，X螢光光譜儀真空分光室殘留油汙水汽的清除方法的技術參數設置成:分光系統啟動恆溫加熱功能，使分光室保持35± I°C ；X射線功率維持在600W，保持分光室內的熱輻射；使用納X型分子篩進行吸附；分光系統分光室內維持30±2Pa壓力的真空洩漏量；電磁閥開閉動作頻率為0.2?1Hz。
【文檔編號】B08B7/04GK104162523SQ201310182736
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2013年5月16日 優先權日:2013年5月16日
【發明者】王平, 邵星煒, 鄒誠 申請人:寶山鋼鐵股份有限公司