免灌溉植物牆體的製作方法
2023-05-23 05:05:31 2
專利名稱：免灌溉植物牆體的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種建築牆體，尤其涉及一種免灌溉的植物牆體。
目前為了美化環境，淨化空氣以及防止日曬等目的，已經有在建築物周圍地面或陽臺等處種植爬藤植物，但是種植於地面爬藤植物的覆蓋面有限，爬高亦有限，尤其不適用於高層建築。而種植於陽臺，則爬藤植物難以裝飾整個建築物，而且還需要溉灌。
本發明的目的在於克服現有技術的缺陷，提供一種免灌溉的植物牆體。
本發明的目的通過以下方式實現在建築物牆面上每隔一定高度設置一基託，基託上填充泥土及保水材料。基託橫截面為「L」形或「U」形，兩基託間的間距最佳範圍為3～10米。保水材料為高吸水性樹脂，可為TC保水材料或WT-1或WJ-1保水劑。
本發明不僅可實現美化環境，淨化空氣，防止日曬的功能，還可起到裝飾建築物表面的作用，而且安全、方便、有效，尤其是無需灌溉和養護，適合於各類建築物，尤其適用於高層建築。
附圖
為本發明結構示意圖。
以下結合實施例對本發明進行詳細說明。實施例本實施例是在建築物牆1的表面建築「L」形基託2，基託2內填充有泥土、肥料及保水TC材料填充物3。兩基託之間的間距為3米。
權利要求
1.一種免灌溉植物牆體，其特徵在於在建築物牆面上每隔一定高度建築一基託，基託內裝有泥土及填充物，並在此種植上植物。
2.根據權利要求1所述的免灌溉植物牆體，其特徵在於保水材料為高吸水性樹脂。
3.根據權利要求1或2所述的免灌溉植物牆體，其特徵在於基託截面為「L」形或「U」形。
4.根據權利要求2所述的免灌溉植物牆體，其特徵在於高吸水性樹脂為TC材料或WT-1、WJ-1保水劑。
5.根據權利要求1或2所述的免灌溉植物牆體，其特徵在於兩基託間的最佳間距為3～10米。
全文摘要
本發明公開了一種免灌溉植物牆體,它在建築牆面上每隔一定高度設置一基託,基託上填充有泥土肥料及保水材料。基託橫截面為「L」形或「U」形,兩基託間距最佳範圍為3～10米。本發明不僅可實現美化環境,淨化空氣,防止日曬的功能、還可起到裝飾建築物表面的作用,而且安全、方便、有效,尤其是無需灌溉和養護,適合於各類建築物,尤其適用於高層建築。
文檔編號A01G9/00GK1252210SQ99119830
公開日2000年5月10日 申請日期1999年10月22日 優先權日1999年10月22日
發明者劉駿 申請人:劉駿