頭孢噻肟鈉n,n-二甲基甲醯胺溶劑化合物及製備方法

2023-05-22 09:19:31

頭孢噻肟鈉n,n-二甲基甲醯胺溶劑化合物及製備方法
【專利摘要】本發明涉及一種頭孢噻肟鈉N,N-二甲基甲醯胺溶劑化合物及製備方法。每摩爾頭孢噻肟鈉N,N-二甲基甲醯胺溶劑化合物含有0.5～1.5摩爾N,N-二甲基甲醯胺；其X-射線粉末衍射圖譜在衍射角2θ=4.7±0.1，6.9±0.1，8.1±0.1，9.8±0.1，12.6±0.1，16.5±0.1，17.2±0.1，19.1±0.1，19.9±0.1，20.4±0.1，21.6±0.1，22.0±0.1，22.7±0.1，23.9±0.1，24.6±0.1，25.5±0.1，27.4±0.1，31.0±0.1和34.9±0.1度處有特徵衍射峰。製備方法操作簡單、收率82%左右，晶體主粒度80μm左右。
【專利說明】頭孢噻肟鈉N, N- 二甲基甲醯胺溶劑化合物及製備方法
【技術領域】
[0001]本發明屬於化學工程醫藥結晶【技術領域】，具體涉及一種頭孢噻肟鈉N，N-二甲基甲醯胺溶劑化合物及製備方法。
【背景技術】
[0002]頭孢噻月虧鈉(cefotaxime sodium),化學名稱為(6R, 7R-3-[(乙醯氧基)甲基]-7_[ (2-氨基-4-噻唑基)-(甲氧亞氨基)乙酞胺基]-8-氧代-5-硫雜-1-氮雜雙環[4.2.0]辛-2-烯-2-甲酸鈉鹽，分子式C16H16N5O7S2Na,分子量477.44，化學結構式為:
[0003]
【權利要求】
1.一種頭孢噻肟鈉N，N-二甲基甲醯胺溶劑化合物，其特徵是每摩爾頭孢噻肟鈉N, N- 二甲基甲醯胺溶劑化合物含有0.5~1.5摩爾N，N- 二甲基甲醯胺。
2.如權利要求1所述的溶劑化合物，其特徵是每摩爾頭孢噻肟鈉N，N-二甲基甲醯胺溶劑化合物含有I摩爾N，N- 二甲基甲醯胺。
3.如權利要求1或2所述的溶劑化合物，其特徵是所述溶劑化合物的X-射線粉末衍射圖譜在衍射角 2 Θ =4.7±0.1,6.9±0.1,8.1±0.1,9.8±0.1，12.6±0.1，16.5±0.1，17.2 ± 0.1，19.1 ± 0.1，19.9 ± 0.1,20.4 ± 0.1,21.6 ± 0.1,22.0 ± 0.1,22.7 ± 0.1，23.9±0.1,24.6±0.1,25.5±0.1,27.4±0.1,31.0±0.I 和 34.9±0.I 度處有特徵衍射峰。
4.如權利要求1或2所述的溶劑化合物，其特徵是所述溶劑化合物的DSC圖譜在27±2°C和105 ±2°C有兩個特徵吸熱峰。
5.如權利要求1或2所述的溶劑化合物，其特徵是所述溶劑化合物的TG圖譜在105±2°C脫溶劑失重。
6.如權利要求1或2所述的溶劑化合物的製備方法，其特徵是: 20~35°C下，配製濃度為0.02~0.083g/mL的乙酸鈉溶液，攪拌作用下加入頭孢噻肟酸進行成鹽反應，至溶液澄清，乙酸鈉和頭孢噻肟酸摩爾比為I~1.3:1 ;加活性炭脫色過濾；然後將濾液降溫至O~-20°C，靜置養晶120~360h ;過濾晶漿、洗滌濾餅、密封乾燥，得到頭孢噻肟鈉N，N- 二甲基甲醯胺溶劑化合物。
7.如權利要求6所述的方法，其特徵是所述的降溫速率為10~25°C/h。
8.如權利要求6所述的方法，其特徵是所述的密封乾燥條件為O~10°C、矽膠乾燥劑乾燥12~24h。
9.如權利要求6所述的方法，其特徵是所述的溶解乙酸鈉的溶劑選自N，N-二甲基甲醯胺與酯類或醇類的混合溶劑，混合溶劑中N，N-二甲基甲醯胺的體積含量為33~100%。
10.如權利要求9所述的方法，其特徵是所述的酯類溶劑選自乙酸乙酯或乙酸丁酯中的一種；醇類溶劑選自甲醇、異丙醇或正丁醇中的一種。
【文檔編號】C07D501/34GK103804395SQ201410020280
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2014年1月16日 優先權日:2014年1月16日
【發明者】鮑穎, 高振國, 侯寶紅, 周麗娜, 郝紅勳, 王召, 尹秋響, 陳巍, 謝闖 申請人:天津大學