一種電積槽的製作方法
2023-05-22 18:36:16
專利名稱：一種電積槽的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種電積槽，特別是吸附在活性炭上的貴金屬的提取領域用電積槽。
吸附在活性炭上的貴金屬的提取方法中，有一種工作壓力高於常壓、工作溫度高於100℃的方法，該方法要求提取系統為封閉系統，以能夠提高壓力，該提取系統包括有一電積槽和循環泵，電積槽和循環泵相接。現有技術中的電積槽包括電積池和電極，是敞開式結構，只能在常壓下工作，不能滿足該提取系統在高壓條件下工作的要求。
本實用新型的目的在於提供一種封閉的、能保證泵不受損害的電積槽。
本實用新型的目的是這樣實現的一種電積槽，包括電積池和電極，電極均勻分布在電積池中，該電積槽還包括密封罩和緩衝池，緩衝池與電積池共用一側壁，電積池與緩衝池共用的側壁的高度低於該池其它三方側壁的高度，帶電極的電積池和緩衝池封裝在密封罩中。
所述的電極的陰、陽極中心距為20～60mm。
所述的密封罩包括密封蓋和密封罩體，密封蓋和密封罩體用螺栓連接構成一封閉的密封罩。
所述的密封蓋上開有氣體管孔、電極線孔、進液管孔和出液管孔。
本實用新型相比於現有技術具有如下優點(1)由於該電積槽是封閉的，從而可將其內部壓力提高到高於常壓，滿足了新系統在高壓下工作的要求；(2)由於設置了緩衝池，池內可裝較多的電解液，在電積槽應用系統發生波動時，內裝的電解液可以增多或減少，並始終保持一定的量，從而保證泵的接口處始終有液體，不造成對泵的損害。
以下結合附圖
和實施例對本實用新型作進一步說明附圖為本實用新型電積槽的結構示意圖。
一種電積槽，包括電積池1、電極2、密封罩3和緩衝池4，電極均勻分布在電積池中，電極的陰、陽極中心距為40mm，緩衝池與電積池共用一側壁，電積池與緩衝池共用的側壁的高度低於該池其它三方側壁的高度，密封罩包括密封蓋5和密封罩體6，密封蓋上開有氣體管孔7、電極線孔8、進液管孔9和出液管孔10，氣體管道穿過氣體管孔7以給密封罩充氣，電極線穿過電極線孔8與電極相連，進液管穿過進液管孔9與電積池底部相連並穿過底部，出液管穿過出液管孔10並與緩衝池相通，氣體管道與氣體管孔7、電極線與電極線孔8、進液管與進液管孔9、出液管與出液管孔10均為密封式接觸，密封蓋和密封罩體用螺栓連接構成一封閉的密封罩，帶電極的電積池和緩衝池封裝在密封罩中。本實用新型電積池由於採用全封閉結構，從而可以在高壓下工作，其工作溫度可升高到150℃以上。
權利要求1.一種電積槽，包括電積池和電極，電極均勻分布在電積池中，其特徵在於該電積槽還包括密封罩(3)和緩衝池(4)，緩衝池與電積池共用一側壁，電積池與緩衝池共用的側壁的高度低於該池其它三方側壁的高度，帶電極的電積池和緩衝池封裝在密封罩中。
2.根據權利要求1所述的電積槽，其特徵在於所述的電極的陰、陽極中心距為20～60mm。
3.根據權利要求1所述的電積槽，其特徵在於所述的密封罩包括密封蓋(5)和密封罩體(6)，密封蓋和密封罩體用螺栓連接構成一封閉的密封罩。
4.根據權利要求3所述的電積槽，其特徵在於所述的密封蓋上開有氣體管孔(7)、電極線孔(8)、進液管孔(9)和出液管孔(10)。
專利摘要本實用新型公開了一種電積槽,屬於貴金屬的提取領域。該電積槽包括電積池、電極、密封罩和緩衝池,電極均勻分布在電積池中,緩衝池與電積池共用一側壁,電積池與緩衝池共用的側壁的高度低於該池其它三方側壁的高度,帶電極的電積池和緩衝池封裝在密封罩中。該電積槽能很好的用在高壓、高溫提取吸附在活性炭上的貴金屬領域。
文檔編號C25B9/00GK2340781SQ9820789
公開日1999年9月29日 申請日期1998年8月24日 優先權日1998年8月24日
發明者李文建 申請人:李文建