提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構的製作方法

2023-05-22 04:38:56 1

專利名稱：提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種測量方法及結構，尤其是一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構。
背景技術：
目前，在酸法製取氧化鋁生產過程中，溶出工段的密度測量至關重要，由於工藝物料的特殊性，工藝管道均採用鋼管內襯聚四氟乙烯材料，而且管道直徑大多為DN50甚至更小，根據核輻射密度計的安裝要求，要想在如此小直徑的管道上測量密度並獲得足夠的精度，通常的做法是:採用「Z」型管安裝，以擴大管徑，安裝方式如圖2所示。但是，對於內襯聚四氟乙烯材料的鋼管來說，由於受加工工藝的限制，並不能加工成如圖1所示的「Z」型管，而只能採用兩直角彎頭組裝成「Z」型管，如圖3所示。但是，這樣的結構由於「Z」型管中間有兩片法蘭，再加之兩直角彎頭的彎曲半徑不能太小，出現中間法蘭幹擾，安裝困難，擴大直徑無法準確計算等問題，同樣不能獲得足夠的精度。

發明內容
本發明所要解決的技術問題是，提供一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構，它能有效提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度，並且安全簡單，以克服現有技術的不足。本發明是這樣實現的:提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，並將核輻射密度計的點源以及探測器分別處於U字形工藝管道的豎直段的兩側，以增加測量通道的直徑，實現提高測量精度的目的。提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構，包括工藝管道、核輻射密度計的點源、探測器，工藝管道為U字形結構，點源及探測器在工藝管道的上部設有基板底座，點源及探測器分別處於基板底座的兩端。與現有技術相比，由於採用上述技術方案，本發明採用將溶出工段的工藝管道設置為U字形結構，使核輻射密度計的點源以及探測器分別處於U字形工藝管道的兩側，從而使測量通道的管徑增加一倍，而工藝管道壁厚按兩倍計算即可，這樣就能使密度測量能夠獲得足夠的精度，而且安裝方便，本發明不僅適用於內襯聚四氟管道安裝，而且對於類似的小管徑且不能加工成標準「Z」型管的情況均可適用。本發明的方法簡單，容易實施，所採用的結構容易製作，成本低廉，使用效果好。


圖1為本發明的結構示意 圖2為現有技術的理想結構示意 圖3為現有技術的實際結構示意 附圖標記說明:1-工藝管道、2-點源2、3_探測器、4-基板底座、5-法蘭。
具體實施例方式本發明的實施例:提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，並將核輻射密度計的點源以及探測器分別處於U字形工藝管道的豎直段的兩側(及U字形的上部)，以增加測量通道的直徑，實現提高測量精度的目的。提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構如圖1所示，包括工藝管道1、核輻射密度計的點源2、探測器3，工藝管道I為U字形結構，點源2及探測器3在工藝管道I的上部設有基板底座4，點源2及探測器3分別處於基板底座4的兩端。如圖1所示，由於採用上述結構，工藝管道I的連接法蘭5處於U字形的底部，這樣法蘭5就處於點源2與探 測器3之間，從而不影響核輻射密度計的測量。
權利要求
1.一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，其特徵在於:將溶出工段的工藝管道設置為U字形，並將核輻射密度計的點源以及探測器分別處於U字形工藝管道的豎直段的兩側，以增加測量通道的直徑，實現提高測量精度的目的。
2.一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構，包括工藝管道(I)、核輻射密度計的點源(2)、探測器(3)，其特徵在於:工藝管道(I)為U字形結構，點源(2)及探測器(3 )在工藝管道(I)的上部設有基板底座(4)，點源(2 )及探測器(3 )分別處於基板底座(4)的兩端。
全文摘要
本發明公開了一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，並將核輻射密度計的點源以及探測器分別處於U字形工藝管道的豎直段的兩側，從而使測量通道的管徑增加一倍，而工藝管道壁厚按兩倍計算即可，這樣就能使密度測量能夠獲得足夠的精度，而且安裝方便，本發明不僅適用於內襯聚四氟管道安裝，而且對於類似的小管徑且不能加工成標準「Z」型管的情況均可適用。本發明的方法簡單，容易實施，所採用的結構容易製作，成本低廉，使用效果好。
文檔編號C01F7/02GK103185685SQ201110443308
公開日2013年7月3日 申請日期2011年12月27日 優先權日2011年12月27日
發明者黃其楊 申請人:貴陽鋁鎂設計研究院有限公司