一種螢光粉基料的裝填裝置的製作方法

2023-04-26 04:43:51

專利名稱：一種螢光粉基料的裝填裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種螢光粉基料的裝填裝置。
技術背景如圖1所示，這是一種螢光粉基料的裝填方法裝置，該裝置包括反應密封容器Al、 螢光粉A2、裝置底盤A3、坩堝A4、H2+N2的混合氣體輸入裝置A5。反應密封容器Al是一個封閉的加熱體，旁邊有熱輻射，保證容器內部的反應溫度，同時通入吐+隊的混合氣體，然後送入爐體中進行燒結。其不足之處是1、粉塊中心燒結溫度和時間不夠導致質量不穩定。2、當粉塊中心燒成效果良好時，但粉塊的外部和上部則出現過燒的現象從而影響螢光粉的得率和發光效率。3、還原性氣氛難於完全滲透坩堝中的基料，如還原反應不充分則直接影響發光效率和色度
實用新型內容
本實用新型的目的就是針對現有技術之不足，而提供一種螢光粉基料的裝填裝置。它提高了產品質量，提高了成品得率，為提高產品技術水平和節能降耗降低成本，提高產品的競爭能力具有一定的現實意義。本實用新型的技術解決措施如下一種螢光粉基料的裝填裝置，包括反應爐、螢光粉、底盤、坩堝及H2+N2的混合氣體輸入裝置，底盤及坩堝都設於反應爐內，坩堝置於底盤上，螢光粉則裝在坩堝中；在坩堝的粉體中心上打有一中心孔。上述技術方案中，反應爐的爐頂呈圓弧形。本實用新型的有益效果在於1、中心打孔後粉壁與坩堝底邊和底部保持厚度相同，減少受熱體的受熱深度，燒結效果明顯改善。2、還原性氣氛，滲透效果良好。3、燒結效果好和還原性氣氛滲透充分，提高發光效率> 3 5%，色度穩定一致性好。

圖1為現有技術的結構示意圖圖2為本實用新型的結構示意圖圖2中反應爐1、坩堝中的粉體中心孔2、螢光粉3、底盤4、坩堝5、H2+N2的混合氣體輸入裝置6。
具體實施方式
實施例見圖2所示，一種螢光粉基料的裝填裝置，包括反應爐1、螢光粉3、底盤 4、坩堝5及H2+N2的混合氣體輸入裝置6，底盤4及坩堝5都設於反應爐1內，坩堝5置於底盤4上，螢光粉3則裝在坩堝5中；在坩堝5的粉體中心上打有一中心孔2。上述技術方案中，反應爐1的爐頂呈圓弧形。工作原理在已裝入坩堝的粉體中心打一個可使粉壁尺寸合理的中心孔2，旁邊加上熱輻射，保證反應容器達到反應必須溫度，通入h2+N2的混合氣體，那樣以保證高溫受熱均勻，氣氛能充分進入螢光粉，以取得更好的發光效率。擴大螢光粉與氣氛的接觸面積， 提高還原性氣氛滲透效果，以保證充分反應，保證螢光粉的發光效率。此方法取得的優點就是中心打孔後粉壁與坩堝底邊和底部保持厚度相同，減少受熱體的受熱深度，燒結效果明顯改善。還原性氣氛，滲透效果良好。燒結效果和還原性氣氛滲透充分，提高發光效率> 3 5%，色度穩定一致性好。達到提高螢光粉發光效率的效果。
權利要求1.一種螢光粉基料的裝填裝置，包括反應爐(1)、螢光粉(3)、底盤、坩堝(5)及 H2+N2的混合氣體輸入裝置(6)，底盤(4)及坩堝(5)都設於反應爐(1)內，坩堝(5)置於底盤(4)上，螢光粉(3)則裝在坩堝(5)中；其特徵在於，在坩堝(5)的粉體中心上打有一中心孔(2)。
2.根據權利要求1所述的一種螢光粉基料的裝填裝置，其特徵在於反應爐(1)的爐頂呈圓弧形。
專利摘要本實用新型公開了一種螢光粉基料的裝填裝置。包括反應爐、螢光粉、底盤、坩堝及H2+N2的混合氣體輸入裝置，底盤及坩堝都設於反應爐內，坩堝置於底盤上，螢光粉則裝在坩堝中；在坩堝的粉體中心上打有一中心孔。這是一種螢光粉基料的裝填方法，該裝置包括反應密封容器、本實用新型在已裝入坩堝的粉體中心打一個可使粉壁尺寸合理的中心孔以保證高溫受熱均勻，氣氛能充分進入螢光粉，以取得更好的發光效率。
文檔編號C09K11/08GK202221229SQ20112023988
公開日2012年5月16日 申請日期2011年7月8日 優先權日2011年7月8日
發明者朱寶榮 申請人:浙江晶能螢光材料有限公司