一種直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置的製作方法

2023-05-13 17:04:41

本實用新型涉及雷射直寫光刻技術領域，具體是一種直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置。

背景技術：

在PCB行業加工內層電路板的過程中，需要對每個內層電路板的正反兩面進行對位，以保證所有的過孔可以正確連通正反兩面的線路，否則將會產生存在短路、斷路等問題的廢板。

目前，PCB行業直寫光刻機內層對位的方式是在載板平臺上安裝打標裝置。內層電路板正面曝光前，對準系統採集打標裝置的坐標，確定內層電路板正面曝光坐標系；內層電路板正面曝光的同時，打標裝置將標記點打到內層電路板反面；翻轉內層電路板，內層電路板反面曝光前，對準系統採集多個標記點的坐標，確定內層電路板反面曝光坐標系，通過兩組坐標系擬合，保證內層電路板正反兩面的圖形相對應。

現有PCB行業直寫光刻機的對準系統採用紅光照明方式。因為內層電路板表面的感光材料對紅光感光效率不高，所以對準系統採集標記點時不會對內層電路板表面的感光材料產生影響。而PCB行業直寫光刻機用於內層對位的打標裝置採用UVLED或紫外雷射器作為光源。內層電路板表面的感光材料對UVLED或紫外雷射器提供的紫外光感光效率最高，因此打標裝置所打標記點最為清晰。但是UVLED或紫外雷射器提供的紫外光會對對準系統採集打標裝置的坐標產生影響。

內層電路板正面曝光前，對準系統採集打標裝置的坐標，進入對準系統的光主要為UVLED或紫外雷射器發出的紫外光；內層電路板反面曝光前，對準系統採集多個標記點的坐標，進入對準系統的光主要為紅光。紅光與紫外光波長相差過多，因此在對準系統中的焦面位置相差較多。為了保證對準系統得到清晰的像，採集打標裝置的坐標與採集標記點的坐標時載板平臺Z軸的位置將會不一致，而載板平臺Z軸位置的不一致會影響內層對位的精度。

技術實現要素：

本實用新型的目的在於提供一種直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置，以解決內層電路板對位過程中打標裝置與所打標記點在對準系統中焦面不一致的問題。

本實用新型的技術方案為：

一種直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置，包括光源、位於光源上方的光闌以及位於光源與光闌之間的準直透鏡，所述光源採用紅紫雙色LED，用於當內層電路板正面曝光前對準系統採集打標裝置的坐標時發紅光，還用於當內層電路板正面曝光時發紫外光，向內層電路板反面打標記點。

所述的直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置，所述光源位於準直透鏡的下焦點位置，所述光闌位於準直透鏡的上焦點位置。

所述的直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置，所述準直透鏡採用雙凸透鏡。

所述的直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置，所述光闌的通光孔直徑為0.2mm。

本實用新型的有益效果為：

由上述技術方案可知，本實用新型採用提供紅光和紫外光的紅紫雙色LED作為光源，當內層電路板正面曝光前對準系統採集打標裝置的坐標時，紅紫雙色LED發紅光，當內層電路板正面曝光時，紅紫雙色LED發紫外光，向內層電路板反面打標記點；同時在光源與光闌之間增加準直透鏡，使通過光闌的光更加均勻；本實用新型有效解決了內層電路板對位過程中打標裝置與所打標記點在對準系統中焦面不一致的問題。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是本實用新型在內層電路板對位過程中的應用示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例進一步說明本實用新型。

如圖1、圖2所示，一種直寫光刻系統中用於內層電路板對位的打標裝置，該打標裝置10包括光源101、位於光源上方的光闌102以及位於光源101與光闌102之間的準直透鏡103。光源101採用紅紫雙色LED，在不同的電壓控制下可以發出不同顏色的光，即當內層電路板正面401曝光前對準系統30採集打標裝置10的坐標時發紅光，當內層電路板正面401曝光時發紫外光，向內層電路板反面402打標記點50。準直透鏡103採用雙凸透鏡，光源101位於準直透鏡103的下焦點位置，光闌102位於準直透鏡103的上焦點位置。光闌102的通光孔直徑為0.2mm。

本實用新型的工作原理：

如圖2（a）所示，內層電路板正面401曝光前，光源101發紅光，對準系統30採集打標裝置10的坐標，確定內層電路板正面曝光坐標系。如圖2（b）所示，確認內層電路板正面曝光坐標系後，內層電路板正面401曝光，光源101發紫外光，在內層電路板反面402打上標記點50。如圖2（c）所示，內層電路板正面401曝光完成後，翻轉內層電路板，內層電路板反面402朝上，在內層電路板反面402曝光前，對準系統30採集標記點50的坐標，確定內層電路板反面曝光坐標系。通過兩組坐標系擬合，保證內層電路板正反兩面的圖形相對應。

以上所述實施方式僅僅是對本實用新型的優選實施方式進行描述，並非對本實用新型的範圍進行限定，在不脫離本實用新型設計精神的前提下，本領域普通技術人員對本實用新型的技術方案作出的各種變形和改進，均應落入本實用新型的權利要求書確定的保護範圍內。