一種旋轉鈮靶材及其製備方法與流程

2023-05-13 17:35:06 4

本發明涉及靶材製造領域，尤其涉及一種旋轉鈮靶材及其製備方法。

背景技術：

鈮靶材是光學鍍膜中普遍使用的一種靶材，目前製備鈮靶材的方法為熔鑄，但是由於其製備工藝的限制，其靶材製備時存在以下問題：1、要使用高溫設備，製備成本高2、晶粒尺寸較大3、靶材與基體管為一體管，使用後的殘靶材不易修復。因此，解決鈮靶材製造時出現的成本較大、晶粒尺寸較大及使用後的靶材不易修復的問題就顯得尤為重要了。

技術實現要素：

本發明的目的是提供一種旋轉鈮靶材及其製備方法，通過熱噴塗方法對鈮靶材進行製備，提高製備效率，並且減少製備成本，晶粒尺寸小，並且便於對使用後的殘靶材進行修補。

本發明提供一種旋轉鈮靶材，所述旋轉鈮靶材的密度為7.6-8.2g/cm³，所述旋轉鈮靶材的氧含量為3000-6000ppm，所述旋轉鈮靶材的氮含量為2000-12000ppm。

進一步改進在於：所述旋轉鈮靶材的晶粒尺寸≤15μm。

本發明還提供一種旋轉鈮靶材的製備方法，所述製備方法步驟如下：

步驟一：將基體表面進行清理，並對其進行烘乾；

步驟二：使用熱噴塗設備將鈮材質噴塗在基體表面；

步驟三：對靶材表面進行剖光處理，並對其端頭進行機加工處理。

進一步改進在於：所述步驟二中對靶材進行噴塗時使用惰性氣體進行保護。

進一步改進在於：所述步驟一中基體為合金管。

進一步改進在於：此旋轉靶材經磁控濺射使用後的殘靶材，經過表面清潔處理後可繼續使用熱噴塗的方法進行噴塗修復得到新靶材。

本發明的有益效果是：通過熱噴塗方法對鈮靶材進行製備，提高製備效率，並且減少製備成本，縮小晶粒尺寸，並且便於對使用後的殘靶材進行修補，並且通過對鈮靶材的氧氮含量進行控制，提升鈮靶材的製造質量。

具體實施方式

為了加深對本發明的理解，下面將結合實施例對本發明作進一步詳述，該實施例僅用於解釋本發明，並不構成對本發明保護範圍的限定。

實施例一

本實施例提供了一種旋轉鈮靶材，所述旋轉鈮靶材的密度為7.8g/cm³，所述旋轉鈮靶材的氧含量為5000ppm，所述旋轉鈮靶材的氮含量為8000ppm。所述旋轉鈮靶材得晶粒尺寸為3μm。

本實施例還提供一種旋轉鈮靶材的製備方法，所述製備方法步驟如下：

步驟一：將基體表面進行噴砂清理，並噴塗打底層；

步驟二：使用熱噴塗設備將鈮粉末或鈮絲噴塗在基體表面；

步驟三：對靶材表面進行剖光處理，並對其進行兩端進行機加工處理。

所述步驟二中對靶材進行噴塗時使用氮氣對靶材進行保護。所述步驟一中基體為不鏽鋼管。

實施例二

本實施例提供了一種旋轉鈮靶材，所述旋轉鈮靶材的密度為7.6g/cm³，所述旋轉鈮靶材的氧含量為3000ppm，所述旋轉鈮靶材的氮含量為2000ppm。所述旋轉鈮靶材得晶粒尺寸為2μm。

本實施例還提供一種旋轉鈮靶材的製備方法，所述製備方法步驟如下：

步驟一：將基體表面進行噴砂清理，並噴塗打底層；

步驟二：使用熱噴塗設備將鈮粉末或鈮絲噴塗在基體表面；

步驟三：對靶材表面進行剖光處理，並對其進行兩端進行機加工處理。

所述步驟二中對靶材進行噴塗時使用氬氣對靶材進行保護。所述步驟一中基體為鈦管。

實施例三

本實施例提供了一種旋轉鈮靶材，所述旋轉鈮靶材的密度為8g/cm³，所述旋轉鈮靶材的氧含量為6000ppm，所述旋轉鈮靶材的氮含量為12000ppm。所述旋轉鈮靶材得晶粒尺寸為10μm。

本實施例還提供一種旋轉鈮靶材的製備方法，所述製備方法步驟如下：

步驟一：將使用完的鈮殘靶表面進行清潔處理；

步驟二：使用熱噴塗設備將鈮粉末或鈮絲噴塗在殘靶材表面；

步驟三：對靶材表面進行剖光處理，並對其進行兩端進行機加工處理。

所述步驟二中對靶材進行噴塗時使用氮氣對靶材進行保護。