多弧型離子鍍膜機的製作方法

2023-05-23 12:35:56 1

專利名稱：多弧型離子鍍膜機的製作方法
技術領域：
本實用新型為多弧型離子鍍膜機。屬於真空等離子體表面沉積技術。
現有離子鍍膜機多採用單筒式結構。鍍膜室的筒壁上裝有蒸發離化源，頂上裝有上蓋，上蓋上裝有傳動裝置和工件架。這種鍍膜機筒壁上的蒸發離化源，只能實現單向鍍膜，鍍膜空間未能充分利用，產量較低，在人力、物力上是不經濟的。
本實用新型的目的在於克服了上述不足，提供了一種新型的由內外兩個同軸放置的圓柱狀筒壁構成的環形鍍膜空間，在內外筒體上同時裝有離化源，因而能在正反兩個表面上同時進行鍍膜，顯著提高了設備利用率。
本實用新型的上述目的由以下技術方案實現該多弧離子鍍膜機包括鍍膜室、鍍膜室底座、轉架傳動裝置、工件架、蒸發離化源及擴散泵機組。鍍膜室為由內、外兩個同軸的圓柱狀筒壁構成的環形筒體結構，鍍膜室主於鍍膜室底架上，外筒壁與鍍膜室底架焊接，內筒壁與鍍膜室底架的聯接可採用焊接或螺釘聯接。鍍膜室頂部有上蓋，上蓋上裝有轉架傳動裝置和工件架。鍍膜室內筒壁和外筒壁上裝有多個蒸發離化源，外筒壁與擴散泵機組相連。
本實用新型的特點是降低了成本，提高了生產效率，可直接鍍制大型管狀和環狀工件的內外表面，結構簡單巧妙。
本實用新型的具體結構由附


圖1-3給出
圖1為多弧型離子鍍膜機筒體的局部剖視圖圖2為多弧型離子鍍膜機外形圖圖3多弧型離子鍍膜機俯視圖圖中主要結構是轉架傳動裝置1、外筒壁蒸發離化源2、工件架3、鍍膜室4、高閥5、氣路組件6、節流閥7、擴菜泵8、維修孔9、鍍膜室底架10、觀察孔11、外筒壁12、內筒壁13、內筒壁蒸發離化源14、上蓋15、加熱器16。
以下結合附圖對本實用新型加以詳細說明。
這種多弧型離子鍍膜機，包括鍍膜室4、鍍膜室底架10、轉架傳動裝置1、工件架3、蒸發離化源、擴散泵8及氣路組件6，鍍膜室為由內外兩個同軸的圓柱狀筒壁構成的環形筒體結構，鍍膜室立於鍍膜室底架上，鍍膜室的外筒壁與鍍膜室底架焊接內筒壁與鍍膜室底架焊接或螺釘聯接。鍍膜室的內筒壁13與外筒壁12上均裝有數個內、外壁蒸發離化源14，2，鍍膜室內裝有加熱器16，鍍膜室頂部裝有上蓋15，上蓋上裝有轉架傳動裝置和工件架，真空排氣系統中的擴散泵8和機械泵與外筒壁聯接。鍍膜室的內、外筒壁上的離化源的數量隨鍍膜室4的尺寸增大而增多，真空排氣系統與外筒壁13聯接。鍍膜室上開有觀察孔11，上蓋15上裝有多速電機和減速箱，使轉架具有多個轉動速度，轉架傳動裝置1和工件架3可與上蓋15一起吊出鍍膜室4之外，架設在爐外的裝載支架上，同時將另一上蓋架到鍍膜室4上，以此實現連續作業，由於該鍍膜室為環形筒體結構，因此工件架上所鍍的工件可同時兩面被鍍，這種鍍膜室的結構實現了對管狀或環狀工件的鍍膜工藝，多弧型離子鍍膜機帶有控制櫃，控制柜上裝有總電源開關及機械泵與擴散泵、轉架、加熱器、轟偏電源和蒸發離化源電源按扭
權利要求1一種多弧型離子鍍膜機，包括鍍膜室、鍍膜室底架、轉架傳動裝置、工件架、蒸發離化源、擴散泵機組及氣路組件，其特徵在於鍍膜室為由內外兩個同軸的圓柱狀筒壁構成的環形筒體結構，鍍膜室立於鍍膜室底架上，鍍膜室的內筒壁與外筒壁上均裝有數個蒸發離化源，鍍膜室內裝有加熱器，鍍膜室頂部設有上蓋，上蓋上裝有轉架傳動裝置和工件架，擴散泵機組與外筒壁聯接。
2.如權利要求1所述的多弧型離子鍍膜機，其特徵在於鍍膜室的外筒壁與鍍膜室底架焊接，內筒壁與鍍膜室底架焊接或螺釘聯接。
專利摘要一種多弧型離子鍍膜機，其鍍膜室由內外兩同軸放置的圓柱狀筒壁構成的環形鍍膜空間，在筒體內外壁上均裝有蒸發離化源。鍍膜室內裝有加熱器，鍍膜室頂部裝有帶傳動裝置和工件架的上蓋。這種鍍膜機裝機容量大，生產效率高，適用於鍍制不鏽鋼板及其製品等，也適用於鍍制大尺寸環狀或筒狀大型工件的表面。
文檔編號C23C14/30GK2255434SQ9522867
公開日1997年6月4日 申請日期1995年12月22日 優先權日1995年12月22日
發明者王殿儒 申請人:北京長城鈦金技術聯合開發公司