一種平面拋光裝置的製作方法

2023-05-14 06:43:31

本實用新型涉及拋光設備領域，尤其是一種平面拋光裝置。

背景技術：

研磨是利用塗敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(如切削加工)。研磨可用於加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達IT5～01，表面粗糙度可達Ra0.63～0.01微米。

拋光是指利用機械、化學或電化學的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。利用柔性拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時也用以消除光澤(消光)。

當我們需要對代加工工件進行光整加工，用以改善工件表面粗糙度或強化其表面的加工過程，通常同時採用研磨和拋光。傳統的利用研磨盤或者拋光碟的光整系統將研磨與拋光工序分開，使得由研磨過度到拋光時系統需要將研磨盤更換為拋光碟，很難提升加工效率。即使是單一的研磨加工，單一磨粒粒度的研磨盤也並不能使工件完全達到所需的表面粗糙度或者需要很長的加工時間。且傳統的研磨和拋光系統，加工時需要人為添加砝碼或由工件和承託工件的器件本身的重力來決定施加於工件表面與研磨盤(或拋光碟)表面的壓力，這使得所施加的壓力不能根據加工需求得到動態調節而且無法得到低於工件和承託工件的器件本身的重力的壓力，在更換研磨盤或拋光碟後需添加或者更換砝碼，由於砝碼的質量固定，很難實現施加壓力的連續變化，從而影響了加工質量，並且受人為因素影響大，很難實現自動化。

因此，對於上述問題有必要提出一種平面拋光裝置。

技術實現要素：

本實用新型目的是克服了現有技術中的不足，提供了一種平面拋光裝置。

為了解決上述技術問題，本實用新型是通過以下技術方案實現：

一種平面拋光裝置，包括驅動電機、基板和立板，所述立板設置有基板的後側上端面上，所述立板的縱向中線位置設置有絲杆，所述驅動電機倒置套裝在絲杆上，所述驅動電機的下端中心軸位置連接有轉軸，所述轉軸的下端連接有磨砂盤，所述基板與磨砂盤相對應的位置設置有基座，所述基座上端安裝有用放置磨料的轉盤，所述絲杆的上下兩部均通過螺母支座固定在立板，所述絲杆與螺母支座螺紋連接。

根據所述的一種平面拋光裝置，其中，所述絲杆的上端連接有搖柄。

根據所述的一種平面拋光裝置，其中，所述驅動電機的後側邊的連接有底座。

根據所述的一種平面拋光裝置，其中，所述底座與立板滑動連接。

根據所述的一種平面拋光裝置，其中，所述基座通過螺栓固定在基板上。

根據所述的一種平面拋光裝置，其中，所述驅動電機的前端面設置有接線盒。

本實用新型有益效果：設置有絲杆，驅動電機套裝在絲杆上，絲杆的上端設置有搖柄，旋轉搖柄可以控制驅動電機的升降進而控制磨盤研磨力度，結構簡單，同時具有很強的實用性。

以下將結合附圖對本實用新型的構思、具體結構及產生的技術效果作進一步說明，以充分地了解本實用新型的目的、特徵和效果。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的實施例進行詳細說明，但是本實用新型可以由權利要求限定和覆蓋的多種不同方式實施。

如圖1所示，一種平面拋光裝置，包括驅動電機3、基板1和立板2，所述立板2設置有基板1的後側上端面上，所述立板2的縱向中線位置設置有絲杆4，所述驅動電機3倒置套裝在絲杆4上，所述驅動電機3的下端中心軸位置連接有轉軸6，所述轉軸6的下端連接有磨砂盤7，所述基板1與磨砂盤7相對應的位置設置有基座8，所述基座8上端安裝有用放置磨料的轉盤9。

本實施例中，所述絲杆4的上端連接有搖柄5，所述絲杆4的上下兩部均通過螺母支座固定在立板2，所述絲杆4與螺母支座螺紋連接。

此外，所述驅動電機3的後側邊的連接有底座並與立板2滑動連接，所述基座8通過螺栓固定在基板1上，驅動電機3的前端面設置有接線盒。

本實用新型使用時，通過設置有絲杆，驅動電機套裝在絲杆上，絲杆的上端設置有搖柄，旋轉搖柄可以控制驅動電機的升降進而控制磨盤研磨力度，結構簡單，同時具有很強的實用性。

以上詳細描述了本實用新型的較佳具體實施例。應當理解，本領域的普通技術人員無需創造性勞動就可以根據本實用新型的構思做出諸多修改和變化。因此，凡本技術領域中技術人員依本實用新型的構思在現有技術的基礎上通過邏輯分析、推理或者有限的實驗可以得到的技術方案，皆應在由權利要求書所確定的保護範圍內。