一種芳基末端炔的製備方法
2023-05-10 03:50:36
一種芳基末端炔的製備方法
【專利摘要】本發明公開了一種芳基末端炔的製備方法，包括芳滷與2-甲基-3-丁炔基-2-醇經Sonogashira交叉偶聯反應得到帶2-羥基-2-丙基保護基團的芳炔化合物4-芳基-2-甲基-3-丁炔基-2-醇，再脫除保護基團得到芳基末端炔產物，所述脫保護反應在NaOH、二乙二醇單乙基醚存在下，以甲苯為溶劑進行。本發明的芳基末端炔製備方法可大大降低反應溫度並縮短反應時間，低溫下速度可控地高產率製備芳基末端炔。
【專利說明】一種芳基末端炔的製備方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種芳基末端炔的製備方法，特別是涉及一種脫除炔烴保護基團2-羥基-2-丙基以製備芳基末端炔的方法。
【背景技術】
[0002]芳基末端炔是重要的有機合成中間體，通過芳基末端炔得到的聚芳炔、聚芳基二炔和芳炔類共軛大分子不僅在藥物、農藥等方面有著重要的應用，而且在新型有機功能材料及分子電子器件，如有機發光二極體、液晶材料、非線性光學材料、氣體分離膜、分子導線、分子開關、分子計算機等領域中有著廣泛的應用前景。
[0003]目前芳基末端炔的製備方法主要是以芳滷為原料，與一端帶有保護基團的乙炔衍生物經Sonogashira偶聯反應得到帶保護基團的芳炔，再脫除保護基團而得到。乙炔衍生物中的2-甲基-3- 丁炔基-2-醇非常廉價，與芳滷化合物反應可以基本定量得到偶聯產物，在大規模合成芳炔，或是合成具有複雜結構如樹枝狀、大環狀大分子中具有明顯的優越性。然而，這一方法目前存在的缺點在於:炔烴保護基團2-羥基-2-丙基的離去需要強鹼、高溫以及長時間等非常苛刻的條件，如在氫氧化鉀、叔丁醇鉀、氫化鈉或氫氧化鈉存在下，在沸騰的甲苯(110°C)或正丁醇(118°C)中反應數小時至幾十小時不等。這樣苛刻的條件常引起很多副反應，導致芳基末端炔，尤其是多官能度芳基末端炔產率較低，分離困難。
【發明內容】
[0004]本發明的目的是提供一種芳基末端炔的製備方法，本發明方法能夠在低溫條件下速度可控地脫除炔烴保護基團2-羥基-2-丙基以製備芳基末端炔。
[0005]本發明提供的芳基末端炔的製備方法包括以下步驟:
1)以通式(I)表示的芳齒為原料，與2-甲基-3- 丁炔基-2-醇經Sonogashira交叉偶聯反應，製備通式(II )表示的帶2-羥基-2-丙基保護基團的芳炔化合物4-芳基-2-甲基-3- 丁炔基-2-醇；
【權利要求】
1.一種芳基末端炔的製備方法，包括: 1)以通式(I)表示的芳齒為原料，與2-甲基-3- 丁炔基-2-醇經Sonogashira交叉偶聯反應，製備通式(II )表示的帶2-羥基-2-丙基保護基團的芳炔化合物4-芳基-2-甲基-3- 丁炔基-2-醇；
其特徵是還包括: 2)以通式(II)表示的4-芳基-2-甲基-3-丁炔基-2-醇為原料，在甲苯溶液中，65~75°C的反應溫度下，與氫氧化鈉和二乙二醇單乙基醚發生脫保護反應，製備通式(III)表示的芳基末端炔；.
上述通式(I )、(II)和(ΠΙ)中，所述m和η各自獨立的為1、2或3 ;Χ為除氟外的滷素；R各自獨立的表示為H，C1^18烷基，C1^18烷氧基，滷素，硝基，胺基，芳基，乙炔基，苯基乙炔基或三異丙基矽基乙炔基；且當R為滷素時，其原子量不大於X。
2.根據權利要求1所述的芳基末端炔製備方法，其特徵是所述脫保護反應中，二乙二醇單乙基醚、氫氧化鈉與4-芳基-2-甲基-3-丁炔基-2-醇的摩爾比為10~30: 2.5~8: I。
3.根據權利要求1所述的芳基末端炔製備方法，其特徵是所述脫保護反應中，二乙二醇單乙基醚的用量是溶劑甲苯體積的10~30%。
4.根據權利要求1所述的芳基末端炔製備方法，其特徵是所述脫保護反應的反應時間為0.5~4.5小時。
【文檔編號】C07C43/215GK104177209SQ201410381109
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年8月5日 優先權日:2014年8月5日
【發明者】李潔, 郭鵾鵬, 董清晨, 黃鵬程, 王 華, 許並社 申請人:太原理工大學