一種用於sq200型水汽噴射真空泵的漏盤的製作方法

2023-05-09 22:14:01 1

專利名稱：一種用於sq200型水汽噴射真空泵的漏盤的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種針對SQ200型水汽噴射真空泵中的漏盤的改造。
技術背景水汽噴射真空泵廣泛應用於化工、皮革、醫藥、食品、電子等行業。是多種類真空泵中，具有操作方便，維修使用成本低，效果明顯的一種獨特的設備。水汽噴射真空泵是利用流體力學的不可壓縮液體及可壓縮的氣體原理達到真空的效果。其主要部件漏盤是決定真空度高低的關鍵部件。現有設計中的漏盤大都是在圓形漏盤上設有若干錐形且中心線與中心孔中心線相交於一點的噴射孔。以SQ200型水汽噴射真空泵為例，Sq200的含義是sq代表水汽；200代表標準狀況下每分鐘排出氣體200升，SQ200型水汽噴射真空泵原設計的漏盤為多孔型，以直徑為270mm的漏盤為例，如圖I所示，其上噴射孔的設計如表I所示，共四種噴射孔即上Φ8. 5/下Φ6. 5的錐形噴射孔(11) 5個，上Φ7. 5/下Φ5. 5錐形噴射孔(14) 5個，上Φ6. 5/下Φ4. 5錐形噴射孔(13) 5個，Φ8. 6噴射孔(12) I個。可見漏盤
(10)上噴射孔數量多，存在的問題是製造加工成本高，且在使用過程中，由於所抽取真空氣體或水中存在雜質，經常造成一孔或多孔堵塞或半堵塞狀態，造成真空度明顯下降，達不到生產要求，迫使停泵停產修理，給企業造成一定的經濟損失。因此，實施對漏盤的技術改造是解決上述問題的關鍵所在。表I原漏盤型式及面積計算表
I ；Φ8.5/Φ6,5; 5 丨283,58/W5. S3
Γ 2 !Φ7.5/Φ5.5； 5 I220.78/118.73i . i
3丨Φ&.5/Φ4 5; 5 165.83/79,48
4丨Φ8.6丨 i :58.06/58. OS
5；__； 16 I_728. 25/422.1_|
發明內容為了解決上述問題，本實用新型針對用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤進行改進，提供一種一孔代替多孔，能達到最佳真空度的用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤。本實用新型採用的技術方案是一種用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤，包括漏盤主體，漏盤主體為圓形，在漏盤主體上設有一個同軸的噴射孔，噴射孔為圓柱形，漏盤主體的直徑為270mm時，噴射孔的直徑為27mm。從表I可以看出，錐形孔上限截面積合計為728. 25，下限為422. I。為了一孔代替多孔，以達到最佳狀態。針對噴射孔的孔徑做了實驗，已找到最佳噴射孔的孔徑。結果見表2。[0008]表2 單孔板實驗數據(漏盤直徑為270mm)從表2可見，當漏盤的直徑為270mm時，噴射孔的孔徑為Φ 27時，產生的絕壓為5mmHg,為最佳狀態。本實用新型效果是本實用新型針對SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤進行了改進。改進後的水力噴射真空泵，以一孔代替多孔，具有真空度高(絕壓為5mmHg)，漏盤不堵塞，製造加工方便，成本低，比原來每臺設備成本降低三分之一左右。

圖I是現有技術中用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤結構示意圖。圖2是本實用新型經改造的用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤結構示意圖。
具體實施方式
如圖2所示,一種用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤,包括漏盤主體(I )，漏盤主體(I)為圓形，在漏盤主體(I)上設有一個同軸的噴射孔(2)，噴射孔(2)為圓柱形，漏盤主體(I)的直徑為270mm時，噴射孔(2)的直徑為27mm。
權利要求1.一種用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤,包括漏盤主體(I),漏盤主體(I)為圓形，其特徵在於在漏盤主體(I)上設有一個同軸的噴射孔(2)，噴射孔(2)為圓柱形，漏盤主體(!)的直徑為270mm時，噴射孔(2)的直徑為27mm。
專利摘要本實用新型涉及一種用於SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤。採用的技術方案是包括漏盤主體，漏盤主體為圓形，在漏盤主體上設有一個同軸的噴射孔，噴射孔為圓柱形，漏盤主體的直徑為270mm時，噴射孔的直徑為27mm。本實用新型針對SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤進行了改進。改進後的水力噴射真空泵，以一孔代替多孔，具有真空度高(絕壓為5mmHg)，漏盤不堵塞，製造加工方便，成本低，比原來每臺設備成本降低三分之一左右。
文檔編號F04F5/44GK202756319SQ20122041106
公開日2013年2月27日 申請日期2012年8月20日 優先權日2012年8月20日
發明者王長龍, 姜巖, 曹東輝, 叢日升, 王寅 申請人:王長龍