一種真空敏感元件的製作方法

2023-09-15 01:40:55

專利名稱：一種真空敏感元件的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於機載裝備技術，具體涉及ー種氣壓高度表用真空敏感元件。
背景技術：
目前，真空敏感元件是除零件外由上膜片與下膜片真空電子束焊組成，實現規定的漸減或漸增或線性特性的輸出。對於有相似性能，但膜片型面不能滿足儀表裝配要求，不同敏感元件均需設計相應的膜片及型面與エ裝模具的設計製造、試驗，使敏感元件的研製周期長，推遲航空儀表的裝配，延遲主機的研製進度。
發明內容本實用新型的發明目的簡單、易行、快速實現真空敏感元件性能。本實用新型採用如下的技術方案實現ー種真空敏感元件，包括上中心杆、上膜片、下膜片以及下中心杆，上中心杆置於上膜片中心位置，下中心杆置於下膜片中心位置，上膜片邊緣及下膜片邊緣之間設置墊片，形成封閉的真空腔體。墊片的外徑尺寸與上膜片或下膜片的外徑尺寸D相同，墊片的內徑尺寸小於等於上膜片或下膜片的有效直徑尺寸d。墊片厚度與上膜片或下膜片的厚度之比值為4. 21。本實用新型在現有膜片的基礎上，有效改善膜片的邊波紋高度尺寸，較快的實現產品研製的特性要求。本實用新型的有益效果利用金屬墊片，快速而巧妙的改變了現有膜片的型面參數，在現有膜片型面的基礎上無需重新設計模具和試驗，使產品性能滿足了儀表裝配要求。 實現了產品研製短頻快，降低了研製成本。在敏感元件研製歷史上屬首例，填補了國內空白。本實用新型配套用於ー種航空用儀表，性能及結構滿足裝表要求，得到了用戶的肯定。很大程度縮短了新產品研製進度，有效節省了物質資源及人力資源，取得了一定的經濟效益和社會效益。

圖I為本實用新型結構示意圖；圖2為膜片結構示意圖。圖中1_上中心杆，2-上膜片，3-下膜片，4-下中心杆，5-墊片，6-真空腔體，7-墊片外徑邊緣，D-上膜片或下膜片的外徑尺寸，d-上膜片或下膜片的有效直徑尺寸，H-上膜片或下膜片的高度。
具體實施方式
ー種真空敏感元件包括上中心杆I、上膜片2、墊片5、下膜片3、下中心杆4，上中心杆I固定置於上膜片2中心位置，下中心杆4固定置於下膜片3中心部位，墊片5夾於上膜片2邊緣與下膜片3邊緣之間，並形成封閉的真空腔體6。所述墊片5的外徑尺寸與上膜片2或下膜片3的外徑尺寸D相同，墊片5的內徑尺寸小於等 於上膜片2或下膜片3的有效直徑尺寸d。所述墊片5須經表面處理，外徑邊緣7須清潔，勿需有雜質，上膜片、墊片、下膜片形成的邊緣焊縫為電子束焊縫。所述墊片5的厚度為O. 4 mm，上膜片、下膜片的厚度為O. 091 mm，墊片厚度與上膜片2或下膜片3的厚度之比值為4. 39。形成的真空敏感元件的實際膜片邊波紋高度為H+0. 2，在上膜片2或下膜片3的高度H的基礎上增加了 O. 2 mm，有效改善膜片的邊波紋高度尺寸，形成真空內腔6的最低高度在原來基礎上增加了 0.4 mm。所述墊片與上膜片、下膜片為同質同種材料。所述墊片為軋制半硬、表面處理狀態。表I為真空敏感元件特性記錄對比。現有不加墊片的真空敏感元件最好數據仍不能滿足裝表要，總位移偏小，線性衰減，要求的線性超差。採取本實用新型，總位移増加，線性衰減程度改善，符合要求的線性要求。表I :真空敏感元件特性記錄
權利要求1.ー種真空敏感元件，包括上中心杆(I)、上膜片(2)、下膜片(3)以及下中心杆(4)，上中心杆(I)置於上膜片(2)中心位置，下中心杆(4)置於下膜片(3)中心位置，其特徵在於上膜片(2)邊緣及下膜片(3)邊緣之間設置墊片(5)，形成封閉的真空腔體(6)。
2.根據權利要求I所述的真空敏感元件，其特徵在於墊片(5)的外徑尺寸與上膜片(2)或下膜片(3)的外徑尺寸(D)相同，墊片(5)的內徑尺寸小於等於上膜片(2)或下膜片(3)的有效直徑尺寸(d)。
3.根據權利要求I或2所述的真空敏感元件，其特徵在於墊片(5)厚度與上膜片或下膜片厚度(H)之比值為4.21。
專利摘要本實用新型屬於機載裝備技術，具體涉及一種真空敏感元件，發明目的簡單、易行、快速實現真空敏感元件性能。真空敏感元件，包括上中心杆、上膜片、下膜片以及下中心杆，上中心杆置於上膜片中心位置，下中心杆置於下膜片中心位置，上膜片邊緣及下膜片邊緣之間設置墊片，形成封閉的真空腔體。本實用新型的有益效果利用金屬墊片，快速而巧妙的改變了現有膜片的型面參數，在現有膜片型面的基礎上無需重新設計模具和試驗，使產品性能滿足了儀表裝配要求，實現了產品研製短頻快，降低了研製成本。
文檔編號G01C5/06GK202403699SQ20112055835
公開日2012年8月29日 申請日期2011年12月28日 優先權日2011年12月28日
發明者張連梅, 胡勇傑 申請人:太原航空儀表有限公司