共用一個射頻源的多等離子體裝置的製作方法
2023-10-05 01:00:39
專利名稱：共用一個射頻源的多等離子體裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及射頻技術領域的一種共用一個射頻源的多等離子體裝置。
背景技術：
射頻高功率應用中，終端負載，比如天線、射頻等離子腔體、射頻加熱設備等應用。他們因型號或者使用環境各不相同而呈現不同的負載復阻抗。這樣通常與射頻功率源的輸出阻抗不批配(一般合格的射頻功率源輸出阻抗為50歐姆)。射頻源與匹配器的單一對應使用，在實驗室中。單一的，小型設備是沒有太大問題。中型，大型工廠。或者現代化的生產線中就會出現功率不均勻，有時嚴重影響產品的品質。從節能上也造成一定的浪費。
實用新型內容本實用新型的目的在於克服現有技術存在的以上問題，提供一種共用一個射頻源的多等離子體裝置。為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本實用新型通過以下技術方案實現共用一個射頻源的多等離子體裝置，包括射頻源，所述射頻源通過導線連接有射頻源分配器，所述射頻源分配器通過導線連接有若干匹配器，每個所述匹配器連接有電極。進一步的，設置有兩個所述匹配器。本實用新型的有益效果是(I)簡化了結構，降低了成本；(2)避免了因射頻源相互幹擾過程中形成鋸齒狀的波形的缺陷，可以持續地穩定工作；(3)具有能長時間保證等離子體的密度，實現連續化生產；(4)既能保證等離子體的密度，也能保證等離子體的均勻度。上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段，並可依照說明書的內容予以實施，以下以本實用新型的較佳實施例並配合附圖詳細說明如後。本實用新型的具體實施方式
由以下實施例及其附圖詳細給出。
此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，構成本申請的一部分，本實用新型的示意性實施例及其說明用於解釋本實用新型，並不構成對本實用新型的不當限定。在附圖中圖I本實用新型連接關係不意圖。圖中標號說明1、射頻源，2、射頻源分配器，3、匹配器，5、電極。
具體實施方式
下面將參考附圖並結合實施例，來詳細說明本實用新型。[0017]參照圖I所示，共用一個射頻源的多等離子體裝置，包括射頻源I，所述射頻源I通過導線連接有射頻源分配器2，所述射頻源分配器2通過導線連接有若干匹配器3，每個所述匹配器3連接有電極5。進一步的，設置有兩個所述匹配器3。所屬的裝置為基於單片機的模塊化系統，包括負載阻抗實時獨立監測模塊、W型匹配網絡及變量自動控制系統，其中所述負載阻抗實時監測模塊包含雙定向耦合和信號調理電路，用於實時性測量並提供單片機進行負載阻抗計算的原參數，所述W型匹配網絡為由至少4個可調電容構成的原件W型匹配系統。其中，射頻源I和射頻源分配器2、匹配器3的裝置。在射頻源I與匹配器3之間是射頻源分配器2。電極5在的載體(設備外殼)應接地E.該裝置為基於單片機(也稱作微處理器，以下均以英文簡稱MPU。沒有圖示)的模塊化系統，包括負載阻抗實時監測總路。射頻源分配器可以均勻性的把能量輸送給匹配器3實現均一性。在能量許可的情況下，也可以把根據生產工藝需求，調整射頻源分配器的相應參數，實行差額的能量傳送。差額的能 量傳送單一體現是階梯狀，當然階梯的差值可以通過分配器進行調整。如果，用於不同的產線、產品、或者不同的工藝。在保證功率許可的範圍內，可實現各匹配器的獨立性校正。以上所述僅為本實用新型的優選實施例而已，並不用於限制本實用新型，對於本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1.共用一個射頻源的多等離子體裝置，其特徵在於包括射頻源(I)，所述射頻源(I)通過導線連接有射頻源分配器(2)，所述射頻源分配器(2)通過導線連接有若干匹配器(3)，每個所述匹配器(3)連接有電極(5)。
2.根據權利要求I所述的共用一個射頻源的多等離子體裝置，其特徵在於設置有兩個所述匹配器(3)。·
專利摘要本實用新型公開了一種共用一個射頻源的多等離子體裝置，包括射頻源，所述射頻源通過導線連接有射頻源分配器，所述射頻源分配器通過導線連接有若干匹配器，每個所述匹配器連接有電極。本實用新型簡化了結構，降低了成本；避免了因射頻源相互幹擾過程中形成鋸齒狀的波形的缺陷，可以持續地穩定工作；具有能長時間保證等離子體的密度，實現連續化生產；既能保證等離子體的密度，也能保證等離子體的均勻度。
文檔編號H05H1/46GK202488863SQ20122007424
公開日2012年10月10日 申請日期2012年3月1日 優先權日2012年3月1日
發明者張亮, 房永峰 申請人:蘇州匯智真空科技有限公司