一種it產品專用保護膜基材的製作方法
2023-12-02 03:33:46
專利名稱：一種it產品專用保護膜基材的製作方法
技術領域：
本發明屬於光學薄膜產品領域涉及的一種IT產品專用保護膜基材，適用於稜鏡片、擴散片、增光片、偏光片、導光板、手機、電腦顯示屏及各種感光性幹膜等表面保護，還可用於各種鋼鐵板材及建築玻璃、板材的表面保護。
背景技術：
IT產品的生產過程中，特別是液晶顯示屏，是由多種光學片材組合而成的，這些光學片材包括稜鏡片、擴散片、增光片、偏光片、導光板等。這些光學片材在組合成液晶顯示器的生產流程中，如果表面產生損傷、出現汙垢以及吸附灰塵等以後，會影響到整個液晶顯示器的質量，因此需要在光學片材表面貼附一層保護膜，該保護膜在進入下道工序前被從光學片材表面揭下。該保護膜由保護膜基材和膠黏劑組成。現在市場上出現的保護膜，其基材主要有雙向拉伸聚酯薄膜、雙向拉伸聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜等。雙向拉伸聚酯薄膜硬度大、靜電大、抗衝擊性能差，易對光學片材造成損傷；雙向拉伸聚丙烯薄膜的抗衝擊性能差；聚乙烯薄膜的挺度不夠，耐熱性差且薄膜晶點多。目前，國內出現了一些保護膜生產技術，例如專利申請號為03147185. 4中提到的用於光學膜的表面保護膜，其基礎材料為聚乳酸繫膜；專利申請號為200680010909. 9中提到的保護膜基材主要成分是含有(甲基)丙烯酸系樹脂，經過雙向拉伸工藝生產的；和本發明最為接近的是申請號為200780035349. 7提供的表面保護膜，但其為基材層單面上層壓有粘合層的保護膜，其基材層的粘合劑層的算術表面平均粗糙度為0. 65微米以下，基材層的另一側算術表面平均粗糙度為0. 6微米以上，薄膜薄膜平整度不好。另外，市場上所銷售的保護膜基材，大多是從日本、韓國等進口的，售價較高。
發明內容
本發明為了解決現有技術的不足，提供了一種IT產品專用保護膜基材，將聚丙烯塑料粒子通過三層共擠流延法生產，生產工藝簡單，生產成本低廉。為了實現上述目的本發明採用如下技術方案IT產品專用保護膜基材，其特徵在於包括外表層、中間層、內表層，所述的三層的層厚比例分別為外表層5% _60%，中間層10% -80%，內表層5% -60%。所述的IT產品專用保護膜基材，其特徵在於所述的外表層材質為嵌斷共聚聚丙烯或均聚聚丙烯或二者的共混物，中間層材質為均聚聚丙烯或嵌斷共聚聚丙烯或二者的共混物；內表層材質為嵌斷共聚聚丙烯或均聚聚丙烯或二者的共混物。所述的IT產品專用保護膜基材，其特徵在於所述的保護膜基材厚度範圍為 20-150微米，優選厚度範圍為30-90微米。所述的IT產品專用保護膜基材，其特徵在於所述的保護膜基材，適用於稜鏡片、 擴散片、增光片、偏光片、導光板、手機、電腦顯示屏及各種感光性幹膜等表面保護，還可用於各種鋼鐵板材及建築玻璃、板材的表面保護。
本發明的有益效果1、薄膜晶點控制好，晶點尺寸小於150微米，完全滿足光學薄膜等級要求。2、耐熱性能好，拉伸強度及抗衝擊性能優異。和日本、韓國進口膜耐熱性能比較， 見圖1 ；3、表面平整度好，兩面的表面粗糙度均為0.25微米以下，顯微圖片見圖2、圖3。
圖1 本發明保護膜基材和日本、韓國進口膜耐熱性能對比。圖2 本發明保護膜基材表面粗糙度的顯微圖片。圖3:本發明結構圖。
具體實施例方式實施例1 :IT產品專用保護膜基材，包括外表層1、中間層2、內表層3，所述的三層的層厚比例分別為外表層5% -60%，中間層10% -80%，內表層5% -60%。所述的IT產品專用保護膜基材，所述的外表層主要材質為嵌斷共聚聚丙烯或均聚聚丙烯或二者的共混物，中間層主要材質為均聚聚丙烯或嵌斷共聚聚丙烯或二者的共混物；內表層主要材質為嵌斷共聚聚丙烯或均聚聚丙烯或二者的共混物。所述的IT產品專用保護膜基材，所述的保護膜基材厚度範圍為20-150微米，優選厚度範圍為30-90微米。實施例2 綜合考慮薄膜性能及成本，本發明的最好比例為外表層100%嵌斷共聚聚丙烯，佔層厚比例的20%，中間層100%均聚聚丙烯，佔層厚比例的60%內表層100%嵌斷共聚聚丙烯，佔層厚比例的20%。根據實際要求，外表層、中間層、內表層的原料比例及層厚比例可做調整。
權利要求
1.一種IT產品專用保護膜基材，其特徵在於包括外表層、中間層、內表層，所述的三層的層厚比例分別為外表層5% _60%，中間層10% -80%，內表層5% -60%。
2.根據權利要求1所述的IT產品專用保護膜基材，其特徵在於所述的外表層材質為嵌斷共聚聚丙烯或均聚聚丙烯或二者的共混物，中間層材質為均聚聚丙烯或嵌斷共聚聚丙烯或二者的共混物；內表層材質為嵌斷共聚聚丙烯或均聚聚丙烯或二者的共混物。
3.根據權利要求1所述的IT產品專用保護膜基材，其特徵在於所述的保護膜基材厚度範圍為20-150微米。
4.根據權利要求3所述的IT產品專用保護膜基材，其特徵在於所述的保護膜基材厚度範圍為30-90微米。
全文摘要
本發明公開了一種IT產品專用保護膜基材，其主要是由一定比例的外表層、中間層、內表層組成。本發明保護膜基材的薄膜晶點控制好，晶點尺寸小於150微米，完全滿足光學薄膜等級要求；耐熱性能好，拉伸強度及抗衝擊性能優異；而且表面平整度好，兩面的表面粗糙度均為0.25微米以下。
文檔編號B32B27/06GK102259451SQ2011101144
公開日2011年11月30日 申請日期2011年5月6日 優先權日2011年5月6日
發明者唐健, 唐新國, 張治國, 王幫新, 耿偉 申請人:安徽省寧國雙津(集團)實業有限公司