蒸發磁控真空鍍膜機的製作方法

2023-12-06 03:39:36

專利名稱：蒸發磁控真空鍍膜機的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空鍍膜機。
在裝飾品的加工中，為提高各種塑料、陶瓷、金屬等工件的檔次，均需進行鋁、銅和仿金等的裝飾性表面膜層鍍膜加工處理。所採用的鍍膜方式有電阻蒸發或磁控濺射鍍膜。前者主要用於蒸鍍低熔點金屬、非金屬材料，如在塑料上蒸鍍裝飾性鋁膜等；後者主要用於對難熔，高硬度金屬的蒸鍍，如銅膜、鈦膜、超硬膜和合金膜等。由於這兩種蒸鍍方式的工作原理不同，彼此無法互相替代，極大地限制了僅具單一蒸發方式的鍍膜設備範圍，用戶若要實現多種工件，多種膜系並存，就需用多臺鍍膜設備，這就增加了成本和費用。現有的磁控鍍膜設備均為每個真空室配用一個門，鍍膜與工件裝夾分兩步進行，這種方法效率低，無法滿足日益增加的市場需要。
本實用新型的目的在於為克服上述單一蒸發鍍膜的不足，提供一種能同時配裝蒸發和磁控兩套裝置的真空鍍膜設備，以提高鍍膜效率。
本實用新型包括真空機組和真空室，所述的真空機組與真空室連接，在真空室的左右兩側設有左大門和右大門，在左大門和右大門上均配裝有蒸發裝置和磁控裝置，所述的左大門和右大門設有可預留裝配蒸發裝置和磁控裝置的接口，所述的工件架均裝於左大門和右大門上。
本實用新型在一臺設備上同時配裝蒸發、磁控兩套裝置，或預留兩種裝置的安裝接口，可方便在需要時輕易換裝蒸發或磁控裝置；採用一室雙門的結構，可在鍍膜的同時進行工件的裝夾，提高了整機的工作效率。
現結合附圖
和實施例加以說明。
附圖為本實用新型結構原理示意圖。
圖中所示，在一臺設備上，配裝蒸發和磁控兩套裝置，合成蒸發磁控真空鍍膜機，或者在左、右大門3、6上預留該蒸發和磁控兩種裝置的接口8，可方便需要時輕易換裝這兩種裝置。這就使在整批零件若需蒸鍍鋁膜或非金屬材料膜系時，可將兩個門都裝上電阻蒸發裝置而進行蒸發真空鍍膜；在下一批零件如需鍍鈦膜或仿金膜時，再換上磁控靶裝置進行磁控真空鍍膜，從而使一臺設備就完全滿足多種膜系，多種鍍膜工藝的要求。本蒸發磁控真空鍍膜機，採用單室雙門的結構，在鍍膜的同時並可進行工件的裝夾，明顯地提高了整機的工作效率。
權利要求1.一種蒸發磁控真空鍍膜機，包括真空機組和真空室，其特徵在於，所述的真空機組(1)與真空室(2)連接，所述的真室空(2)的左右兩側設有左大門(3)和右大門(6)，在左大門(3)和右大門(6)上均配裝有蒸發裝置(5)和磁控裝置(4)。
2.據權利要求1所述的蒸發磁控真空鍍膜機，其特徵在於，所述的左大門(3)和右大門(6)設有可預留裝配蒸發裝置(5)和磁控裝置(4)的接口(8)。
3.據權利要求1或2所述的蒸發磁控真空鍍膜機，其特徵於，所述的工件架(7)均裝於左大門(3)和右大門(6)上。
專利摘要本實用新型涉及一種真空鍍膜機。它是在中間設置真空室,在真空室的左右兩側設置左右大門,而在其中配裝蒸發裝置和磁控裝置,可在該雙門上預留該兩裝置的接口,以備需要時換裝。本實用新型設置單室雙門的結構,可滿足多膜系,多鍍膜工藝的需要,使工作效率顯著提高,適於各種金屬和非金屬材料的鍍膜之用。
文檔編號C23C14/24GK2476563SQ0120595
公開日2002年2月13日 申請日期2001年3月26日 優先權日2001年3月26日
發明者蔡東鋒, 梁凱基, 宋興文, 馮其元, 聶庭森, 程輝 申請人:廣東真空設備廠股份有限公司