單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜的製作方法

2023-12-03 07:17:41

單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜的製作方法
【專利摘要】本實用新型揭示了一種單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜作為電容器的內芯膜材，它由上層膜和下層膜相疊構成的四串式結構，下層膜的寬度A2小於上層膜的寬度A1，且上層膜和下層膜設為聚酯基膜及其上一體鍍覆的鋁膜，其中上層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有對稱的一對內留邊並分隔三段鋁膜，下層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有一個中留邊和一對外留邊及其間的兩段鋁膜。應用本實用新型的技術優點表現為：採用鋁作為金屬一體化的膜層材料，並採用留邊分段間隔鋁膜並交錯相疊構成四串式結構，能有效防止交流條件下的電化學腐蝕和相對耐壓，適於調整電容器的耐壓、脈衝、dv/dt等電氣特性。並且該薄膜的規格多選和工藝偏差可控，提高了電容器成品的性能穩定性。
【專利說明】單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜
【技術領域】
[0001 ] 本實用新型涉及一種電容器生產基材，尤其涉及一種電容器製造所用的新型內芯膜材。
【背景技術】
[0002]隨著電子工業的飛速發展，電容器作為一種應用極為廣泛的電子元器件，其產品用量也極大。因此對電容器生產製造的產能提出了更高的要求。從電容器的內芯結構來看，它是由薄膜按照電容器電氣特性選擇不同繞卷結構製成的。因此，為提高電容器產品的性能，勢必從該內芯的薄膜本身結構尋求改進，以滿足電容器各種應用的電氣性能要求。
[0003]從電容器用金屬化薄膜的工藝參數來看:金屬化薄膜中的金屬鍍膜是在真空鍍膜機內金屬蒸汽形成的，塗層厚度很薄，通常只有幾十個納米，直接測量難度較大。目前大多廠家一般通過測量方阻值或電流值來間接反映金屬層的厚度，方阻的單位為Ω/ □，英譯為Resistance square。方阻就是方塊電阻,指一個同長同寬(也就是一個正方形)的條件下的金屬化薄膜鍍層表面邊到邊之間的電阻。方塊電阻有一個特性，即任意大小的正方形邊到邊的電阻都是一樣的，不管邊長是Im還是1_，它們的方阻都是一樣，只要測試電極導電區域無法形成正方形的測試值都會產生嚴重誤差。本創作金屬化薄膜的性能指標衡量均以理想測量的方阻衡量。

【發明內容】

[0004]本實用新型的目的旨在提出一種單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜。
[0005]本實用新型的上述目的，將通過以下技術方案得以實現:單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜，作為電容器的內芯膜材，其特徵在於:所述薄膜為由上層膜和下層膜相疊構成的四串式結構，下層膜的寬度A2小於上層膜的寬度Al，且上層膜和下層膜設為聚酯基膜及其上一體鍍覆的鋁膜，其中上層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有對稱的一對內留邊並分隔三段鋁膜，下層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有一個中留邊和一對外留邊及其間的兩段鋁膜。
[0006]進一步地，所述上層膜中外側兩段鋁膜的寬度Cl小於中間一段鋁膜的寬度C2。
[0007]進一步地，所述下層膜的兩段鋁膜等長，且下層膜中鋁膜的寬度C3大於或等於上層膜中間一段鋁膜的寬度C2。
[0008]進一步地，所述內留邊的寬度BI與中留邊的寬度B3相等且均大於外留邊的寬度B2。
[0009]應用本實用新型的單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜，其技術優點表現為:該薄膜採用鋁作為金屬一體化的膜層材料，並採用留邊分段間隔鋁膜並交錯相疊構成四串式結構，能有效防止交流條件下的電化學腐蝕和相對耐壓，適於調整電容器的耐壓、脈衝、dv/dt等電氣特性。並且該薄膜的規格多選和工藝偏差可控，提高了電容器成品的性能穩定性。【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜一優選實施例的截面結構示意圖。
【具體實施方式】
[0011]以下便結合實施例附圖，對本實用新型的【具體實施方式】作進一步的詳述，以使本實用新型技術方案更易於理解、掌握。本實用新型針對電容器不斷增加的生產需求和性能提升要求，對該電容器的內芯膜材進行改良性研究。
[0012]如圖1所示，是本實用新型單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜一優選實施例的截面結構示意圖。從圖示可見該薄膜為由上層膜和下層膜相疊構成的四串式結構，下層膜的寬度A2小於上層膜的寬度Al，且上層膜和下層膜均設為聚酯基膜11及其上一體鍍覆的鋁膜22，其中上層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有對稱的一對內留33並分隔三段鋁膜，下層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有一個中留邊31和一對外留邊32及其間的兩段鋁膜。
[0013]從圖示還可見，該上層膜中外側兩段鋁膜的寬度Cl小於中間一段鋁膜的寬度C2 ；而下層膜的兩段鋁膜等長，且下層膜中鋁膜的寬度C3大於或等於上層膜中間一段鋁膜的寬度C2。此外，上述內留邊的寬度BI與中留邊的寬度B3相等且均大於外留邊的寬度B2。
[0014]需要說明的是，上述單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜中，聚酯基膜可例如韓國SKCSC42型PET基膜。
[0015]上述各種留邊旨在保障電容器卷繞中上下兩層薄膜間有一定的絕緣強度。但留邊的寬度選擇具有一定的範圍，太大會減小電容的有效面積導致成本浪費，太小會使電容器耐高壓的安全距離不足、容易爬電產生飛弧。
[0016]上述鋁膜則形成電容器的極板並具有良好的自愈性。這是一個形成電容量和保持電容器電氣特性的一個最關鍵的區域，它應保證合適的金屬成分比例，防止交流條件下的電化學腐蝕，同時可以提高電容器的相對耐壓，選擇合適的金屬鍍層同樣可以改變電容器耐壓、脈衝、dv/dt等電氣特性。通過將上、下層膜相疊，則形成了由留邊相隔形成的四段分離的金屬化區段，即四串式結構。
[0017]該薄膜的具體規格參數以兩個產品來看如下表所示(單位mm):
[0018]
【權利要求】
1.單面四串式留邊鋁金屬化聚酯膜，作為電容器的內芯膜材，其特徵在於:所述聚酯膜為由上層膜和下層膜相疊構成的四串式結構，下層膜的寬度A2小於上層膜的寬度Al，且上層膜和下層膜設為聚酯基膜及其上一體鍍覆的鋁膜，其中上層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有對稱的一對內留邊並分隔三段鋁膜，下層膜的聚酯基膜表面沿寬度方向設有一個中留邊和一對外留邊及其間的兩段鋁膜；所述上層膜中外側兩段鋁膜的寬度Cl小於中間一段鋁膜的寬度C2，所述下層膜的兩段鋁膜等長且下層膜中鋁膜的寬度C3大於或等於上層膜中間一段鋁膜的寬度C2，所述內留邊的寬度BI與中留邊的寬度B3相等且均大於外留邊的寬度B2。
【文檔編號】H01G4/14GK203456295SQ201320519462
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年8月23日 優先權日:2013年8月23日
【發明者】汪祥久 申請人:崑山泓電隆泰電子材料有限公司