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一種用於鍍膜機的料倉結構的製作方法

2023-12-09 23:42:01


本發明涉及鍍膜機領域,尤其涉及一種用於鍍膜機的料倉結構。



背景技術:

鍍膜機料倉蒸發料用完或者需要清洗料倉時,傳統方法是由人工將料倉拉出並清洗,這種人工取出料倉的方式費時費力,大大提高了工作人員的勞動強度,並且極易造成勞動人員在工作時由於料倉溫度過高出現的燙傷情況。



技術實現要素:

本申請人針對上述現有問題,進行了研究改進,提供一種用於鍍膜機的料倉結構,其能實現料倉的自動進出,減輕了工作人員的勞動強度,避免在工作過程中因溫度過高出現的燙傷情況。

本發明所採用的技術方案如下:

一種用於鍍膜機的料倉結構,包括料倉本體,所述料倉本體通過滾輪與導軌滑動連接,於所述料倉本體底部設置多個氣缸,在所述料倉本體的兩端分別設置用於將料倉本體在導軌上牽引作直線位移的第一牽引機構及第二牽引機構。

其進一步技術方案在於:

所述氣缸分別位於料倉本體底部的前端及後端;

所述料倉本體包括料倉倉底,多塊料倉倉壁圍合在所述料倉倉底的四周形成矩形帶開口倉體,於所述料倉本體的開口處設置用於連接鍍膜室體的第一法蘭口,在互為相對的兩塊料倉倉壁上還設置與用於蒸發組件連接的第二法蘭口,沿所述料倉倉壁的外周還設置多個加強筋,在所述料倉倉底及各塊料倉艙壁的外周還設置外壁水冷管;

所述第一牽引機構及第二牽引機構均包括電機、牽引帶及掛鈎,所述電機的輸出端連接牽引帶的一端,所述牽引帶的另一端與掛鈎連接;

於各條導軌上均設置光電感應位置開關,所述滾輪為4個,於所述料倉本體的兩側分別設置兩個滾輪;

在所述料倉本體中互為相對的兩塊料倉倉壁的外側還分別設置有用於與掛鈎連接的吊耳;

在所述第一法蘭口上還設置密封膠圈。

本發明的有益效果如下:

本發明結構簡單、使用方便,通過在料倉本體的兩端設置牽引機構,利用滾輪、導軌、牽引機構實現了料倉本體在導軌上的直線位移,減輕了工作人員的勞動強度,防止勞動人員在工作時由於料倉溫度過高出現的燙傷情況,大大提高了安全性能,光電感應位置開關的布置提高了本發明的精確控制性。

附圖說明

圖1為本發明中料倉本體的立體結構示意圖。

圖2為本發明中裝配外壁水冷管的料倉的主視圖。

圖3為圖2的仰視圖。

圖4為圖2的側視圖。

圖5為本發明在工作狀態時的主視圖。

圖6為本發明在工作狀態時的俯視圖。

其中:1、第一法蘭口;2、料倉倉壁;3、料倉倉底;4、加強筋;5、第二法蘭口;6、外壁水冷管;7、鍍膜室體;8、第一牽引機構;9、第二牽引機構;10、導軌;11、光電感應位置開關;12、氣缸;13、滾輪;14、吊耳。

具體實施方式

下面說明本發明的具體實施方式。

如圖5、圖6所示,本發明所述的一種用於鍍膜機的料倉結構包括料倉本體,料倉本體通過滾輪13與導軌10滑動連接,於料倉本體底部設置多個氣缸12,在料倉本體的兩端分別設置用於將料倉本體在導軌上牽引作直線位移的第一牽引機構8及第二牽引機構9。上述氣缸12分別位於料倉本體底部的前端及後端,該氣缸12用於抬升料倉本體並實現料倉本體與鍍膜室體7的連通。如圖4所示,上述第一牽引機構8及第二牽引機構9均包括電機、牽引帶及掛鈎,電機的輸出端連接牽引帶的一端,牽引帶的另一端與掛鈎連接。如圖4所示,於各條導軌10上均設置光電感應位置開關11,上述滾輪13為4個,於料倉本體的兩側分別設置兩個滾輪13。

如圖1、圖2、圖3及圖4所示,料倉本體包括料倉倉底3,多塊料倉倉壁2圍合在料倉倉底3的四周形成矩形帶開口倉體,於料倉本體的開口處設置用於連接鍍膜室的第一法蘭口1,在互為相對的兩塊料倉倉壁2上還設置與用於蒸發組件連接的第二法蘭口5,沿料倉倉壁2的外周還設置多個加強筋4,在料倉倉底3及各塊料倉倉壁2的外周還設置外壁水冷管6。

如圖6所示,在料倉本體中互為相對的兩塊料倉倉壁2的外側還分別設置有用於與掛鈎連接的吊耳14。

本發明的具體工作過程如下:

在正常工作時料倉本體通過氣缸12抬升至與鍍膜室體7連接,在需要加料或者維護時,首先鍍膜室體7首先放氣,使鍍膜室體7內外壓力相同,然後料倉本體底部的氣缸12縮回,料倉本體在自身重力作用下落至導軌10上,其通過滾輪13支撐於軌道10上,如圖5、圖6所示,第二牽引機構9中的電機啟動並通過牽引帶、掛鈎拉動料倉本體至導軌10最右側,工作人員可以進行加料或維護,待加料維護完成後,由第一牽引機構8中的電機啟動並通過牽引帶、掛鈎將料倉本體拉回至於鍍膜室體7下部,光電感應位置開關11感應料倉本體到達指定位置後,第一牽引機構8停止工作。氣缸12升起並抬升料倉本體,使料倉本體的第一法蘭口1與鍍膜室體7的法蘭口對接,然後鍍膜室體7進行抽真空,使料倉本體在氣缸12及大氣壓作用下,通過料倉本體第一法蘭口1的密封膠圈與鍍膜室體7密封,由此完成加料、維護工作。

以上描述是對本發明的解釋,不是對發明的限定,本發明所限定的範圍參見權利要求,在不違背本發明的基本結構的情況下,本發明可以作任何形式的修改。

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