一種首飾的製作方法
2023-05-30 18:44:46
專利名稱：一種首飾的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種首飾，尤其指一種貴金屬首飾。
背景技術：
對於諸如頸飾、手飾等之類的貴金屬首飾，往往在其本體的外面處雕刻有諸如佛 像、吉祥字句等圖案，一者，可以增加首飾的整體美觀度，二者，可以體現祈福驅邪的意願。 目前，首飾圖案的製作，多於首飾本體的表面直接雕刻而成，即，首先處理首飾本體的表面， 使其較為光滑，然後通過雕花機或手工於該表面處雕刻出所需的圖案。由於圖案直接形成 於首飾本體的表面，在首飾佩戴的過程中，圖案完全直接跟人體相接觸，容易發生磨擦而劃 花首飾表面的圖案，導致其不清晰，進而影響首飾的美觀。
發明內容本實用新型在於解決現有首飾其表面處的圖案容易劃花而導致圖案不清晰的技 術問題，提供一種表面處的圖案不易劃花、可保持圖案清晰的首飾。為解決上述技術問題，本實用新型採用如下技術方案一種雕刻有圖案的首飾，包 括有一首飾本體，所述首飾本體上需要雕刻圖案的表面處形成有底紋，所述底紋由多個間 隔排列的形成於所述首飾本體表面處的凹槽構成，圖案雕刻於所述底紋之上。上述雕刻有圖案的首飾中，相鄰兩凹槽之間的間隔相等。上述雕刻有圖案的首飾中，所述凹槽的槽深為0. 03 0. 08mm,寬度為0. 04 0. 11_，相鄰兩凹槽的間隔為0. 02 0. 14_。上述雕刻有圖案的首飾中，所述凹槽為截面呈矩形的結構。上述雕刻有圖案的首飾中，所述凹槽為截面呈等邊三角形的結構。上述雕刻有圖案的首飾中，所述凹槽為截面呈梯形的結構。上述雕刻有圖案的首飾中，所述首飾本體為黃金材料製備。上述雕刻有圖案的首飾中，所述首飾本體為空心稜柱狀。本實用新型的有益技術效果在於先於首飾本體需雕刻圖案的表面處製作底紋， 再於該底紋上雕刻出所要的圖案，而由於底紋為多個形成於首飾本體表面處的凹槽間隔排 列而構成，首飾佩戴時，可大幅度減少雕刻於其上的圖案與人體的直接接觸，有效避免發生 磨擦而劃花圖案，從而保持圖案的清晰。
圖1是本實用新型的結構示意圖。圖2是本實用新型的底紋的結構示意圖。圖3是本實用新型另一實施例的底紋的結構示意圖。圖4是本實用新型再一實施例的底紋的結構示意圖。圖5是本實用新型的製造工藝流程圖。
具體實施方式
為使本領域的普通技術人員更加清楚地理解本實用新型的目的、技術方案和優 點，
以下結合附圖和實施例對本實用新型做進一步的闡述。參考圖1所示，本實用新型所公開的首飾包括有一首飾本體10，該首飾本體10可 採用黃金、鉬金等貴金屬材料製備。在本實施例中，以一空心六稜柱狀的首飾本體為例對本 實用新型的技術方案進行詳細的說明，但顯而易見地，本實用新型也可應用於諸如片狀、球 狀等之類其他結構的首飾本體之上。於該首飾本體10的需要雕刻圖案的表面處形成有底 紋20，再於該底紋20上雕刻諸如佛像、神像、吉祥文字等之類的圖案30。圖案30的製作， 可通過雕花機進行，也可以通過人工雕刻進行。結合圖2所示，於首飾本體10的外表面處制出多個凹槽200，多個凹槽200間隔相 等排列而形成底紋20。圖2所示出的實施例中，凹槽200設計為截面為矩形的結構，槽深D 為0. 06mm,寬度W為0. 08mm，相鄰兩凹槽200之間的間隔I為0. 12mm。如圖3所示，在此實施例中，形成於首飾本體10的外表面處的凹槽200設計為截 面呈等邊三角形的結構，槽深D為0. 07mm,寬度W為0. Imm,而相鄰兩凹槽200之間的間隔 則為 0. 03mm。參閱圖4，此實施例中，形成於首飾本體10的外表面處的凹槽200呈截面為梯形的 結構，槽深D為0. 04mm,寬度W為0. 06mm，而相鄰兩凹槽200之間的間隔則為0. 05mm。在本實用新型所公開的技術方案中，先於首飾本體10需雕刻圖案表面處製作底 紋20，再於該底紋20上雕刻出所要的圖案30，而由於底紋20為多個形成於首飾本體10表 面處的凹槽200間隔排列而構成，首飾佩戴時，可大幅度減少雕刻於其上的圖案30與人體 的直接接觸，有效避免發生磨擦而劃花圖案30，從而保持圖案30的清晰。下面結合圖5所示，以說明本實用新型所涉及的首飾的製作工藝。製作首飾坯體(步驟S01)，可採用現有的工藝製造出所需的首飾坯體。以加工上 述空心六稜柱的首飾本體為例，首先，將金條壓製成厚度適當的薄片，並根據預定的尺寸裁 切成長方形薄片；然後，將長方形薄片卷製成空心管；最後，通過成型模具將空心管拉製成 空心六稜柱狀，根據所需要的長度切割而成空心六稜柱狀的首飾坯體。於首飾坯體上加工底紋(步驟S02)。使用雕刻機於該首飾坯體上需雕刻圖案的表 面處加工出等間隔排列的凹槽，以形成底紋。常見地，凹槽為截面呈矩形、三角形、或梯形的 結構，當然，也可以設計為其他幾何形狀的結構。於底紋上雕刻出圖案(步驟SO； )。使用雕刻機或者手工雕刻於底紋上雕刻出所需 的圖案，例如佛像、神像、文字等。對首飾進行拋光(步驟S04)，以降低首飾的表面的粗糙度，提高首飾的光澤度。以上所述僅為本實用新型的優選實施例，而非對本實用新型做任何形式限制，凡 在權利要求範圍內所做的等同變化或修飾，均應落入本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1.一種雕刻有圖案的首飾，包括有一首飾本體，其特徵在於所述首飾本體上需要雕 刻圖案的表面處形成有底紋，所述底紋由多個間隔排列的形成於所述首飾本體表面處的凹 槽構成，圖案雕刻於所述底紋之上。
2.如權利要求1所述的雕刻有圖案的首飾，其特徵在於相鄰兩凹槽之間的間隔相等。
3.如權利要求1或2所述的雕刻有圖案的首飾，其特徵在於所述凹槽的槽深為 0. 03 0. 08mm，寬度為0. 04 0. 11mm，相鄰兩凹槽的間隔為0. 02 0. 14mm。
4.如權利要求1所述的雕刻有圖案的首飾，其特徵在於所述凹槽為截面呈矩形的結構。
5.如權利要求1所述的雕刻有圖案的首飾，其特徵在於所述凹槽為截面呈等邊三角 形的結構。
6.如權利要求1所述的雕刻有圖案的首飾，其特徵在於所述凹槽為截面呈梯形的結構。
7.如權利要求1所述的雕刻有圖案的首飾，其特徵在於所述首飾本體為黃金材料製備。
8.如權利要求1所述的雕刻有圖案的首飾，其特徵在於所述首飾本體為空心稜柱狀。
專利摘要本實用新型公開一種雕刻有圖案的首飾，其包括有一首飾本體，所述首飾本體上需要雕刻圖案的表面處形成有底紋，所述底紋由多個間隔排列的形成於所述首飾本體表面處的凹槽構成，圖案雕刻於所述底紋之上。先於首飾本體需雕刻圖案的表面處製作底紋，再於該底紋上雕刻出所要的圖案，而由於底紋為多個形成於首飾本體表面處的凹槽間隔排列而構成，首飾佩戴時，可大幅度減少雕刻於其上的圖案與人體的直接接觸，有效避免發生磨擦而劃花圖案，從而保持圖案的清晰。
文檔編號A44C27/00GK201854773SQ201020513029
公開日2011年6月8日 申請日期2010年8月31日 優先權日2010年8月31日
發明者葉偉洪, 周桃紅, 李曉峰, 李海軍, 趙建全, 韓文琨 申請人:深圳市百泰珠寶首飾有限公司