一種真空鍍膜裝置製造方法

2023-06-06 22:43:31 2

一種真空鍍膜裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種真空鍍膜裝置，包括腔體，所述的腔體內設置有探頭、放置基片的模板、第一蒸發源和第二蒸發源；所述的腔體旁側設置有氣管；所述的氣管與外部的真空泵連接；所述的第一蒸發源上設置有圓錐形的防護罩，本實用新型的有益效果是結構簡單，使用方便，鍍膜均勻，能夠避免蒸渡過程中的交叉汙染。
【專利說明】一種真空鍍膜裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空鍍膜領域，尤其是涉及一種真空鍍膜裝置。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜技術中，往往將材料高溫加熱，然後冷卻到基片形成薄膜，在鍍膜過程中，由於材料會形成氣體，氣體具有不穩定性，並且由於真空鍍膜的腔體的腔體較大，這樣會使薄膜形成的不均勻；另外，由於真空腔體內存在多個蒸發源，當使用其中一個蒸發源時，會對其他的蒸發源造成汙染，影響鍍膜的質量。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的是提供一種真空鍍膜裝置，結構簡單，使用方便，鍍膜均勻，能夠避免蒸渡過程中的交叉汙染。
[0004]本實用新型的技術方案是:一種真空鍍膜裝置，包括腔體，所述的腔體內設置有探頭、放置基片的模板、第一蒸發源和第二蒸發源；所述的腔體旁側設置有氣管；所述的氣管與外部的真空泵連接；所述的第一蒸發源上設置有圓錐形的防護罩。
[0005]進一步的，所述的圓錐形的防護罩可以用設置在第一蒸發源和第二蒸發源之間的擋板替代。
[0006]進一步的，所述擋板為可活動的。
[0007]本實用新型具有的優點和積極效果是:由於採用上述技術方案，結構簡單，使用方便，鍍膜均勻，能夠避免蒸渡過程中的交叉汙染。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0009]圖2是本實用新型實施例二的結構示意圖。
[0010]圖中:
[0011]1、腔體2、探頭3、氣管4、真空泵5、模板6、第一蒸發源7、第二蒸發源8、防護罩9、擋板
【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖對本實用新型做詳細說明。
[0013]實施例一
[0014]如圖1所示，本實用新型一種真空鍍膜裝置，包括腔體1，所述的腔體I內設置有探頭2、放置基片的模板5、第一蒸發源6和第二蒸發源7 ;所述的腔體I旁側設置有氣管3 ;所述的氣管3與外部的真空泵4連接；所述的第一蒸發源6上設置有圓錐形的防護罩8。因此，圓錐形的防護罩8既避免了蒸發源的汙染，由於使氣態的蒸渡材料受到了空間的限制，又可以使鍍膜均勻。[0015]實施例二
[0016]實施例二與實施例一的不同之處在於:如圖1-2所示，所述的圓錐形的防護罩8可以用設置在第一蒸發源6和第二蒸發源7之間的擋板9替代；所述擋板9為可活動的。擋板9的作用是避免蒸發源的汙染，使之不影響鍍膜的質量。
[0017]以上對本實用新型的一個實施例進行了詳細說明，但所述內容僅為本實用新型的較佳實施例，不能被認為用於限定本實用新型的實施範圍。凡依本實用新型申請範圍所作的均等變化與改進等，均應仍歸屬於本實用新型的專利涵蓋範圍之內。
【權利要求】
1.一種真空鍍膜裝置，包括腔體(1)，其特徵在於:所述的腔體(I)內設置有探頭(2)、放置基片的模板(5)、第一蒸發源(6)和第二蒸發源(7);所述的腔體(I)旁側設置有氣管(3);所述的氣管(3)與外部的真空泵(4)連接；所述的第一蒸發源(6)上設置有圓錐形的防護罩(8)。
2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特徵在於:所述的圓錐形的防護罩(8)可以用設置在第一蒸發源(6)和第二蒸發源(7)之間的擋板(9)替代。
3.根據權利要求2所述的一種真空鍍膜裝置，其特徵在於:所述擋板(9)為可活動的。
【文檔編號】C23C14/24GK203700489SQ201420011563
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2014年1月6日 優先權日:2014年1月6日
【發明者】吳軍 申請人:天津普利愛特真空鍍膜有限公司