機箱降塵裝置的製作方法

2023-06-04 16:32:31

專利名稱：機箱降塵裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於機箱散熱技術領域，具體涉及一種機箱降塵裝置。
背景技術：
隨著電子產品集成度的提高，系統功耗也在不斷提升，為了保證系統的正常工作， 通風散熱是很多系統都需要面臨的問題。通過優化通風口設計，增加風扇數量，安裝散熱模 塊等方法都可以增強系統的散熱能力，提高系統負荷。在裝有風扇的情況下，不可避免會有 吸附物粘貼在風扇濾網或風扇上，使得系統每隔一段時間就需要對通風口進行清洗維護， 以保證系統工作在可靠條件下。
發明內容本實用新型的目的在於提出一種機箱降塵裝置，以達到減少系統清洗維護次數的 目的。本實用新型提出的機箱降塵裝置，由外殼3、隔離牆4、減速牆5和進風牆6組成， 外殼3的一側為進風口，在進風口的上、下兩側設有進風牆6，從進風口起，外殼3內依次設 有減速牆5和隔離牆4，外殼3的另一側用於放置機箱1裝有風扇2的一側；進風牆6截面 積大於減速牆5截面積，減速牆5截面積小於隔離牆4截面積。本實用新型中，減速牆5是為了改變氣流的速度，其個數視具體情況而定。本實用新型通過隔離牆和若干減速牆改變氣流的速度，使灰塵沉澱於減速區內， 從而使灰塵附著於風扇和機箱的可能性降低。本實用新型右側進風口的上、下兩側各裝有適當高度的進風牆，可以防止桌面的 灰塵揚起。進風口左側裝有若干適當高度的減速牆，由於減速牆截面積小於進風牆截面積 使得氣流的速度減慢，因此氣流中的灰塵會沉澱與減速牆底部。減速牆左側裝有適當高度 的隔離牆，由於隔離牆截面積大於減速牆截面積使得氣流的速度加快，因此降塵後的氣流 迅速經過風扇和機箱，從而減少附著於風扇和機箱的灰塵。本實用新型的製作過程如下第一步根據機箱的尺寸，選擇合適的外殼。本外殼適用的機箱尺寸寬度為 1/219英寸至19英寸，高度為3U至6U。第二步在外殼內合理布置進風牆、隔離牆和若干減速牆。第三步將外殼與機箱後側連接，系統即可工作。本實用新型構思新穎，結構簡單，成本低廉，使用方便。

圖1為本實用新型的結構圖示。圖2為本實用新型的結構圖示。圖中標號1為機箱，2為機箱風扇，3為外殼，4為隔離牆，5為減速牆，6為進風牆。
具體實施方式
下面通過實施例進一步說明本實用新型。實施例如圖1和圖2所示，首先確定機箱1的尺寸，以便選擇合適的外殼3。外 殼的尺寸視機箱的尺寸而定。在外殼3右側進風口的上、下兩側安裝進風牆6。在進風牆6 的左側布置有2個減速牆5。在減速牆5的左側布置有隔離牆4，隔離牆4應高於減速牆5。 將外殼3左側接入機箱1，系統即搭建完成。
權利要求一種機箱降塵裝置，由外殼(3)、隔離牆(4)、減速牆(5)和進風牆(6)組成，其特徵在於外殼(3)的一側為進風口，在進風口的上、下兩側設有進風牆(6)，從進風口起，外殼(3)內依次設有減速牆(5)和隔離牆(4)，外殼(3)的另一側用於放置機箱(1)裝有風扇(2)的一側；進風牆(6)截面積大於減速牆(5)截面積，減速牆(5)截面積小於隔離牆(4)截面積。
專利摘要本實用新型屬於機箱散熱技術領域，具體涉及一種機箱降塵裝置。由外殼、隔離牆、減速牆和進風牆組成，其特徵在於外殼的一側為進風口，在進風口的上、下兩側設有進風牆，從進風口起，外殼內依次設有減速牆和隔離牆，外殼的另一側用於放置機箱裝有風扇的一側；進風牆截面積大於減速牆截面積，減速牆截面積小於隔離牆截面積。本實用新型通過隔離牆和若干減速牆改變氣流的速度，使灰塵沉澱於減速區內，從而使灰塵附著於風扇和機箱的可能性降低。本實用新型構思新穎，結構簡單，成本低廉，使用方便。
文檔編號H05K5/00GK201709076SQ20102018012
公開日2011年1月12日 申請日期2010年4月28日 優先權日2010年4月28日
發明者俞一鳴, 崔穎, 左毅, 彭泓, 徐馳, 李燕俊, 李遠朝, 蔡宵佶, 邢詠紅, 邵暉, 鄒靜, 金瑋, 閆述, 陳彥豐, 陳柯 申請人:上海聚保投資諮詢有限公司;北京信明德投資諮詢有限公司;邵暉;李遠朝;崔穎;金瑋;李燕俊;蔡宵佶;陳彥豐;邢詠紅;陳柯;彭泓;鄒靜;俞一鳴;徐馳;閆述;徐馳