雷射加工的擋光裝置的製作方法

2023-06-13 23:58:51 2

專利名稱：雷射加工的擋光裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及雷射加工設備，具體地說是一種在雷射加工過程中起防護作用的擋光裝置，屬於雷射加工技術領域。
背景技術：
雷射是20世紀以來，繼原子能、計算機、半導體之後，人類的又一重大發明，被稱為「最快的刀」、「最準的尺」、「最亮的光」和「奇異的雷射」。它的亮度為太陽光的100億倍。 目前雷射已經被廣泛應用於多個領域，如雷射切割、雷射焊接、雷射表面處理、雷射打孔、雷射打標、雷射劃線等。在應用雷射時，部分雷射(如大功率雷射、波長小於400 μ m和大於700 μ m的雷射) 會對人體和工作環境造成危害。雷射輻射能對人眼和皮膚造成傷害，其中以前者的後果最為嚴重。雷射輻射造成的眼傷主要有光致角膜炎、角膜凝固、碳化和穿孔、晶狀體混濁、視覺功能性障礙「閃光盲」，以及視網膜凝固、出血和爆裂等。雷射輻射造成的皮膚傷害主要有色素沉著、紅斑和水泡等。對人體構成危害的不僅有直射光，而且還有反射光和漫反射光，所以在應用雷射時要做好各種防護措施，尤其是雷射設備應該配有有效的防護擋光裝置。如圖1所示，現有的雷射加工設備中，在加工平臺10上使用了一層擋光板12防止設備內部的雷射漫反射出來，為了使被加工的工件11能夠自由進出設備，擋光板12與工件 11之間留有一定的間隙，這樣就使雷射很容易就從間隙處反射出來。例如，雷射在加工工件 11時，工件11的表面在加工處產生凹痕20，雷射在凹痕20處發生漫反射，部分漫反射光經過工件11和擋光板12間的間隙溢出。在這樣的環境下工作，將可能給設備使用人員的健康帶來危害。
發明內容本實用新型針對上述現有技術的不足，提供一種雷射加工的擋光裝置，該裝置可有效地防止雷射的漫反射光溢出，擋光效果好。按照本實用新型提供的技術方案，一種雷射加工的擋光裝置，包括放置工件的加工平臺，所述加工平臺上設置有擋光板，特徵是所述擋光板有兩層，其包括固定在所述加工平臺上的靠近所述工件的前擋光板以及固定在所述加工平臺上方的遠離所述工件的後擋光板，所述後擋光板與所述前擋光板之間設置有高度間隙。所述工件上最遠的被加工點離所述前擋光板的距離為a，所述前擋光板離所述後擋光板的距離為b，所述前擋光板的高度為h，所述前擋光板與所述後擋光板之間的高度間隙為C，上述各參數之間的關係為< c < bh/a。所述加工平臺為移出式平臺。本實用新型與已有技術相比具有以下優點本實用新型採用雙層擋光板對雷射加工的漫反射光進行雙重阻擋，擋光效果好，並且結構簡單、使用方便、安全實用，可廣泛適用於各種雷射加工設備，保證雷射加工人員的身體健康和安全。
圖1為現有技術中的擋光裝置的示意圖。圖2為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖中的實施例對本實用新型作進一步的說明。圖1、圖2中，包括加工平臺10、工件11、擋光板12、前擋光板13、後擋光板14、凹
痕20等。如圖2所示，本實用新型是一種雷射加工的擋光裝置，包括放置工件11的加工平臺10，在加工平臺10上設置有擋光板。本實用新型的改進之處是擋光板有兩層，其包括固定在加工平臺10上的靠近工件11的前擋光板13以及固定在加工平臺10上方的遠離工件11的後擋光板14，後擋光板14與前擋光板13之間設置有高度間隙。設置高度間隙的作用是便於將工件11移出加工平臺10。設工件11上最遠的被加工點離前擋光板13的距離為a，前擋光板13離後擋光板14的距離為b，前擋光板13的高度為h，前擋光板13與後擋光板14之間的高度間隙為 c，那麼，前擋光板13和後擋光板14的高度間隙c必須滿足0 < c < bh/a，才可以起到很好的擋光效果。本實用新型中的加工平臺10最好為移出式平臺。這樣，前擋光板13可以和工件 11 一起移出設備外部，便於工件11的取放。本實用新型的工作原理是當雷射射到工件11表面，在其表面產生凹痕20。雷射在凹痕20處產生漫反射，其中，一部分反射光被前擋光板13擋住，從前擋光板13漏出的另外一部分反射光被後擋光板14擋住，反射光不會溢出，起到了很好的擋光效果。本實用新型採用雙層擋光板對雷射加工的漫反射光進行雙重阻擋，擋光效果好， 並且結構簡單、使用方便、安全實用，可廣泛適用於各種雷射加工設備，保證雷射加工人員的身體健康和安全。
權利要求1.一種雷射加工的擋光裝置，包括放置工件(11)的加工平臺(10)，所述加工平臺(10)上設置有擋光板，其特徵是所述擋光板有兩層，其包括固定在所述加工平臺(10)上的靠近所述工件(11)的前擋光板(13)以及固定在所述加工平臺(10)上方的遠離所述工件(11)的後擋光板(14)，所述後擋光板(14)與所述前擋光板(13)之間設置有高度間隙。
2.按照權利要求1所述的雷射加工的擋光裝置，其特徵是所述工件(11)上被加工點離所述前擋光板(13)的距離為a，所述前擋光板(13)離所述後擋光板(14)的距離為b，所述前擋光板(13)的高度為h，所述前擋光板(13)與所述後擋光板(14)之間的高度間隙為 c，上述各參數之間的關係為0 < c < bh/a。
3.按照權利要求1所述的雷射加工的擋光裝置，其特徵是所述加工平臺(10)為移出式平臺ο
專利摘要本實用新型涉及一種雷射加工的擋光裝置，包括放置工件的加工平臺，所述加工平臺上設置有擋光板，特徵是所述擋光板有兩層，其包括固定在所述加工平臺上的靠近所述工件的前擋光板以及固定在所述加工平臺上方的遠離所述工件的後擋光板，所述後擋光板與所述前擋光板之間設置有高度間隙。本實用新型採用雙層擋光板對雷射加工的漫反射光進行雙重阻擋，擋光效果好，並且結構簡單、使用方便、安全實用，可廣泛適用於各種雷射加工設備，保證雷射加工人員的身體健康和安全。
文檔編號B23K26/42GK202028884SQ20112008501
公開日2011年11月9日 申請日期2011年3月28日 優先權日2011年3月28日
發明者傅小勇, 翟驥, 錢剛祥, 陳力, 黃湘沙 申請人:無錫榮興科技有限公司