一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置的製作方法

2023-05-27 16:11:11

專利名稱：一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種霧化裝置，特別涉及一種用於金屬制粉的帶有哈特曼氣流式超聲 輻射器的氣流霧化噴嘴裝置。
背景技術：
真空霧化制粉是在真空條件下熔鍊金屬或金屬合金，在氣體保護的條件下，金屬 液體經過保溫坩堝、導流嘴流出、通過噴嘴由高壓惰性氣體流將金屬液體霧化破碎成大量 細小的液滴，細細的液滴在飛行中凝固成球形或是亞球形顆粒，由於液滴細小和熱交換條 件好，液滴的冷凝速度一般可達到100 ΙΟΟΟΟΚ/s，比鑄錠的冷卻高几個數量級。因此合金 的成分均勻，組織細小，用它製成的合金材料無宏觀偏析，性能優異。真空霧化制粉可以制 備大多數不能採用在空氣中和水霧化方法製造的金屬及其合金粉末，其次，由於凝固快克 服了偏析現象，可以製取許多特殊合金的球形或亞球形粉末，最後，採用合適的工藝參數， 可以使粉末粒度達到一個額定要求的範圍。幾乎所有可被熔化的金屬都可用霧化法生產， 尤其適宜生產合金粉末。真空霧化制粉法生產效率高，並易於擴大工業規模而受到極其廣 泛的工業應用。真空霧化制粉法是一個眾多參數共同作用的複雜過程，真空霧化粉末的粒度、形 狀和結晶組織和霧化工藝參數如熔體流直徑、噴嘴結構、噴射介質的壓力、流速等緊密相 關。特別是真空霧化的氣流霧化噴嘴結構是最關鍵的技術問題之一。

發明內容
本發明的目的正是為了提供一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴 裝置。該氣流霧化噴嘴裝置能使金屬熔液的噴出霧化更加合理，霧化均勻，霧化制粉速度 快、效率高、冷卻迅速，可連續作業，金屬霧化粉末的粒徑小，產出率高。本發明的目的可通過下述技術措施來實現
本發明的帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置包括噴嘴本體，設置在噴 嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內的輸液管，環繞垂直通孔由內向外依次 設置在噴嘴本體內的哈特曼氣流式超聲輻射器和高壓氣體駐室；所述高壓氣體駐室的一側 通過通孔及連接管路與外置的高壓氬氣或氮氣氣源相連通，另一側通過連氣道與哈特曼氣 流式超聲輻射器相連通；環繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環形腔底面設置有由若干個以均 布排列方式設置的噴嘴孔構成的噴嘴環，所述噴嘴孔均以其軸線與輸液管軸線的下延長線 相交的側斜方式設置，且所述噴嘴孔的軸線與哈特曼氣流式超聲輻射器的環形腔橫截面中 軸線重合。本發明的工作原理及有益效果如下
在進行真空霧化制粉時，高壓氬氣或氮氣之類的氣體通過管路進入高壓氣體駐室，之 後進入連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器，然後從哈特曼氣流式超聲輻射器下端的由若干 個以均布排列方式設置的噴嘴孔構成的噴嘴環高速噴出，高速噴出的氣流集中於從輸液管中流出的金屬液柱上，從而達到使液體進行霧化的目的。這種帶有哈特曼氣流式超聲輻射 器的氣流霧化噴嘴裝置，吹出的高壓氣速度極高，可以使金屬熔液的噴出霧化更加合理，霧 化均勻，霧化制粉速度快、效率高、冷卻迅速，可連續作業，金屬霧化粉末的粒徑小，產出率 高，是十分理想的金屬霧化制粉裝置。


附圖為本發明的結構原理圖。圖中序號1為高壓氬氣或氮氣氣源，2為高壓氣體駐室，3為噴射氣流，4為金屬液 柱，5為哈特曼氣流式超聲輻射器，6為輸液管，7為噴嘴本體。
具體實施例方式
本發明以下將結合實施例(附圖)作進一步描述
如圖所示，本發明的帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置包括噴嘴本體 7，設置在噴嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內的輸液管6，環繞垂直通孔由 內向外依次設置在噴嘴本體內的哈特曼氣流式超聲輻射器5和高壓氣體駐室2 ；所述高壓 氣體駐室2的一側通過通孔及連接管路與外置的高壓氬氣或氮氣氣源1相連通，另一側通 過連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器5相連通；環繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環形腔底 面設置有由若干個以均布排列方式設置的噴嘴孔構成的噴嘴環，且所述噴嘴孔均以其軸線 與輸液管軸線的下延長線相交的側斜方式設置，且所述噴嘴孔的軸線與哈特曼氣流式超聲 輻射器的環形腔橫截面中軸線重合。
權利要求
1. 一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置，其特徵在於所述噴嘴裝 置包括噴嘴本體，設置在噴嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內的輸液管，環 繞垂直通孔由內向外依次設置在噴嘴本體內的哈特曼氣流式超聲輻射器和高壓氣體駐室； 所述高壓氣體駐室的一側通過通孔及連接管路與外置的高壓氬氣或氮氣氣源相連通，另一 側通過連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器相連通；環繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環形腔 底面設置有由若干個以均布排列方式設置的噴嘴孔構成的噴嘴環，且所述噴嘴孔均以其軸 線與輸液管軸線的下延長線相交的側斜方式設置，且所述噴嘴孔的軸線與哈特曼氣流式超 聲輻射器的環形腔橫截面中軸線重合。
全文摘要
一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置，其特徵在於所述噴嘴裝置包括噴嘴本體，設置在噴嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內的輸液管，環繞垂直通孔由內向外依次設置在噴嘴本體內的哈特曼氣流式超聲輻射器和高壓氣體駐室；所述高壓氣體駐室的一側通過通孔及連接管路與高壓氬氣或氮氣氣源相連通，另一側通過連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器相連通；環繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環形腔底面設置有由若干個以均布排列方式設置的噴嘴孔構成的噴嘴環，且所述噴嘴孔均以其軸線與輸液管軸線的下延長線相交的側斜方式設置。
文檔編號B05B17/06GK102120206SQ20111002745
公開日2011年7月13日 申請日期2011年1月26日 優先權日2011年1月26日
發明者南紅豔, 王有超, 王海燕, 米國發, 鄭喜平, 陳立林 申請人:河南理工大學