製造氧化物超導線的方法
2023-06-17 07:00:31 1
>傳輸速度(m/h)1.72.556.6臨界電流密度(MA/cm2)1.091.171.612.07如上所述,由於採用根據本發明的製造氧化物超導線的方法,傳輸速度增加且獲得足夠大的臨界電流密度值,此方法與常規方法相比,在製造具有更長的長度的氧化物超導線中更有效。工業應用本發明可以應用於製造氧化物超導線的方法的技術中。權利要求1.一種製造氧化物超導線的方法,包括在與用於產生氧化物的靶(7)最多100mm的距離(L)的位置設置金屬帶(6)的步驟;和採用氣相澱積法在所述金屬帶(6)上形成氧化物超導層(12)的步驟,同時保持所述金屬帶(6)與所述靶(7)之間最大100mm的距離(L)以最少5m/h的傳輸速度傳輸所述金屬帶(6)。2.根據權利要求1所述的製造氧化物超導線的方法,其中所述氣相澱積方法是脈衝雷射澱積(PLD)方法。3.根據權利要求1所述的製造氧化物超導線的方法,其中所述氧化物超導層(12)是稀土金屬鋇銅基超導氧化物(RE123;RE=稀土元素,Y)。全文摘要一種用於製造氧化物超導線的方法,包括在與用於氧化物製備的靶(7)最多100mm的距離(L)的位置設置金屬帶(6)的步驟;和採用氣相澱積法在所述金屬帶(6)上形成氧化物超導層的步驟,同時保持所述金屬帶(6)與所述靶(7)之間保持最多100mm的距離(L)以5m/h或以上的速度傳輸所述金屬帶(6)。文檔編號H01B13/00GK1823393SQ200480020328公開日2006年8月23日申請日期2004年7月1日優先權日2003年7月16日發明者母倉修司,大松一也,小西昌也,藤野剛三申請人:住友電氣工業株式會社