一種pecvd進氣結構的製作方法

2023-06-19 14:03:31 1

一種pecvd進氣結構的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種PECVD進氣結構，包括設於反應室內的一Y型進氣管，所述Y型進氣管的兩個進氣口穿過反應室底部的前過渡法蘭，分別與反應室外的兩根工藝管道連接，所述三通管的出氣口上設有一噴淋進氣嘴，所述噴淋進氣嘴的開口朝向反應室的頂部設置。本實用新型可以使反應室內的工藝氣體散布均勻，使電池片的鍍膜更加均勻，從而提高電能轉換效率。
【專利說明】—種PECVD進氣結構
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及反應室的均勻進氣方式，尤其涉及一種管式PECVD的噴淋進氣方式。
【背景技術】
[0002]PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition )是等離子體增強化學氣相沉積法，它的工作原理是藉助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，形成等離子體，這些等離子體與基片表面發生化學反應，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。PECVD設備則是這個過程中的關鍵設備。PECVD設備鍍膜的均勻性，對太陽能電池的轉換效率有著嚴重的影響。如圖1所示，目前PECVD設備的進氣結構是:一根直管Al從前過渡法蘭A2底部，直接進入反應室。採用這種結構的進氣方式是將工藝氣體先混合，再通過這根直管進入反應室底部，由於只通過一個入口進入反應室，使得氣體過於集中。並且，工作時，反應室處於真空狀態，工藝氣體從底部直接進入，使得氣體沉積於反應室底部，使得反應室底部的氣體密度高於頂部，導致氣體分布不均勻，生產出來的太陽能電池轉換效率不高。

【發明內容】

[0003]本實用新型為了解決上述現有技術中存在的技術問題，提出了一種PECVD進氣結構，包括設於反應室內的一 Y型進氣管，所述Y型進氣管的兩個進氣口穿過反應室底部的前過渡法蘭，分別與反應室外的兩根工藝管道連接，所述Y型進氣管的出氣口上設有一噴淋進氣嘴，所述噴淋進氣嘴的開口朝向反應室的頂部設置。
[0004]優選的，在Y型進氣管的兩個進氣口之間設有固定板，所述固定板上設有通孔，所述Y型進氣管通過旋緊螺絲固定在前過渡法蘭上。
[0005]本實用新型採用了噴淋進氣方式，使工藝氣體均勻的分布到整個反應室，提高了鍍膜的均勻穩定性。並且採用本實用新型進行PECVD鍍膜的生產試驗，通過多次反覆檢測，得出採用此種進氣方式後，電池片的鍍膜更均勻穩定，生產出的太陽能電池片的轉換率提高了大約2.39%，也極大的提高了太陽能電池片單位面積上的發電產能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1是現有技術的結構示意圖；
[0007]圖2是本實用新型的結構示意圖；
[0008]圖3是本實用新型進氣管的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明。
[0010]如圖2至圖3所示，本實用新型一實施例提出的PECVD進氣結構，採用Y型進氣管BI來進氣，該Y型進氣管設於反應室內，包括兩個進氣口 Cl和一個出氣口 C3，兩個進氣口之間通過一固定板C2相連接，固定片上設有通孔，一旋緊螺絲B3穿過該通孔，將Y型進氣管固定在反應室底部的前過渡法蘭B2上。該Y型進氣管的兩個進氣口 Cl穿過前過渡法蘭B2，分別與反應室外的兩根工藝管道B4連接，Y型進氣管BI的出氣口上再設置一噴淋進氣嘴C4，並且噴淋進氣嘴的開口朝向反應室的頂部設置。
[0011]進氣時，工藝氣體通過工藝管道從前過渡法蘭進入，再通過Y型進氣管BI匯合，最後通過噴淋進氣嘴C4，以風簾的方式噴向反應室的頂部，由於反應室為圓形，通過反應室圓形的頂部，可以將工藝氣體以發散的方式反射回來，通過反覆的反射，形成一道緻密的噴淋網，使得工藝氣體可以均勻擴散至整個反應室，極大的提高了太陽能電池片鍍膜的均勻性，也提高了太陽能電池片的轉換率。
[0012]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，並不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。
【權利要求】
1.一種PECVD進氣結構，包括設於反應室內的一 Y型進氣管，所述Y型進氣管的兩個進氣口穿過反應室底部的前過渡法蘭，分別與反應室外的兩根工藝管道連接，其特徵在於:所述Y型進氣管的出氣口上設有一噴淋進氣嘴，所述噴淋進氣嘴的開口朝向反應室的頂部設置。
2.根據權利要求1所述的PECVD進氣結構，其特徵在於:所述Y型進氣管的兩個進氣口之間設有固定板，所述固定板上設有通孔，所述Y型進氣管通過旋緊螺絲固定在前過渡法蘭上。
【文檔編號】C23C16/455GK203741411SQ201320839740
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2013年12月19日 優先權日:2013年12月19日
【發明者】劉正志 申請人:深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司