用於砂磨的光敏組合物以及含該組合物的光敏膜的製作方法

2023-06-11 19:01:16 3

專利名稱：：用於砂磨的光敏組合物以及含該組合物的光敏膜的製作方法
技術領域：
：本發明涉及一種用於砂磨的新的光敏組合物。更具體地說，本發明涉及一種用於砂磨的光敏組合物，它具有優良的彈性、柔軟性、鹼的顯影性、與基片的粘性、感光度和耐砂磨性，本發明還涉及用於砂磨具有光敏層的光敏膜。已知砂磨是一種在基片(如玻璃、石材、塑料、陶瓷、皮革和木材)表面形成圖案的技術。通過砂磨形成圖案是採用使用模版的方法實施的，在該方法中，將橡膠片、紙等置於基片上並用切割機等切割之，形成模版圖案，隨後用磨料打磨該基片，以選擇性地研磨基片；或者是採用使用光掩模的方法實施的，在該方法中，在基片上形成光敏層，用影印法形成光掩模圖案，隨後用磨料進行打磨以選擇性地研磨基片。第一種方法存在操作麻煩和工作效率低的問題。另一方面，第二種影印方法的工作效率高，能精密地進行加工，能有效地製造帶有金屬圖案和絕緣圖案的線路板，尤其能有效地製造等離子體顯示板的金屬布線圖案或由陶瓷、螢光物質等製成的絕緣圖案。目前提出的用於砂磨的光敏層用光敏組合物包括在端部具有烯鍵不飽和基團的聚氨酯預聚物、單官能的烯鍵不飽和化合物和聚合引發劑的可網印的組合物(參見JP-A-60-10242，本文中術語「JP-A」指「日本未經審查公布的專利申請」)，含有不飽和聚酯、不飽和單體和光致聚合引發劑的組合物(參見JP-A-55-103554)，以及含有聚乙烯醇和重氮樹脂的組合物(參見JP-A-2-69754)。但是，由於這些光敏樹脂組合物是液態的，因此難以操作並且膜的厚度難以控制。在JP-A-6-161098中提出過一種無上述缺點的用於砂磨的光敏組合物，該組合物主要包括在端部具有烯鍵不飽和基團的聚氨酯預聚物，並且其中摻雜纖維素衍生物以及聚合引發劑。儘管提出的組合物具有高的彈性、高柔軟性並具有優良的鹼顯影性，同時在感光度和與基片的粘性方面優於常規的光敏組合物，但是在感光度、與基片的粘性和耐砂磨性方面仍不能令人滿意。因此需要開發一種具有改進特性的砂磨用光敏組合物。本發明的目的是提供一種砂磨用光敏組合物，它具有優良的感光度、與基片的粘性和耐砂磨性，並具有優良的彈性、柔軟性和鹼顯影性。本發明的另一個目的是提供一種光敏膜，它具有包括上述光敏組合物的光敏層。本發明人經不斷研究，考慮到上述JP-A-6-161098所公開的光敏樹脂組合物容易操作並在感光度、與基片的粘性和耐砂磨性方面優於常規的光敏樹脂組合物，認為對該組合物進行改進可能是達到上述目的的捷徑。在該思路下經過進一步研究，發現用特殊的纖維素化合物作為纖維素衍生物可極大地改進感光度、與基片的粘性和耐砂磨性。本發明就是在這個發現的基礎上完成的。本發明涉及一種砂磨用的光敏組合物，它包括(A)至少具有兩個丙烯醯基團和/或甲基丙烯醯基團的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引發劑，和(C)至少一種纖維素衍生物，它選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。本發明還涉及一種砂磨用光敏膜，它具有包括上述光敏組合物的光敏層。本發明砂磨用光敏組合物顯示出優良的感光度、與基片的粘性和耐砂磨性，並具有高的彈性、柔軟性和足夠的鹼顯影性。本發明光敏膜容易定位，適合於精密加工。圖1是本發明光敏膜的剖面示意圖；圖2(a)-(e)說明使用本發明光敏膜製造等離子體顯示板的蝕刻方法的步驟。用作組分(A)的至少具有兩個丙烯醯基團和/或甲基丙烯醯基團的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物(下面稱之為聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物)是(a)由二元醇化合物和二異氰酸酯化合物反應製得的異氰酸酯(-NCO)封端的化合物與(b)具有羥基的(甲基)丙烯酸酯化合物的反應產物。作為組分(A)的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的分子中最好具有不小於4根氨基甲酸酯鍵。如果聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物中氨基甲酸酯鍵的數量小於4，其耐砂磨性會顯著下降。用於製造聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的二元醇化合物包括在端部具有羥基的聚酯和聚醚。所述聚酯包括由內酯開環聚合獲得的化合物，聚碳酸酯，由亞烷基二醇(如乙二醇、丙二醇、二甘醇、三甘醇和二丙二醇)和二元羧酸(如馬來酸、富馬酸、戊二酸和己二酸)縮合獲得的聚酯。內酯的例子有δ-戊內酯、ε-己內酯、β-丙內酯、α-甲基-β-丙內酯、β-甲基-β-丙內酯、α,α-二甲基-β-丙內酯、以及β,β-二甲基-β-丙內酯。所述聚碳酸酯包括由二元醇(如雙酚A、氫醌或二羥基環己烷)與羰基化合物(如碳酸二苯酯、碳醯氯或丁二酸酐)反應獲得的產物。聚醚的例子包括聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇和聚戊二醇。對於聚酯和聚醚，含有2,2-二羥甲基丙酸殘基、2,2-二(2-羥乙基)丙酸殘基或2,2-二(3-羥丙基)丙酸殘基，尤其是2,2-二羥甲基丙酸殘基的這類化合物是較好的，因為它們能使聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物在鹼溶液中具有大的溶解度。聚酯或聚醚可單獨使用或兩種或多種混合使用。與二元醇化合物反應的二異氰酸酯化合物包括脂族或脂環族二異氰酸酯化合物，如二亞甲基二異氰酸酯、三亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、五亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、七亞甲基二異氰酸酯、2,2-二甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯、八亞甲基二異氰酸酯、2,5-二甲基己烷-1,6-二異氰酸酯、2,2,4-三甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯、九亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基己烷二異氰酸酯、十亞甲基二異氰酸酯和異佛爾酮二異氰酸酯。它們可單獨使用或兩種或多種混合使用。與異氰酸酯封端的化合物的異氰酸酯基發生反應的帶有羥基的(甲基)丙烯酸酯化合物包括丙烯酸羥甲酯、甲基丙烯酸羥甲酯、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸3-羥丙酯、甲基丙烯酸3-羥丙酯、單丙烯酸乙二醇酯、單甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、單丙烯酸二季戊四醇酯和單甲基丙烯酸二季戊四醇酯。它們可單獨使用或兩種或多種混合使用。聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的重均分子量較好為1,000-30,000。如果重均分子量小於1,000，那麼光敏組合物的固化膜的粘結力增強，硬度增大，從而降低耐砂磨性。如果重均分子量超過30,000，則光敏組合物的粘度增高，它會使塗覆性能和工作性能下降，形成的固化膜的電阻將會增高。按光敏組合物固體重量計，聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的含量一般為50-90重量％。本發明光敏組合物至少含有一種纖維素衍生物作為組分(C)(下面稱之為纖維素化合物)，該纖維素衍生物選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素和鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。纖維素化合物的酸值宜為50-250mg/KOH，較好為80-200mg/KOH。如果酸值小於50mg/KOH，組合物的顯影性將不足。如果酸值超過250mg/KOH，組合物的柔軟性和防水性將下降。將纖維素化合物和丙烯酸或甲基丙烯酸共聚物組合使用可獲得較好的酸值。與丙烯酸或甲基丙烯酸共聚的適用的共聚單體包括富馬酸、馬來酸、巴豆酸、肉桂酸、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、富馬酸單甲酯、富馬酸單乙酯、富馬酸單丙酯、馬來酸單甲酯、馬來酸單乙酯、馬來酸單丙酯、山梨酸、丙烯酸羥甲酯、甲基丙烯酸羥甲酯、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸2-羥丙酯、甲基丙烯酸2-羥丙酯、單丙烯酸乙二醇酯、單甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、單丙烯酸二季戊四醇酯、單甲基丙烯酸二季戊四醇酯、丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、丙烯腈和甲基丙烯腈。其中較好的是丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯和甲基丙烯酸異丁酯。適當地挑選纖維素化合物能進一步改進光敏組合物的感光度、粘性和耐砂磨性，能使砂磨以更令人滿意的方式進行。按100重量份聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物計，光敏組合物中纖維素化合物的含量較好為10-100重量份。作為組分(B)的光致聚合引發劑包括1-羥基環己基苯基酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基-1-乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-1-丙酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、二苯甲酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基-1-丙酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基-1-丙酮、4-苯甲醯基-4』-甲基二甲硫醚、4-二甲氨基苯甲酸、4-二甲氨基苯甲酸甲酯、4-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸丁酯、4-二甲氨基苯甲酸2-乙基己酯、4-二甲氨基苯甲酸2-異戊酯、2,2-二乙氧基苯乙酮、苄基二甲醛縮苯乙酮、苄基-β-甲氧基乙基乙縮醛、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、二(4-二甲氨基苯基)酮、4,4』-雙二甲氨基二苯甲酮、4,4』-二氯二苯甲酮、苯偶醯、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻異丁醚、苯偶姻丁醚、對二甲氨基苯乙酮、對叔丁基三氯苯乙酮、對叔丁基二氯苯乙酮、噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、二苯並環庚酮(dibenzosuberone)、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮和4-二甲氨基苯甲酸戊酯。這些引發劑可單獨使用或兩種或多種混合使用。按100重量份光敏組合物的固體含量計，光致聚合引發劑的用量為0.1-20重量份。如有必要，光敏組合物中還可含有可光致聚合的單體，以進一步改進感光度，並防止顯影時固化膜的厚度下降或溶脹。適用的可光致聚合的單體包括單官能的單體，如丙烯酸、甲基丙烯酸、富馬酸、馬來酸、富馬酸單甲酯、富馬酸單乙酯、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、乙二醇單甲醚丙烯酸酯和乙二醇單甲醚甲基丙烯酸酯；以及多官能單體，如三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯和二季戊四醇五丙烯酸酯。它們可單獨使用或兩種或多種混合使用。按100重量份聚氨酯(甲基)丙烯酸化合物計，可光致聚合單體的適宜的用量不超過20重量份。如果用量超過20重量份，光敏組合物的幹膜會冷流，並且用紫外光固化的光敏組合物膜彈性下降，耐砂磨性變差。可將本發明光敏組合物溶解在溶劑中使用。適用的溶劑的說明性例子包括乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、乙酸2-甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸4-甲氧基丁酯、乙酸2-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-乙基-3-甲氧基丁酯、乙酸2-乙氧基丁酯和乙酸4-乙氧基丁酯。光敏組合物還可任選地含有染料、阻聚劑、控制電阻的導電物質(如碳粒和金屬顆粒)、以及陰離子，陽離子或兩性表面活性劑。根據用途可將砂磨用光敏組合物以液態塗布在基片上，或者網印在基片上。在需要精密加工的領域(如製造電子部件)中，最好用光敏膜的形式使用所述組合物，該光敏膜是將組合物塗布在撓性膜基片上，隨後乾燥而形成的。使用這種光敏膜能高精度定位地實施研磨加工。砂磨用光敏膜的一個例子示於圖1。圖1的光敏膜由撓性膜1、含有本發明光敏組合物的光敏層2和剝離膜3組成。撓性膜1是支承砂磨用光敏層的基片，它的厚度較好為15-125微米。該撓性膜包括合成樹脂(如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯等)的膜。聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜由於其撓性而是較好的。光敏層2較好是用塗布機、刮條塗覆機、輥塗機、簾流塗覆機等將光敏樹脂組合物在溶劑中的溶液塗覆在撓性膜1上至塗層的幹厚度達到10-100微米而製得。剝離膜3是對使用前的光敏層2實施穩定保護的膜層，它具有適中的剝離性能，以便在使用前不會脫落但使用時容易剝離。厚度為15-125微米、上面塗布矽氧烷或再經烘烤的PET膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜等是較好的剝離膜。可在撓性膜和光敏層之間施加水溶性樹脂層，以防止光敏層受氧影響而不易感光，並防止在將掩模圖案與光敏層接觸用於曝光時掩模圖案粘附在光敏層上。水溶性樹脂層最好如下製得將5-20重量％水溶性聚合物(如聚乙烯醇或部分皂化的聚醋酸乙烯酯)的水溶液塗布在撓性膜上至塗層的幹厚度為1-10微米，隨後進行乾燥。水溶性聚合物的水溶液較好含有乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等以改進撓性和剝離性能。在製備水溶性聚合物的水溶液時，加入甲醇、乙二醇單甲醚、丙酮或水性消泡劑可改進粘度、消泡沫性能等。使用本發明光敏膜的常用方法示於製備等離子體顯示板的圖2(a)-(e)。如圖2(a)所示，剝離膜3已從光敏膜上被剝去，露出的光敏層2最好通過熱壓與含有絕緣層4、導電圖案5和支承體6的基片緊密接觸。熱壓是通過預熱基片，將幹膜置於基片上並壓制而成的。隨後除去撓性膜1。如圖2(b)所示，將具有規定掩模圖案的掩模7與露出的光敏層2接觸，用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、弧光等、氙燈等的紫外光透過掩模輻照該膜。受激雷射、X-射線和電子束也像紫外光一樣適用。輻照後，除去掩模7並進行顯影。為進行顯影，可使用通用的鹼性顯影劑。可用於鹼性顯影劑中的鹼包括鹼金屬(如鋰、鈉和鉀)的氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽、磷酸鹽或焦磷酸鹽；伯胺，如苯甲胺和丁胺；仲胺，如二甲胺、二苄胺和二乙醇胺；叔胺，如三甲胺、三乙胺和三乙醇胺；環胺，如嗎啉、哌嗪和吡啶；多胺，如乙二胺和六亞甲基二胺；氫氧化銨化合物，如氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、氫氧化三甲基苄基銨和氫氧化三甲基苯基苄基胺；氫氧化鋶化合物，如氫氧化三甲基鋶、氫氧化二乙基甲基鋶和氫氧化二甲基苄基鋶；膽鹼和含矽酸鹽的緩衝溶液。通過顯影，光敏層2的未受照部分被除去，如圖2(c)所示僅留下光敏層的受照部分(固化樹脂層9)。顯影后，通過砂磨蝕刻絕緣層4，如圖2(d)所示形成與固化樹脂層9相一致的圖案。適用於砂磨的磨粒包括粒徑為2-500微米玻璃小球或無機顆粒(如SiC、SiO2、Al2O3或ZrO)。用鹼水溶液(通常使用無機或有機鹼溶液)溶解除去基片上殘留的固化樹脂層9，如圖2(e)所示在基片表面上形成蝕刻的圖案。下面將參照實施例更詳細地描述本發明，但應理解本發明不受這些實施例的限制。除非另有說明，所有的百分數和份均是以重量計算的。實施例1將20份具有丙烯酸(acrylic)端基的含羰基的聚氨酯丙烯酸酯(UV-9532EA,NipponSyntheticChemicalIndustryCo.,Ltd制，重均分子量(Mw)24,000；酸值27；含30％乙酸乙酯作為溶劑)、30份含羰基的聚氨酯丙烯酸酯(SR-6138AE,DaicelChemicalIndustries,Ltd.；Mw:10,000；含20％乙酸乙酯作為溶劑)和60份鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素(HPMCAP,Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd制)的25％甲乙酮溶液混合在一起。在該混合物中進一步混入1份2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、0.005份N-亞硝基苯基羥胺鋁鹽、0.1份孔雀綠(HodogayaChemicalCo.,Ltd制)和20份甲乙酮並攪拌，製得用於砂磨的光敏組合物。使用塗布機將生成的光敏組合物塗覆在20微米厚的PRT膜上，乾燥後形成幹厚度為30微米的光敏層。使用橡膠輥將20微米厚的聚乙烯膜粘合在所述光敏層上，注意避免留下氣泡，形成光敏膜。將聚乙烯膜從光敏膜上剝去，用橡膠輥將露出的光敏層層壓在預熱至80℃的玻璃基片上。剝去PET膜，將線條寬度為50、45、40、35、30、25、20、15和10微米的試驗圖案掩模與該露出的光敏層緊密接觸。將光敏層置於超高壓汞燈發出的能量為200mJ/cm2的紫外光下。將溫度保持在30℃的0.2％碳酸鈉水溶液以1.5kg/cm2的噴射壓力噴射30秒以形成圖案。如此形成的最小線條寬度為30微米，這表示圖案層與基片的粘性。用Stouffer21-級片劑(21-steptablet)(StoufferGraphicArtsEquipmentCo.)測得的感光度為6-級。如下評價圖案的耐砂磨性從光敏膜上剝去聚乙烯膜，用橡膠滾筒將露出的光敏層層壓在預熱至80℃的玻璃基片上。除去PET膜，將露出的光敏層的整個表面置於照射能量為200mJ/cm2的光線下進行照射，並用距其80mm噴砂壓力為2kg/cm2的噴砂嘴噴出的玻璃小球#800(S4#800,FuiiSeisakusyo制)對其進行砂磨。磨料研磨而使固化樹脂層消失所需的時間為100秒。實施例2用相同於實施例1的方法製得砂磨用光敏膜，但是用鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素(HPMCP,Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.制)的25％甲乙酮溶液代替鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素的25％甲乙酮溶液。用實施例1相同方法測得的粘性、感光度和耐砂磨性分別為30微米、5.5-級和100秒。比較例1用相同於實施例1的方法製得砂磨用光敏膜，但是用鄰苯二甲酸乙酸纖維素(KC-71,WakoPureChemicalIndustries,Ltd制)的25％甲乙酮溶液代替鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素的25％甲乙酮溶液。用實施例1相同方法測得的粘性、感光度和耐砂磨性分別為45微米、4-級和70秒。本發明砂磨用光敏組合物顯示出優良的感光度、與基片的粘性和耐砂磨性以及高的彈性、柔軟性和足夠的鹼顯影性。另外，含層壓的光敏組合物的光敏膜容易定位，適用於電子部件的精密加工。儘管結合具體的實施例對本發明進行了詳細描述，但是顯然本領域的普通技術人員可對它們進行各種變化和改進而不偏離本發明的精神和範圍。權利要求1．一種砂磨用的光敏組合物，它包括(A)至少具有兩個丙烯醯基團和/或甲基丙烯醯基團的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引發劑，和(C)至少一種纖維素衍生物，它選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。2．如權利要求1所述的光敏組合物，其特徵在於所述纖維素衍生物選自鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素中的至少一種。3．如權利要求1所述的光敏組合物，其特徵在於按100重量份至少具有兩個丙烯醯基團和/或甲基丙烯醯基團的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物計，所述至少一種纖維素衍生物的含量為10-100重量份。4．如權利要求1所述的光敏組合物，其特徵在於所述纖維素衍生物的酸值為50-250mg/KOH。5．一種砂磨用的光敏膜，它包括上面依次為砂磨用的光敏層和剝離膜的撓性膜，其中所述光敏層包括(A)至少具有兩個丙烯醯基團和/或甲基丙烯醯基團的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引發劑，和(C)至少一種纖維素衍生物，它選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。全文摘要公開了一種砂磨用的光敏組合物和具有包括該組合物的光敏層的光敏膜。所述光敏組合物包括至少具有兩個丙烯醯基團和/或甲基丙烯醯基團的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,光致聚合引發劑,和選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素的至少一種纖維素衍生物。該組合物顯示出優良的與基片粘性、高感光度和高耐砂磨性。文檔編號H01J11/34GK1220415SQ9812340公開日1999年6月23日申請日期1998年10月14日優先權日1997年10月14日發明者水澤龍馬,中裡俊二,帶谷洋之申請人:東京応化工業株式會社